技術(shù)編號(hào)：2739220
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及帶有散射條的掩模版組合及光刻 方法。背景技術(shù)光刻技術(shù)是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一。降低集成電路的線寬在很 大程度上依賴于提高光刻的精度，從而可以在半導(dǎo)體襯底上制作更精密的圖 形。在光刻工藝進(jìn)入深亞微米甚至更精細(xì)的尺度的情況下，在將圖形從光刻版 通過(guò)曝光的方法轉(zhuǎn)移到襯底上時(shí)，在靠近掩模圖形邊緣的部分，由于受到光的衍射現(xiàn)象影響會(huì)產(chǎn)生條紋。如附圖1所示，掩模版101表面包括掩模圖形102， 通過(guò)曝光的方法將掩模圖形102轉(zhuǎn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。