技術(shù)編號(hào):3268183
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及冷卻裝置領(lǐng)域,特別涉及一種單面研磨拋光機(jī)用冷卻裝置。背景技術(shù)加工藍(lán)寶石晶片或硅片的拋光制程,一般包括腐蝕、光亮和過(guò)腐蝕三個(gè)階段,隨著溫度不斷升高,將使得拋光過(guò)程比較難控制,更難利用時(shí)間來(lái)控制拋光晶片處于光亮階段,很容易過(guò)腐蝕,造成藍(lán)寶石晶片或硅片損壞甚至報(bào)廢。藍(lán)寶石晶片或硅片進(jìn)行拋光制程中,一般對(duì)拋光盤的溫度控制要求在25°C左右為佳,溫度若控制過(guò)高時(shí),容易對(duì)拋光藍(lán)寶石晶片或硅片產(chǎn)生過(guò)腐蝕現(xiàn)象,影響加工晶片表面質(zhì)量和加工精度。所以,在拋光制程...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。