技術(shù)編號(hào):2800242
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及微電子領(lǐng)域,尤其涉及一種提供浸沒(méi)式光刻機(jī)掃描路徑的工作結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體的快速發(fā)展,55nm制程及以下工藝,業(yè)界均勻采用浸沒(méi)式(i_ersion)光刻機(jī)。由于i_ersion光刻機(jī)在曝光時(shí)會(huì)用純水以提高分辨率,而使用純水曝光時(shí)會(huì)引入更多的粒子(particles),其來(lái)源主要在娃片邊緣時(shí)娃片背面的particles。這是由于曝光時(shí)的particles來(lái)源主要是曝光在硅片邊緣時(shí)引入的,曝光時(shí)引入的particle主要是曝光到娃片的邊緣(w...
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- 楊老師:物理電子學(xué)