投影光學系統(tǒng)的制造方法以及器件制造方法
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及投影光學系統(tǒng)的制造方法以及器件制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]曝光裝置是在作為半導體器件、液晶顯示裝置等的制造工序的光刻工序中，對掩模(掩模板(reticle))進行照明，經(jīng)由投影光學系統(tǒng)將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到涂覆了感光劑(抗蝕劑)的基板(晶片、玻璃板等)上的裝置。
[0003]例如，在將圖案轉(zhuǎn)印到玻璃板的投影曝光裝置中，近年來，要求將掩模上的更大的面積圖案在基板上一并曝光的曝光裝置。為了應對該要求，提出了能夠得到高分辨率并且能夠使大畫面曝光的步進掃描(step and scan)方式的掃描型投影曝光裝置。在該掃描型曝光裝置中，在使掩模以及基板移動的同時，通過透射了狹縫的曝光光對掩模進行照明，經(jīng)由投影光學系統(tǒng)在基板上對曝光光進行掃描，從而將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。在日本專利5398185號公報中，記載了具有具備用于調(diào)整這樣的轉(zhuǎn)印工序中的掩模的圖案的投影倍率的調(diào)整機構(gòu)的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置。調(diào)整機構(gòu)具備具有柱狀面的多個光學部件，通過變更光學部件間的間隔來調(diào)整投影倍率。通過光學部件、與其保持機構(gòu)連接了的致動器，進行光學部件的移動。
[0004]在制造投影光學系統(tǒng)時，需要組裝多個光學部件而進行調(diào)整的工序。在調(diào)整工序中，變更光學部件的位置，以使組裝誤差、像差降低。日本專利5398185號公報記載的調(diào)整機構(gòu)中的光學部件也能夠為了調(diào)整而變更其位置。即，在調(diào)整工序中，在移動該光學部件的位置而制造出投影光學系統(tǒng)之后，在曝光工序中為了調(diào)整投影倍率而變更該光學部件的位置。如果在調(diào)整工序中移動了光學部件，則有時在曝光工序中為了調(diào)整投影倍率而所需的光學部件的移動量超過光學部件的可動范圍，無法充分地調(diào)整投影倍率。即，投影光學系統(tǒng)的成像性能的調(diào)整范圍變窄。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]解決上述課題的本發(fā)明的一個側(cè)面是一種將物體的像投影到像面的投影光學系統(tǒng)的制造方法，其特征在于，具有:組裝工序，通過對包括具備驅(qū)動部的可動光學部件的多個光學部件進行組合配置，組裝所述投影光學系統(tǒng)；調(diào)整工序，通過利用所述驅(qū)動部使所述可動光學部件移動，調(diào)整所述投影光學系統(tǒng)；取得工序，取得使所述驅(qū)動部移動到根據(jù)該驅(qū)動部的驅(qū)動范圍決定的規(guī)定的位置的狀態(tài)下的所述投影光學系統(tǒng)的像差的信息；加工工序，根據(jù)取得的像差的信息，對加工用光學部件的表面進行加工；以及裝入工序，將加工了的所述加工用光學部件裝入到所述投影光學系統(tǒng)，還具有移動工序，使所述驅(qū)動部移動到根據(jù)所述驅(qū)動范圍決定的規(guī)定的位置。
[0006]根據(jù)(參考附圖)對示例性實施例的下面的描述，本發(fā)明的另外的特征將變得清
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【附圖說明】
[0007]圖1是曝光裝置的概要圖。
[0008]圖2是用于移動光學部件的驅(qū)動部的概略圖。
[0009]圖3是投影光學系統(tǒng)的以往的制造方法的流程圖。
[0010]圖4是第I實施方式中的投影光學系統(tǒng)的制造方法的流程圖。
[0011]圖5是第2實施方式中的投影光學系統(tǒng)的制造方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0012]以下，根據(jù)附圖，詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選的實施方式。
[0013](第I實施方式)
[0014]圖1是曝光裝置的概略圖。曝光裝置包括照明光學系統(tǒng)IL、投影光學系統(tǒng)PO。在照明光學系統(tǒng)IL與投影光學系統(tǒng)PO之間，配置了能夠保持并移動描繪了應制造的器件的電路圖案的掩模I的掩模載置臺2。在照明光學系統(tǒng)IL中包括光源，能夠使用例如高壓汞燈。但是，關于光源，能夠任意地選擇適合于進行制造的器件的裝置。照明光學系統(tǒng)IL使用來自光源的光對掩模I進行照明，通過投影光學系統(tǒng)PO，將掩模I的圖案的像投影到保持在基板載置臺4的基板3。在基板3上涂覆了對曝光光有感光度的光致抗蝕劑，使曝光圖案顯影，從而在基板3上形成抗蝕劑圖案。在曝光時，在使掩模載置臺2和基板載置臺4同步地移動的同時，在規(guī)定的照明區(qū)域中在基板3上進行掃描同時進行曝光。
