本發(fā)明涉及多層膜以及包裝膜。

背景技術(shù)：

1、用于食品、醫(yī)藥品等的包裝的包裝膜為了防止內(nèi)容物的變質(zhì)而要求阻氣性。作為包裝膜，已知有在依次具備基材層、錨固涂層、蒸鍍層、以及阻氣性被覆層的阻氣膜上經(jīng)由粘接劑層層疊密封膜而成的包裝膜(專利文獻(xiàn)1)。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2018-1631號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的課題

2、對于上述包裝膜，當(dāng)阻氣膜與密封膜的粘接強(qiáng)度低時(shí)，在用戶用手切斷包裝膜時(shí)確認(rèn)到密封膜的伸長，或者熱處理后在阻氣膜與密封膜之間產(chǎn)生剝離。因此，本發(fā)明的目的在于，難以產(chǎn)生由通過將含有烷氧基硅烷或其水解產(chǎn)物的涂布液涂布在某一膜上而得到的阻氣性被覆層(以下也稱為涂層)與粘接在涂層上的其他膜的粘接強(qiáng)度低引起的不良情況。

3、用于解決課題的手段

4、根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種多層膜，具備：作為基材膜的第1膜、和設(shè)置在所述第1膜的一個(gè)面上且含有烷氧基硅烷的水解產(chǎn)物和脫水縮合反應(yīng)產(chǎn)物的涂層，在所述涂層的表面，通過飛行時(shí)間型二次離子質(zhì)譜法得到的以總陽離子量標(biāo)準(zhǔn)化而得的sioh+的量在0.02至0.07的范圍內(nèi)。

5、根據(jù)本發(fā)明的其他方面，提供上述方面涉及的多層膜，其中，所述涂層還含有水溶性高分子。

6、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面中的任一項(xiàng)涉及的多層膜，其中，所述烷氧基硅烷是四烷氧基硅烷和硅烷偶聯(lián)劑的混合物。

7、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面中的任一項(xiàng)涉及的多層膜，其中，所述涂層是所述烷氧基硅烷相對于所述烷氧基硅烷和所述水溶性高分子的合計(jì)量100質(zhì)量份的含量在20至90質(zhì)量份的范圍內(nèi)的涂布液的固化產(chǎn)物。

8、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面中的任一項(xiàng)涉及的多層膜，其中，還具備介于所述第1膜與所述涂層之間的阻氣層。

9、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面涉及的多層膜，其中，還具備介于所述第1膜與所述阻氣層之間的錨固層。

10、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供一種包裝膜，具備：上述方面中的任一項(xiàng)涉及的多層膜；含有氨基甲酸酯系材料、以與所述涂層接觸的方式設(shè)置的粘接劑層；以及以將所述粘接劑層夾在中間且與所述涂層相對的方式層壓在所述多層膜上的第2膜。

11、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面涉及的包裝膜，其中，所述第2膜是密封膜。

12、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供上述方面中的任一項(xiàng)涉及的包裝膜，其中，還具備設(shè)置在所述基材膜的另一個(gè)面上的密封膜。

13、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供具備上述方面中的任一項(xiàng)涉及的包裝膜的包裝體。

14、根據(jù)本發(fā)明的另一其他方面，提供具備上述方面涉及的包裝體、和填充在所述包裝體內(nèi)的內(nèi)容物的包裝物品。

15、發(fā)明的效果

16、根據(jù)本發(fā)明，可以難以產(chǎn)生由通過將含有烷氧基硅烷或其水解產(chǎn)物的涂布液涂布在某一膜上而得到的涂層與粘接在涂層上的其他膜的粘接強(qiáng)度低引起的不良情況。

技術(shù)特征：

1.一種多層膜，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多層膜，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多層膜，

7.一種包裝膜，具備：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的包裝膜，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的包裝膜，

10.一種包裝體，具備權(quán)利要求7所述的包裝膜。

11.一種包裝物品，具備：權(quán)利要求10所述的包裝體、和填充在所述包裝體內(nèi)的內(nèi)容物。

技術(shù)總結(jié)
一種多層膜(1)，具備：作為基材膜的第1膜(11)、和設(shè)置在所述第1膜(11)的一個(gè)面上且含有烷氧基硅烷的水解產(chǎn)物和脫水縮合反應(yīng)產(chǎn)物的涂層(14)，在所述涂層(14)的表面，通過飛行時(shí)間型二次離子質(zhì)譜法得到的以總陽離子量標(biāo)準(zhǔn)化而得的SiOH<supgt;+</supgt;的量在0.02至0.07的范圍內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員：竹內(nèi)裕,山川秀之,田中步實(shí)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：凸版控股株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/28