本實(shí)用新型涉及一種觸摸屏蓋板及觸摸屏蓋板膜。

背景技術(shù)：

隨著科技的進(jìn)步，智能設(shè)備的發(fā)展，對(duì)于作為人機(jī)交互主要窗口的觸摸屏需求越來越旺盛，近幾年的年出貨量呈爆棚式增長(zhǎng)，隨著智能設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)的技術(shù)革新以及激烈的競(jìng)爭(zhēng)，對(duì)觸摸屏的生產(chǎn)技術(shù)和成本提出了更高的要求。觸摸屏的光學(xué)蓋板作為觸摸屏主要功能部件，對(duì)BM區(qū)(黑色矩陣Black Matrix)的光學(xué)遮蓋區(qū)生產(chǎn)技術(shù)和生產(chǎn)成本均有較高的要求。

傳統(tǒng)的觸摸屏蓋板BM區(qū)遮光層主要采用黑色油墨的絲網(wǎng)印刷技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。然而絲印油墨的技術(shù)存在鍍膜良率低、生產(chǎn)成本較高、生產(chǎn)效率低等缺陷，并且由于觸摸屏蓋板需要與液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡(jiǎn)稱LCD)進(jìn)行貼合使用，要求蓋板以及油墨都必須與OCA光學(xué)膠(Optically Clear Adhesive)或OCR光學(xué)樹脂(Optically Clear Resin)都能夠很好的兼容，但實(shí)際操作過程中，油墨與OCA光學(xué)膠的貼合經(jīng)常出現(xiàn)氣泡，無法完美貼合，而且，貼合后所得產(chǎn)品再進(jìn)行耐性測(cè)試(85℃，85％RH，500h)時(shí)，會(huì)出現(xiàn)大面積氣泡，影響產(chǎn)品的外觀或使用。該問題亟待解決。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)采用黑色油墨的絲網(wǎng)印刷術(shù)制備觸摸屏蓋板BM區(qū)遮光層時(shí)，鍍膜良率低、生產(chǎn)成本高、生產(chǎn)效率低，所得產(chǎn)品與液晶顯示器進(jìn)行貼合使用時(shí)，易產(chǎn)生氣泡，無法實(shí)現(xiàn)完美貼合的缺陷，提供了一種觸摸屏蓋板及觸摸屏蓋板膜。本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜采用氮化鋅薄膜作為黑色膜的功能層，表面反射率較低，生產(chǎn)成本低；表面硬度高，抗刮傷性能和耐磨性較強(qiáng)；表面能較高，能夠有效的貼合液晶顯示器；厚度約70～220nm，可消除段差效應(yīng)。

本實(shí)用新型是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題。

本實(shí)用新型提供了一種觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜和一氮化硅(Si₃N₄)薄膜；

其中，所述氧化硅薄膜的厚度為10～20nm，所述氮化鋅薄膜的厚度為10～50nm。

其中，若所述氧化硅薄膜的厚度＞20nm，要想達(dá)到該厚度，則需要增加靶材的用量或降低線速度，由此導(dǎo)致氧化硅的濺射效率較低或成本較高；若所述氧化硅薄膜的厚度＜10nm，則無法達(dá)到薄膜附著力的要求。

其中，所述氧化硅薄膜的厚度較佳地為15nm。

其中，若所述氮化鋅薄膜的厚度＞50nm，則會(huì)造成薄膜的附著力下降；若所述氮化鋅薄膜的厚度＜10nm，會(huì)有透光，無法實(shí)現(xiàn)密不透光的效果。所述氮化鋅薄膜對(duì)可見光有較強(qiáng)的吸收，外觀呈黑色，是作為黑色膜的功能層。

