技術(shù)編號：11706850
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光電技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種黃光制程光刻機(jī)零部件正光阻再生方法。背景技術(shù)微影技術(shù)是將光罩上的圖案先轉(zhuǎn)移到PR上，再以溶劑浸泡將PR受光照射到的部分加以溶解或保留，形成和光罩完全相同或互補(bǔ)的光阻圖；黃光使用的技術(shù)為微影技術(shù)，黃光制程是指微影制程的環(huán)境照明光源采用的是黃光，黃光制程線路精準(zhǔn)度水平高；光刻機(jī)(MaskAligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等；光杯是光刻機(jī)的核心部件，在光刻顯影后如出現(xiàn)缺陷異常需要將光阻層清洗去除后重新光刻；光阻分正光阻和負(fù)光阻，在光刻技術(shù)領(lǐng)域正...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。