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技術(shù)編號：3353875

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本發(fā)明涉及一種坩堝及使用該坩堝的真空蒸鍍系統(tǒng)。 背景技術(shù)真空蒸鍍是在真空室中，加熱坩堝中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表 面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到待鍍膜底板表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。以電子槍蒸鍍配合離子助鍍法(Ion Assistance Deposition, IAD)的制程中，是 以電子槍轟擊膜料蒸發(fā)至待鍍膜底板上成膜。而放入坩堝中的膜料可以區(qū)分為塊狀和顆粒 狀，而塊狀膜料相對于顆粒狀膜料價格昂貴，且受限于坩堝的形狀，必需重新設(shè)計塊狀膜...
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