技術編號：2696133
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供了用于確定將光刻掩模的定相區(qū)制造得多么厚或多么深的技術。一個示例性實施例提供了一種方法，其包括提供包括第一測試集的第一掩模布局設計，并提供包括第二測試集的第二掩模布局設計，其中第二測試集大于第一測試集；針對一系列相位深度/厚度模擬在第一測試集中的感興趣結構的關鍵尺寸離焦，并基于模擬的結果來選擇初始優(yōu)選掩模相位深度/厚度；以及產生在初始優(yōu)選相位深度/厚度下的快速厚掩模模型(FTM)，并使用FTM校正第二掩模布局設計的第二測試集，從而提供優(yōu)化掩模布局...
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