一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法與流程

文檔序號：11706850閱讀：1467來源：國知局

本發(fā)明涉及光電技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法。

背景技術(shù)：

微影技術(shù)是將光罩上的圖案先轉(zhuǎn)移到pr上，再以溶劑浸泡將pr受光照射到的部分加以溶解或保留，形成和光罩完全相同或互補的光阻圖；黃光使用的技術(shù)為微影技術(shù)，黃光制程是指微影制程的環(huán)境照明光源采用的是黃光，黃光制程線路精準度水平高；光刻機(maskaligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等；光杯是光刻機的核心部件，在光刻顯影后如出現(xiàn)缺陷異常需要將光阻層清洗去除后重新光刻；光阻分正光阻和負光阻，在光刻技術(shù)領(lǐng)域正光阻占主要地位，現(xiàn)有技術(shù)中大都采用堿性溶劑進行固化的或液態(tài)的正光阻的去除，這種堿溶劑配方的清洗劑存在著清洗效果不好，同時會對零部件造成老化和腐蝕；或者使用專門的清洗設(shè)備，生產(chǎn)成本高。因此，急需一種對光刻機光杯固化的或液態(tài)的正光阻進行清洗去除，從而使得光杯能夠再生使用的再生方法，能夠大大的降低使用成本，提高了光刻機的使用壽命和使用效果；使用有機溶劑進行清洗，毒性小近乎無毒，對環(huán)境友好，成本低，清洗效果較好，同時不會對光杯造成老化和腐蝕；清洗方法簡單，大大提高了生產(chǎn)效率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明的目的：為了克服背景技術(shù)的不足，本發(fā)明公開了一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法，能夠大大的降低使用成本，提高了光刻機的使用壽命和使用效果；正光阻制程采用act-8，使用酮有機溶劑系進行清洗，毒性小近乎無毒，對環(huán)境友好，成本低，清洗效果較好，同時不會對光杯造成老化和腐蝕；清洗方法簡單。

技術(shù)方案：為了實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明公開了一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法，包括以下步驟：

1)浸泡清洗液的選擇和配制：浸泡清洗液的選擇為酮類有機溶劑系，所述的酮類有機溶劑系為三種酮有機溶劑按照比例復配而成的復配液，所述的三種酮有機溶劑包括酮有機溶劑a、酮有機溶劑b和酮有機溶劑c；

2)浸洗：將步驟1)配制好的浸泡清洗液倒入浸缸中，再將待清洗再生的零部件浸入到浸泡清洗液中，溶解掉大部分的固化或液態(tài)的正光阻；

3)漂洗：將浸泡好后的零部件用溶劑進行漂洗清除干凈零部件各邊、角的殘留正光阻和浸泡清洗液，以便零部件的再生使用；

4)水洗：將漂洗后的零部件用超純水水洗去除零部件殘留的浸泡清洗液和漂洗溶劑；

5)干燥：將水洗后的零部件置于超凈干燥設(shè)備中進行干燥。

另，所述步驟1)中的三種酮有機溶劑的復配體積比為酮有機溶劑a：酮有機溶劑b：酮有機溶劑c＝2:1:1。

另有，所述的步驟1)中的三種酮有機溶劑，其中酮有機溶劑a為丙酮；所述的酮有機溶劑b為2-丙烯基環(huán)己酮；所述的酮有機溶劑c為4-丙烯氧基-2-羥基二苯甲酮。

還，所述的步驟1)中的三種酮有機溶劑，其中酮有機溶劑a為甲戊酮；所述的酮有機溶劑b為4-甲酸乙酯環(huán)己酮；所述的酮有機溶劑c為4-丙烯氧基-2-羥基二苯甲酮。

再，所述步驟2)中的浸泡時間為1.5h-2.5h，優(yōu)選為2h。浸泡時間的選擇經(jīng)過長期的試驗，時間太短，浸泡后正光阻層溶解不夠，還殘留大量的正光阻層；浸泡時間超過2h后正光阻層的溶解度達到最低，溶解速率低，浸泡時間太長也不利于后面的零部件漂洗和水洗工序；綜合考慮，采用2h最合適。

