技術(shù)編號(hào)：11147021
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于機(jī)械領(lǐng)域，一種金屬薄膜的工藝。背景技術(shù)由于金屬薄膜具有良好的光學(xué)、聲學(xué)和電學(xué)特征，使其在機(jī)械、電子行業(yè)起到日益重要的作用。人們已經(jīng)采用化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注人和離子鍍等方法制備了不同材質(zhì)的納米金屬薄膜。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,為了解決上述問題，本發(fā)明提出了一種金屬薄膜的工藝，可以耐磨性能，提高使用壽命。本發(fā)明的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，發(fā)明一種金屬薄膜的工藝，其特征是：沉積薄膜的裝置,基片為玻璃，NaCl單晶，濺射本底真空一般定義在5×10-...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。