其中，所述氮化鋅薄膜的厚度較佳地為10～30nm，更佳地為25nm。

其中，所述氮化硅薄膜的厚度為本領(lǐng)域常規(guī)，一般為50～150nm，較佳地為100nm。綜合考慮生產(chǎn)效率、內(nèi)應(yīng)力、機(jī)械性能以及作為保護(hù)層的功效等諸多因素的影響，本領(lǐng)域技術(shù)人員一般會(huì)選擇厚度為50～150nm的氮化硅薄膜。所述氮化硅薄膜的械強(qiáng)度較高，薄膜致密，能夠有效保護(hù)所述氮化鋅薄膜不被刮傷和分解氧化。

其中，所述氮化硅薄膜的另一側(cè)較佳地還設(shè)有一保護(hù)膜。所述保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜可通過本領(lǐng)域常規(guī)的磁控濺射技術(shù)制得。

本實(shí)用新型還提供了一種觸摸屏蓋板，其包括一樹脂基板和一如前所述的觸摸屏蓋板膜，所述觸摸屏蓋板膜的氧化硅薄膜與所述樹脂基板相連接。

本實(shí)用新型的積極進(jìn)步效果在于：

1、本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜可通過本領(lǐng)域常規(guī)的磁控濺射技術(shù)制得，生產(chǎn)成本低，降低約50倍；

2、本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜的表面硬度≥6H；

3、本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜的最外層表面能較高，與OCA光學(xué)膠或OCR光學(xué)樹脂的粘結(jié)性能較好，能夠有效的貼合LCD，無氣泡產(chǎn)生；經(jīng)過85℃×85％RH×500h的耐性測(cè)試后，不易產(chǎn)生氣泡，粘附力也不降低；

4、本實(shí)用新型觸摸屏蓋板膜的黑色遮光薄膜較薄，厚度約70～220nm，較薄的薄膜可有效減少黑色遮光膜邊部的段差問題，防止蓋板在貼合時(shí)出現(xiàn)氣泡，更有利于蓋板與LCD的貼合；

5、本實(shí)用新型的表面抗刮傷性能和耐磨性較強(qiáng)：1kg壓力施加在沾水棉布上，在兩種觸摸屏蓋板膜分別上滴上10滴水或酒精，進(jìn)行摩擦20次測(cè)試，表面不脫膜。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1的觸摸屏蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，1為保護(hù)膜，2為氮化硅薄膜，3為氮化鋅薄膜，4為氧化硅薄膜，5為樹脂基板。

具體實(shí)施方式

下面舉個(gè)較佳實(shí)施例，并結(jié)合附圖來更清楚完整地說明本實(shí)用新型。

實(shí)施例1

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜、一氮化硅(Si₃N₄)薄膜和一保護(hù)膜；其中，氧化硅薄膜的厚度為10nm，氮化鋅薄膜的厚度為10nm，氮化硅薄膜的厚度為50nm，保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板，其包括一樹脂基板和一上述觸摸屏蓋板膜，觸摸屏蓋板膜的氧化硅薄膜與樹脂基板相連接。

圖1為實(shí)施例1的觸摸屏蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，1為保護(hù)膜，2為氮化硅薄膜，3為氮化鋅薄膜，4為氧化硅薄膜，5為樹脂基板。

實(shí)施例2

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜、一氮化硅(Si₃N₄)薄膜和一保護(hù)膜；其中，氧化硅薄膜的厚度為20nm，氮化鋅薄膜的厚度為30nm，氮化硅薄膜的厚度為150nm，保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

實(shí)施例3

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜、一氮化硅(Si₃N₄)薄膜和一保護(hù)膜；其中，氧化硅薄膜的厚度為15nm，氮化鋅薄膜的厚度為50nm，氮化硅薄膜的厚度為100nm，保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板，其包括一樹脂基板和一上述觸摸屏蓋板膜，觸摸屏蓋板膜的氧化硅薄膜與樹脂基板相連接。

實(shí)施例4

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜、一氮化硅(Si₃N₄)薄膜和一保護(hù)膜；其中，氧化硅薄膜的厚度為15nm，氮化鋅薄膜的厚度為50nm，氮化硅薄膜的厚度為100nm，保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板，其包括一樹脂基板和一上述觸摸屏蓋板膜，觸摸屏蓋板膜的氧化硅薄膜與樹脂基板相連接。

