曝光描繪裝置和曝光描繪方法
【專利摘要】具有：第1曝光單元，通過對載置在平臺上的印刷布線基板的第1面進行曝光而在所述第1面上描繪電路圖案；標記形成單元，設置為能夠相對于平臺相對地移動，在印刷布線基板的第1面上第1面用的電路圖案的描繪處理中，在與第1面相反的第2面形成預先確定的多個標記；計測單元，對標記形成單元的位置進行計測；檢測單元，對在第2面上形成的多個標記的位置進行檢測；以及第2曝光單元，以所計測的標記形成單元的位置和所檢測的多個標記的位置為基準，通過對印刷布線基板的第2面進行曝光而在第2面上描繪電路圖案。
【專利說明】曝光描繪裝置和曝光描繪方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及曝光描繪裝置和曝光描繪方法，特別是，涉及對基板描繪圖像的曝光描繪裝置和曝光描繪方法。

【背景技術】
[0002]近年來，作為將平面基板作為被曝光基板而形成電路圖案的曝光描繪裝置，開發(fā)有不使用轉(zhuǎn)印膜而直接將描繪光照射到基板而描繪電路圖案的曝光描繪裝置。但是，在對要求高分辨率的基板描繪電路圖案時，存在在孔加工中附著的灰塵和在移動過程中附著在孔中的灰塵落到其他基板或者由光致抗蝕劑涂布等的加工中的加熱引起的孔周邊變形的情況。此時，描繪在基板的第I面上的電路圖案與描繪在第2面上的電路圖案之間的相對位置偏離。
[0003]因此，公開有將在電路圖案的描繪中所需的校準用標記描繪在被曝光基板的第I面和第2面上的曝光描繪裝置。作為與此有關的技術，在日本特開2008-292915號公報中公開有對被曝光基板的第I面和第2面分別描繪第I和第2校準用標記的曝光描繪裝置。在該曝光描繪裝置中，根據(jù)第I和第2校準用標記，將電路圖案描繪在基板的第I面和第2面上。另外，在美國專利6，701，197 B2號說明書中公開有如下的描繪曝光裝置:使用與平臺具有已知的位置關系的被固定的紫外線光源，在與被曝光基板的第I面的曝光的同時在第2面上形成校準用標記。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]發(fā)明所要解決的課題
[0005]在公開于日本特開2008-292915號公報的曝光描繪裝置中，需要在描繪處理前形成校準用標記。因此，存在由于烘烤時間而周期性地產(chǎn)生影響的問題。另外，存在需要對第I面和第2面間的校準用標記計測的位置偏離進行校正的問題。而且，存在需要在第I面和第2面雙方形成校準用標記的裝置結(jié)構(gòu)的問題。
[0006]另外，在公開于美國專利6，701，197 B2號說明書中的曝光描繪裝置中，對于被曝光基板描繪校準用標記的位置被固定。因此，在對尺寸不同的多個基板分別進行曝光時，不能在與被曝光基板的尺寸對應的最佳的位置上描繪校準用標記。其結(jié)果，存在根據(jù)基板的尺寸而校準精度有可能降低的問題。
[0007]本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，提供如下的曝光描繪裝置和曝光描繪方法:不依賴于被曝光基板的尺寸，能夠使被曝光基板的表背中的校準精度提高。
[0008]用于解決課題的技術方案
[0009]本發(fā)明的曝光描繪裝置具有--第I曝光單元，通過對載置在平臺上的印刷布線基板的第I面進行曝光而在所述第I面上描繪電路圖案；標記形成單元，設置為能夠相對于所述平臺相對地移動，在所述印刷布線基板的所述第I面上第I面用的電路圖案的描繪處理中，在與所述第I面相反的第2面形成有預先確定的多個標記；計測單元，對所述標記形成單元的位置進行計測；檢測單元，對通過所述標記形成單元形成在所述印刷布線基板的所述第2面上的多個標記的位置進行檢測；以及第2曝光單元，以通過所述計測單元計測的所述標記形成單元的位置和通過所述檢測單元檢測的所述多個標記的位置為基準，通過對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而在所述第2面上描繪電路圖案。
[0010]根據(jù)該曝光描繪裝置，通過第I曝光單元，對載置在平臺上的印刷布線基板的第I面進行曝光，從而在所述第I面上描繪電路圖案。另外，根據(jù)該曝光描繪裝置，通過以對于所述平臺可相對地移動的方式設置的標記形成單元，在所述印刷布線基板的所述第I面上第I面用的電路圖案的描繪處理中，在與所述第I面相反的第2面形成有預先確定的多個標記。另外，根據(jù)該曝光描繪裝置，通過計測單元，對所述標記形成單元的位置進行計測。另夕卜，根據(jù)該曝光描繪裝置，通過檢測單元，對通過所述標記形成單元形成在所述印刷布線基板的所述第2面上的多個標記的位置進行檢測。
[0011]此處，在本發(fā)明中，通過第2曝光單元，以通過所述計測單元計測的所述標記形成單元的位置和通過所述檢測單元檢測的所述多個標記的位置為基準，對印刷布線基板的所述第2面進行曝光。由此，在所述第2面上描繪電路圖案。
[0012]即，在本實施方式中，對標記形成單元的位置進行計測，通過標記形成單元在與第I面用的電路圖案的曝光位置存在已知的關系的第2面的位置上形成多個標記。另外，在對第2面曝光第2面用的電路圖案時，將標記形成單元的位置和多個標記的位置為基準描繪第2面用的電路圖案。由此，能夠使描繪在第I面和第2面上的電路圖案的位置對應。另夕卜，上述“描繪處理”是指，將印刷布線基板載置在平臺上之后，結(jié)束電路圖案的描繪而排出印刷布線基板為止的一系列的處理。
