技術(shù)編號(hào)：10018180
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在WET etching (濕式蝕刻)進(jìn)行蝕刻時(shí)，去光阻時(shí)會(huì)使用噴灑頭進(jìn)行定量噴灑并連動(dòng)機(jī)臺(tái)左右搖擺以達(dá)成蝕刻的需求。但是這種蝕刻藥液噴灑結(jié)構(gòu)，一直存在因噴灑頭進(jìn)行噴灑時(shí)水霧重疊問題，如圖1所示，水霧重疊處因流動(dòng)性不佳容易導(dǎo)致蝕刻不均的現(xiàn)象，且因一單一機(jī)臺(tái)噴灑頭數(shù)量很多(一機(jī)臺(tái)有三個(gè)蝕刻槽，每個(gè)蝕刻槽有54個(gè)噴灑頭，一臺(tái)機(jī)臺(tái)總共噴灑頭數(shù)量就有162個(gè))，為了確保噴灑頭噴灑狀況正常不堵塞，需花費(fèi)更多的人力進(jìn)行維護(hù)、點(diǎn)檢。實(shí)用新型內(nèi)容針對(duì)上述問題，本實(shí)用新型提...
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