技術(shù)編號：9886720
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。曝光裝置是在作為半導(dǎo)體器件、液晶顯示裝置等的制造工序的光刻工序中，對掩模(掩模板(reticle))進(jìn)行照明，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到涂覆了感光劑(抗蝕劑)的基板(晶片、玻璃板等)上的裝置。例如，在將圖案轉(zhuǎn)印到玻璃板的投影曝光裝置中，近年來，要求將掩模上的更大的面積圖案在基板上一并曝光的曝光裝置。為了應(yīng)對該要求，提出了能夠得到高分辨率并且能夠使大畫面曝光的步進(jìn)掃描(step and scan)方式的掃描型投影曝光裝置。在該掃描型曝光裝置中，在使掩...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。