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單面研磨拋光機(jī)用冷卻裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3268183

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本實(shí)用新型涉及冷卻裝置領(lǐng)域,特別涉及一種單面研磨拋光機(jī)用冷卻裝置。背景技術(shù)加工藍(lán)寶石晶片或硅片的拋光制程,一般包括腐蝕、光亮和過(guò)腐蝕三個(gè)階段,隨著溫度不斷升高,將使得拋光過(guò)程比較難控制,更難利用時(shí)間來(lái)控制拋光晶片處于光亮階段,很容易過(guò)腐蝕,造成藍(lán)寶石晶片或硅片損壞甚至報(bào)廢。藍(lán)寶石晶片或硅片進(jìn)行拋光制程中,一般對(duì)拋光盤的溫度控制要求在25°C左右為佳,溫度若控制過(guò)高時(shí),容易對(duì)拋光藍(lán)寶石晶片或硅片產(chǎn)生過(guò)腐蝕現(xiàn)象,影響加工晶片表面質(zhì)量和加工精度。所以,在拋光制程...
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