技術(shù)編號：11289458
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于對半導(dǎo)體基板的外周部進行曝光的周邊曝光裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體設(shè)備的制造工序中，通常對半導(dǎo)體基板實施多次光刻工序。在光刻工序中，形成用于對半導(dǎo)體基板之上的特定部位進行蝕刻或進行離子注入的掩模圖案。該掩模圖案是采用例如抗蝕劑等感光性材料而形成的。感光性材料通常通過旋轉(zhuǎn)涂敷法而涂敷于半導(dǎo)體基板之上。關(guān)于旋轉(zhuǎn)涂敷法，例如在旋轉(zhuǎn)的半導(dǎo)體基板的中心之上滴下涂敷材料，通過離心力使涂敷材料進行涂敷展開。因此，在半導(dǎo)體基板的外周部也被涂敷了涂敷材料。此時，在半導(dǎo)體基板的外周部形成有斜面部(進行了...
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