[0015]投影光學系統(tǒng)PO沿著來自掩模I的光的行進方向，依次包括折射光學部件5、梯形鏡20的平面鏡20a、第一凹面鏡6、折射光學部件7、凸面鏡8、第二凹面鏡9、梯形鏡20的平面鏡20b、折射光學部件10。折射光學部件5、10是用于校正投影光學系統(tǒng)PO的成像性能、例如倍率、像差等的校正光學系統(tǒng)。各折射光學部件由非球面的透鏡、板或者楔狀的光學部件等構(gòu)成。
[0016]在折射光學部件5、10中，分別構(gòu)成了驅(qū)動部11以及12。圖2示出折射光學部件5及其驅(qū)動部11的概略圖。驅(qū)動部11具有底座21、致動器22、可動機構(gòu)23、以及保持折射光學部件5的保持機構(gòu)。致動器22是馬達、壓電元件等，將其驅(qū)動力傳遞給可動機構(gòu)23，使可動機構(gòu)23上下移動。能夠通過驅(qū)動致動器而經(jīng)由可動機構(gòu)變更折射光學部件5的位置。即，折射光學部件5被構(gòu)成為可動光學部件。能夠通過例如激光干涉計等位置測定裝置，測定折射光學部件的位置。由位置測定裝置測定出的折射光學部件的位置被用于折射光學部件的位置的調(diào)整。另外，驅(qū)動部11還能夠與可動機構(gòu)23 —起具備或者替代可動機構(gòu)23而具備將致動器的驅(qū)動力傳遞給折射光學部件的其他可動機構(gòu)。例如，有在相對作為折射光學部件的透鏡的光軸垂直的方向上移動的可動機構(gòu)、在繞相對透鏡的光軸垂直的軸的旋轉(zhuǎn)方向上使透鏡旋轉(zhuǎn)的可動機構(gòu)、或者在這些多個方向上移動的可動機構(gòu)。另外，驅(qū)動部11具備測定與致動器連接了的可動機構(gòu)的位置的編碼器、激光干涉計等傳感器。控制器13進行驅(qū)動部11的控制，使用由傳感器測定出的位置的信息，進行致動器22的反饋控制等。此處，說明了在折射光學部件5中具備的驅(qū)動部11，但在折射光學部件10中具備的驅(qū)動部12也是與驅(qū)動部11同樣的結(jié)構(gòu)。
[0017]—般，形成了的圖案重疊在基板3上，在其上使圖案曝光，在基板3上層疊形成多個圖案，從而制造由曝光裝置制造的器件。基板3在抗蝕劑涂覆、顯影處理時，由于進行熱處理等而伸縮。如果基板3伸縮，則在基板上重疊圖案而曝光時，產(chǎn)生重疊誤差。為了降低該重疊誤差，通過在曝光裝置中具備的未圖示的測量裝置，測量基板3的伸縮量。控制器13根據(jù)該測量值，計算用于使圖案的重疊誤差成為最小的折射光學部件5、10的目標位置或者移動量。然后，控制器13根據(jù)計算出的目標位置或者移動量，計算用于使折射光學部件5,10移動的驅(qū)動部11、12的致動器的驅(qū)動量。然后，控制器13根據(jù)計算出的驅(qū)動量，向驅(qū)動部11、12的致動器發(fā)送驅(qū)動指令，使該致動器驅(qū)動。在通過驅(qū)動部11、12的致動器使折射光學部件5、10移動之后，進行向基板3上的圖案的曝光，從而能夠降低圖案的重疊誤差。
[0018]基于折射光學部件5、10以及驅(qū)動部11、12的投影光學系統(tǒng)的成像性能的調(diào)整范圍包括從原點觀察時向正側(cè)的調(diào)整和向負側(cè)的調(diào)整。例如，作為投影光學系統(tǒng)的倍率的調(diào)整范圍，構(gòu)成為能夠進行向放大的方向的倍率調(diào)整、和向縮小的方向的倍率調(diào)整。具體而言，設計成將與致動器連接了的可動機構(gòu)處于可動機構(gòu)的可動范圍(驅(qū)動部的驅(qū)動范圍)的中心附近的狀態(tài)作為初始位置而配置折射光學部件。然后，通過致動器使可動機構(gòu)從其中心附近移動到一方側(cè)，從而使折射光學部件移動，進行向放大的方向的倍率調(diào)整。另一方面，構(gòu)成為通過致動器使可動機構(gòu)從其中心附近移動到與一方側(cè)相反的一側(cè)，從而折射光學部件也向相反側(cè)移動，能夠進行向縮小的方向的倍率調(diào)整。
[0019]重疊誤差根據(jù)基板而分別有偏差，所以需要應對更寬的范圍的重疊誤差。因此，需要連同正側(cè)的調(diào)整范圍以及負側(cè)的調(diào)整范圍一起，更寬地確?；谡凵涔鈱W部件5、10以及驅(qū)動部11、12的投影光學系統(tǒng)的成像性能的調(diào)整范圍。
[0020]但是，折射光學部件5、10除了被用于重疊誤差的調(diào)整以外，還被用于投影光學系統(tǒng)PO的組裝誤差、投影光學系統(tǒng)PO的像差的調(diào)整，為了各調(diào)整，需要對驅(qū)動部11、12的致動器進行驅(qū)動。因此，存在如下問題:如果為了投影光學系統(tǒng)PO的組裝誤差、投影光學系統(tǒng)PO的像差的調(diào)整而驅(qū)動致動器，則為了重疊誤差的調(diào)整用而確保的投影光學系統(tǒng)的成像性能的調(diào)整范圍變窄。
[0021]使用圖3，說明投影光學系統(tǒng)PO的以往的制造方法的步驟。圖3是示出投影光學系統(tǒng)的以往的制造方法的流程圖。
[0022]首先，加工而制造用于構(gòu)成投影光學系統(tǒng)的多個反射鏡、透鏡等光學部件(S201)。然后，組合加工了的多個