技術(shù)編號：12759103
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種真空鍍膜機的物件放置臺。背景技術(shù)在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。在鍍膜的過程當(dāng)中，將鍍膜器材放置在鍍膜室內(nèi)進行鍍膜的過程中，往往沒有注意到放置臺的機動性，導(dǎo)致鍍膜后的器材產(chǎn)生鍍膜不均勻的情況，而且傳統(tǒng)的鍍膜放置臺設(shè)計上很不合理，對鍍膜器材的保護不到位，智能化程度低，于是，我們...
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