技術(shù)編號：2727527
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種用于掩膜版的保護 膜及其支架.背景技術(shù)光刻掩膜版(Mask),也稱為掩模版或者光罩，是一種對于曝光光 線具有透光性的平板，其上具有對于曝光光線具有遮光性的至少一個幾 何圖形，可實現(xiàn)有選擇地遮擋照射到晶片表面光刻膠上的光線，以便在 晶片表面的光刻膠上形成圖案。掩膜版的質(zhì)量會直接影響所形成的光刻 膠圖案的質(zhì)量，如果掩膜版被玷污，附有了異物，則該異物的圖形也會 轉(zhuǎn)移至晶片上，從而影響晶片上器件的性能和成品率，因此，對掩膜版 的質(zhì)...
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