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通過(guò)等離子體刻蝕法形成金屬柵極的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3361189

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本發(fā)明涉及一種金屬柵電極的干法刻蝕方法,具體地說(shuō),涉及一種通過(guò)等離子體 刻蝕法形成金屬柵極的方法。背景技術(shù)隨著集成電路制造工藝的發(fā)展,對(duì)于半導(dǎo)體器件的集成密度的要求日益增高。硅 片制造技術(shù)的改變受到用戶需求的驅(qū)使。用戶要求更快、更可靠和成本更低的芯片,這驅(qū)使 芯片制造商不斷地降低單塊芯片上的元件的尺寸,以提高芯片速度并減少功耗。另一方面, 又需要增加單個(gè)硅片上的芯片數(shù)以降低成本。人們發(fā)現(xiàn),為了實(shí)現(xiàn)32nm邏輯工藝,需要使用高介電常數(shù)(κ )材料來(lái)替代二氧化...
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