技術(shù)編號(hào)：2785637
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新型的光刻用形成下層膜組合物、由該組合物形成的下層膜、以及使用了該下層膜的光致抗蝕劑圖形的形成方法。此外，本發(fā)明還涉及光刻用下層膜、用于形成該下層膜的形成下層膜的組合物以及該下層膜的形成方法，所述光刻用下層膜可用作在半導(dǎo)體器件制造的光蝕刻工序中減少曝光照射光從半導(dǎo)體M向涂布在半導(dǎo)體基板上的光致抗蝕劑層的反射的下層防>^射膜、用于將具有凹凸的半導(dǎo)體基板平坦化的平坦化膜、能夠在加熱烘烤等中用作防止由于產(chǎn)生于半導(dǎo)體141的物質(zhì)所導(dǎo)致的光致抗蝕劑層...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。