再有，所述步驟3)中漂洗用的溶劑為丙酮溶劑，漂洗時間為8-15min，優(yōu)選為10min。丙酮的揮發(fā)速率極快的強溶劑，非常常規(guī)而且成本低，大大提高了漂洗能力、漂洗效果；漂洗時間短，生產(chǎn)效率高；節(jié)約時間成本。

此外，所述步驟4)中超純水水洗時間為25-35min，優(yōu)選為30min。超純水的選擇確保不會帶入其他雜質(zhì)，而且不會在零部件表面留下水珠，不會影響后面的使用效果；水洗時間的選擇決定了水洗零部件是否徹底，時間太短水洗不完全，仍然后殘液殘留；水洗時間太長，不利于控制生產(chǎn)成本。

此外還，所述的步驟5)中干燥溫度為55-65℃，時間為1.5h-2.5h，優(yōu)選溫度為60℃，時間為2h。溫度太低，時間太短都會造成零部件表面的脫水不足，同時也延長了生產(chǎn)周期，降低了生產(chǎn)效率，不利于企業(yè)的生產(chǎn)需求；溫度太高容易引起零部件表面的分解和老化，時間太長也易于造成零部件的老化。

此外還有，本發(fā)明所述的黃光制程光刻機零部件正光阻制程采用的設(shè)備是telcleantrackact-8，廠家：tel(tokyoelectronlimited)型號：cleantrackact-8。

上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明具有如下有益效果：本發(fā)明所述的一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法，相比現(xiàn)有技術(shù)，具有以下優(yōu)點：采用常規(guī)的毒性小近乎無毒的酮有機溶劑系，利用相似相溶原理對黃光制程光刻機零部件正光阻進行清洗去除以便再生使用，三種不同種類的酮有機溶劑按照科學合理的比例進行復配，大大提高了復配溶劑的溶解力和蒸發(fā)速率，清洗效果好，清洗液成本低，對環(huán)境友好，同時酮有機溶劑具有還原性，可以很好的抑制零部件表面的腐蝕和老化，很好的保護零部件不會造成其腐蝕和老化，保證了零部件的再生使用效果，不會對零部件的使用產(chǎn)生影響；使用本發(fā)明的浸泡清洗液和再生方法再生黃光制程光刻機零部件正光阻再生次數(shù)可達100次。

具體實施方式

下面結(jié)合表1，對本發(fā)明具體實施方式進行詳細的描述。

表1為實施例1-6的一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法各步驟條件參數(shù)。

表1實施例所述的各步驟試劑和參數(shù)條件

本發(fā)明所述的黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法，浸泡時間最優(yōu)為2h，漂洗液為丙酮，漂洗時間最優(yōu)為10min，水洗時間最優(yōu)為30min，超凈干燥溫度最優(yōu)為60℃，時間為2h。

實施例1-6所述的一種黃光制程光刻機零部件正光阻再生方法，包括以下步驟：

1)浸泡清洗液的選擇和配制：浸泡清洗液的選擇為酮類有機溶劑系，所述的酮類有機溶劑系為三種酮有機溶劑按照比例復配而成的復配液，所述的三種酮有機溶劑包括酮有機溶劑a、酮有機溶劑b和酮有機溶劑c，所述的三種酮有機溶劑的體積比為酮有機溶劑a：酮有機溶劑b：酮有機溶劑c＝2:1:1；

2)浸洗：將步驟1)配制好的浸泡清洗液倒入浸缸中，再將待清洗再生的零部件浸入到浸泡清洗液中，溶解掉大部分的固化或液態(tài)的正光阻；

3)漂洗：將浸泡好后的零部件用溶劑進行漂洗清除干凈零部件各邊、角的殘留正光阻和浸泡清洗液，以便零部件的再生使用；

4)水洗：將漂洗后的零部件用超純水水洗去除零部件殘留的浸泡清洗液和漂洗溶劑；

5)干燥：將水洗后的零部件置于超凈干燥設(shè)備中進行干燥。

所述的再生方法中黃光制程光刻機零部件正光阻的制程使用的設(shè)備是telcleantrackact-8，廠家：tel(tokyoelectronlimited)型號：cleantrackact-8。