技術(shù)編號(hào)：12033816
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻機(jī)領(lǐng)域，特別涉及光刻機(jī)系統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)臺(tái)直線電機(jī)定子自動(dòng)復(fù)位裝置和方法。背景技術(shù)光刻是半導(dǎo)體制造過程中一道非常重要的工序，它是將一系列掩模版上的芯片圖形通過曝光依次轉(zhuǎn)移到硅片相應(yīng)層上的工藝過程，被認(rèn)為是大規(guī)模集成電路制造中的核心步驟。半導(dǎo)體制造中一系列復(fù)雜而耗時(shí)的光刻工藝主要由相應(yīng)的光刻機(jī)來(lái)完成。請(qǐng)參照?qǐng)D1，光刻機(jī)主體部分中用于承載掩模版的掩模臺(tái)60和工作臺(tái)40、以及投影物鏡50共同放置在內(nèi)部框架30之上，并通過減振器20隔離來(lái)自地基10的振動(dòng)。光刻機(jī)中的工作臺(tái)40主要為承載硅片、...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。