技術(shù)編號：2012846
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種，特別適用于 采用具有光固化特性的材料以及無規(guī)共聚物構(gòu)建同時具有微米納米結(jié)構(gòu)的復(fù)合 圖形，屬于微納米材料制備。 背景技術(shù)微米、納米圖形的制備作為一種重要的技術(shù)，因其在集成線路板、信息貯 存裝置、生物芯片和微機電系統(tǒng)中的廣泛應(yīng)用，越來越受到研究者的重視。為 了尋找一套簡單、有效的制備微納米級圖形的途徑，各國研究者開發(fā)出多種方 法如激光光致化學(xué)沉積(LCVD)、微接觸印刷(！iCP)、光刻和自組裝。在所有這些方法中，光刻技術(shù)是唯一應(yīng)用電子工業(yè)生產(chǎn)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。