實(shí)施例5

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板膜，其依次包括一氧化硅(SiO)薄膜、一氮化鋅(Zn₃N₂)薄膜、一氮化硅(Si₃N₄)薄膜和一保護(hù)膜；其中，氧化硅薄膜的厚度為15nm，氮化鋅薄膜的厚度為25nm，氮化硅薄膜的厚度為150nm，保護(hù)膜為本領(lǐng)域常規(guī)的塑料保護(hù)膜。

本實(shí)施例的觸摸屏蓋板，其包括一樹脂基板和一上述觸摸屏蓋板膜，觸摸屏蓋板膜的氧化硅薄膜與樹脂基板相連接。

效果實(shí)施例1

本實(shí)用新型實(shí)施例1～5的觸摸屏蓋板膜通過本領(lǐng)域常規(guī)的磁控濺射技術(shù)制得，具備以下積極進(jìn)步效果：

1、生產(chǎn)效率高，提升約4～7倍：本實(shí)用新型使用大面積基材(550×820mm)進(jìn)行磁控濺射鍍膜，一片板材可切割成10～20片觸摸屏蓋板，并且鍍膜為水平連續(xù)式鍍膜，一爐可放置3片大板，約1min完成三片大板鍍膜。而絲網(wǎng)印刷的生產(chǎn)方式也可以進(jìn)行一次大板(550×820mm)印刷，油墨印刷需要進(jìn)行印刷兩遍，并且每一遍印刷結(jié)束后需要進(jìn)行約40min的烘烤；

2、本實(shí)用新型觸摸屏蓋板膜的鍍膜良率≥98％，鍍膜范圍的尺寸控制更加精確；而絲網(wǎng)印刷方式容易產(chǎn)生針孔的透光缺陷，良率僅為80～90％；

3、生產(chǎn)成本低，降低約50倍：本實(shí)用新型所使用到的靶材有Si靶和Zn靶，每個(gè)靶材單價(jià)約2～4萬/根，一根靶材可以使用約900小時(shí)，原材料的使用效率可達(dá)90％以上；本實(shí)用新型生產(chǎn)工藝大約需要用到8根Si靶，2根Zn靶，小于40萬的原材料成本，可以生產(chǎn)約16萬張大板。而絲網(wǎng)印刷油墨印刷方法，16萬張大板需要約1500萬的油墨費(fèi)用；

4、本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜表面硬度≥6H，而油墨絲網(wǎng)印刷方法制得的產(chǎn)品硬度一般都＜HB；

5、本實(shí)用新型的觸摸屏蓋板膜的最外層表面能較高，與OCA光學(xué)膠或OCR光學(xué)樹脂的粘結(jié)性能較好，能夠有效的貼合LCD，無氣泡產(chǎn)生；經(jīng)過85℃×85％RH×500h的耐性測(cè)試后，不易產(chǎn)生氣泡，粘附力也不降低；而油墨絲網(wǎng)印刷方法制得的產(chǎn)品容易產(chǎn)生氣泡；

6、本實(shí)用新型觸摸屏蓋板膜的黑色遮光薄膜較薄，厚度約70～220nm，較薄的薄膜可有效減少黑色遮光膜邊部的段差問題，防止蓋板在貼合時(shí)出現(xiàn)氣泡，更有利于蓋板與LCD的貼合；而油墨絲網(wǎng)印刷的厚度約8～12μm，油墨與非油墨區(qū)存在臺(tái)階段差，該段差容易藏污納垢，并且在貼合后產(chǎn)生氣泡；

7、本實(shí)用新型的表面抗刮傷性能和耐磨性較強(qiáng)：1kg壓力施加在沾水棉布上，在兩種觸摸屏蓋板膜分別上滴上10滴水或酒精，進(jìn)行摩擦20次測(cè)試，表面不脫膜。

將本實(shí)用新型實(shí)施例1～5的觸摸屏蓋板膜進(jìn)行性能測(cè)試，具體測(cè)試數(shù)據(jù)如下表1所示。

表1