技術(shù)編號：2732551
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 本發(fā)明涉及一種，特別是一種提高投影光刻機中的調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)測量精度的方法。 背景技術(shù) 由于硅片表面具有起伏，在投影光刻機中需要調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)測量硅片上表面的高度與傾斜信息。調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)是光刻機的重要分系統(tǒng)之一，它負責(zé)測量硅片的表面位置信息，以便和夾持硅片的工件臺系統(tǒng)一起使硅片的被曝光區(qū)域一直處于光刻機物鏡系統(tǒng)的焦深之內(nèi)，而使掩模板上的圖形理想地轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著投影光刻機的分辨率不斷提高焦深不斷減小，對光刻機調(diào)焦調(diào)平分系統(tǒng)的測量精度的要求也越來越高。...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。