技術(shù)編號：2683954
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及超高真空設(shè)備，特別是一種適用于超高真空系統(tǒng)的超高真空通光窗背景技術(shù)在磁光阱超高真空系統(tǒng)中，要求窗口具有較高的透過率，以獲得較高的冷卻功率， 因此要求超高真空窗口鍍增透膜。而市場上銷售的超高真空窗口通常不鍍膜，但是對成品窗口鍍膜工藝復(fù)雜、質(zhì)量難以達(dá)到要求且鍍膜成本高、靈活性不強(qiáng)。而將玻璃基片鍍好膜后用銦封制作的超高真空窗口，由于銦的熔點(diǎn)較低，使得裝有超高真空窗口的真空系統(tǒng)不能高溫烘烤，整個真空系統(tǒng)的真空度難以達(dá)到要求，且銦封窗口存在制作工藝復(fù)雜，成...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。