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技術(shù)編號(hào)：3250039

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造過(guò)程中采用的平坦化研磨法和半導(dǎo)體裝置的制 造方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體裝置即所謂的半導(dǎo)體集成電路的制造過(guò)程中，在形成淺溝隔 離(shallow trench isolation)(STI)區(qū)作為半導(dǎo)體集成電路元件隔離區(qū)的步驟 中，廣泛采用化學(xué)機(jī)械研磨(chemical mechanical polishing)(CMP)技術(shù)作為表 面平坦化技術(shù)。通常，以圖6所示的方式形成半導(dǎo)體裝置中的STI區(qū)。首先，如圖6A所示，在硅半導(dǎo)體基板1的表面上沉...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。

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