技術(shù)編號(hào):2744873
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻工藝領(lǐng)域,特別涉及。 背景技術(shù)通常,在曝光工藝中使用的用于形成光刻圖形的曝光掩膜版是通過(guò)在石英襯底上 涂覆鉻層或者鋁層作為遮光層,然后利用離子束刻蝕遮光層以形成相應(yīng)的遮光圖形而得 到。掩膜版的作用是有選擇地遮擋照射到基片表面光刻膠膜上的光(例如紫外線、電子束、 X射線等),以便形成光刻膠圖案。掩膜版的質(zhì)量將直接影響所形成的光刻膠圖案的質(zhì)量, 從而影響器件的性能和成品率。對(duì)于石英掩膜版而言,如果不透光的鉻留在透光區(qū),就會(huì)使 得那些原本應(yīng)該...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。