技術(shù)編號(hào)：2762352
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻膠去除劑組合物，該光刻膠去除劑組合物能夠在短時(shí)間內(nèi)有效地去除在用于微電路圖形化和集成的干法蝕刻、灰化和離子注入過程中硬化的光刻膠膜，以及由在上述工藝過程中蝕刻出的金屬副產(chǎn)物所改性的光刻膠膜，同時(shí)使光刻膠膜下面的金屬布線的腐蝕最小化。 在本發(fā)明的光刻膠去除劑組合物中，銨鹽在水中離解，以離子形式滲透進(jìn)改性的光刻膠，并且去除在干法蝕刻過程中滲透進(jìn)光刻膠的摻雜離子。 優(yōu)選地，用于本發(fā)明的銨鹽為選自由硝酸銨、甲酸銨、碳酸銨、醋酸銨、硫氰酸銨、硫酸銨...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。