1.一種基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述系統(tǒng)由光學(xué)耦合系統(tǒng)、照明光學(xué)系統(tǒng)、高溫黑體、合束器、目標(biāo)光闌組件、能量控制組件、干擾光闌組件、旋轉(zhuǎn)反光鏡、干擾通道旋轉(zhuǎn)機(jī)和遮擋板組成，其中：
所述的光學(xué)耦合系統(tǒng)由成像鏡組、目標(biāo)成像鏡組和干擾成像鏡組組成；
所述的照明光學(xué)系統(tǒng)由目標(biāo)照明光學(xué)系統(tǒng)和干擾照明光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成；
所述的高溫黑體包括第一高溫黑體和第二高溫黑體；
所述的能量控制組件包括第一能量控制組件和第二能量控制組件；
所述的第一高溫黑體、目標(biāo)照明光學(xué)系統(tǒng)、第一能量控制組件、目標(biāo)光闌組件構(gòu)成目標(biāo)通道；
所述的第二高溫黑體、干擾照明光學(xué)系統(tǒng)、第二能量控制組件、干擾光闌組件、旋轉(zhuǎn)反光鏡、干擾通道旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和遮擋板構(gòu)成干擾通道；
所述的干擾通道旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于旋轉(zhuǎn)干擾通道，模擬干擾旋轉(zhuǎn)及干擾釋放方向；
所述目標(biāo)通道由一次成像完成，第一高溫黑體發(fā)出紅外輻射，經(jīng)照明光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)入第一能量控制組件成像，然后經(jīng)過目標(biāo)光闌組件由光學(xué)耦合系統(tǒng)成像到無限遠(yuǎn)處；
所述干擾通道采用二次成像原理，第二高溫黑體發(fā)出紅外輻射，經(jīng)干擾照明光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)入第二能量控制組件后第一次成像，經(jīng)過干擾光闌組件、旋轉(zhuǎn)反光鏡、遮擋板后第二次成像，然后由光學(xué)耦合系統(tǒng)成像到無限遠(yuǎn)處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的目標(biāo)光闌組件由目標(biāo)光闌片組件和驅(qū)動電機(jī)組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的目標(biāo)光闌片組件由一片有三角形缺口的矩形金屬片與另一相同大小的矩形金屬片對接組成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的能量控制組件由漸變衰減片和驅(qū)動電機(jī)組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的漸變衰減片為圓形薄板，薄板上平均分出若干扇形，每個扇形透過率均不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的干擾光闌組件由干擾光闌和驅(qū)動電機(jī)組成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的干擾光闌為圓形薄板，在圓形薄板上分為若干扇形區(qū)域，在不同扇形區(qū)域中心位置沿薄板半徑方向并排打上數(shù)量、大小均不同的小孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的干擾光闌組件位于干擾通道一次成像位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的旋轉(zhuǎn)反光鏡由反光鏡和驅(qū)動電機(jī)組成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二次成像原理的點(diǎn)源目標(biāo)及干擾模擬系統(tǒng)，其特征在于所述的遮擋板位于干擾通道二次成像位置。