[0013]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的曝光描繪裝置，能夠?qū)⑴c描繪在第I面上的電路圖案存在已知的位置關系的多個標記的位置作為基準，使描繪在第2面上的電路圖案的位置與描繪在第I面上的電路圖案的位置對應。其結(jié)果，不依賴于被曝光基板的尺寸，而能夠使被曝光基板的表背中的校準精度提高。
[0014]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述標記形成單元被設置為，能夠相對于以載置在所述平臺上的所述印刷布線基板的任意一邊為基準預先確定的方向、和與該預先確定的方向交叉的方向中的至少一方的方向移動。由此，能夠?qū)υ谶m當?shù)奈恢蒙闲纬啥鄠€標記的位置進行調(diào)整。
[0015]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述標記形成單元能夠移動的范圍為能夠?qū)Τ叽绮煌亩喾N類的印刷布線基板形成該標記的范圍。由此，能夠不依賴于基板的尺寸而在適當?shù)奈恢蒙闲纬啥鄠€標記。
[0016]另外，在本發(fā)明中，也可以是，還具有特定單元，該特定單元對所述印刷布線基板的尺寸進行特定，所述標記形成單元根據(jù)通過所述特定單元特定的尺寸而分別形成所述多個標記。由此，能夠在與基板的尺寸對應的適當?shù)奈恢蒙闲纬啥鄠€標記。
[0017]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述計測單元具有對所述標記形成單元進行攝影的攝影單元，使用該攝影單元的攝影圖像對所述標記形成單元的各個位置進行計測。由此，能夠簡單地計測標記形成單元的位置。
[0018]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述標記形成單元形成在如下位置:即使在所述平臺上載置有印刷布線基板的狀態(tài)下，也能夠通過所述計測單元對相對于所述標記形成單元位于已知的相對位置的校正用標記進行攝影，所述計測單元具有攝影單元，該攝影單元以所述校正用標記分別被攝影的方式對所述標記形成單元進行攝影，所述計測單元使用該攝影單元的攝影圖像對所述標記形成單元的各個位置進行計測。由此，即使在不能對標記形成單元進行攝影時，也能夠?qū)擞浶纬蓡卧奈恢眠M行計測。
[0019]另外，在本發(fā)明中，也可以是，設置有多個所述攝影單元，所述攝影單元分別對所述標記形成單元中的一個以上進行攝影。由此，能夠簡單地計測標記形成單元的位置。
[0020]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述攝影單元被設置為與描繪有電路圖案的位置存在已知的關系，并能夠相對于所述平臺移動。由此，不依賴于標記形成單元的位置，能夠?qū)擞浶纬蓡卧奈恢眠M行計測。
[0021]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述標記形成單元通過短波長的光對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而形成所述標記。由此，能夠在適當?shù)奈恢蒙细呔鹊匦纬啥鄠€標記。
[0022]另外，在本發(fā)明中，也可以是，所述標記形成單元通過使墨水附著到所述印刷布線基板的第2面而形成所述多個標記。由此，能夠簡單地形成多個標記。
[0023]本發(fā)明的曝光描繪方法是曝光描繪裝置中的曝光描繪方法，該曝光描繪裝置具有:第I曝光單元，通過對載置在平臺上的印刷布線基板的第I面進行曝光而在所述第I面上描繪電路圖案；標記形成單元，設置為能夠相對于所述平臺相對地移動，在與所述第I面相反的第2面形成預先確定的多個標記；計測單元，對所述標記形成單元的位置進行計測；檢測單元，對通過所述標記形成單元形成在所述印刷布線基板的所述第2面上的多個標記的位置進行檢測；以及第2曝光單元，通過對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而在所述第2面上描繪電路圖案，所述曝光描繪方法具有如下步驟:控制所述計測單元以使所述標記形成單元的位置被計測；使所述標記形成單元向預先確定的位置移動；控制所述第I曝光單元和所述標記形成單元，以在所述印刷布線基板的所述第I面上描繪第I面用的電路圖案，而且在該電路圖案的描繪處理中，與所述第I面用的電路圖案對應而在所述第2面上形成多個標記；以及控制所述第2曝光單元，以通過所述計測單元計測的所述標記形成單元的位置和通過所述檢測單元檢測的所述多個標記的位置為基準而在所述第2面上描繪所述第2面用的電路圖案。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的曝光描繪方法，與本發(fā)明的曝光描繪裝置同樣地發(fā)揮作用，因此與本發(fā)明的曝光描繪裝置同樣，不依賴于被曝光基板的尺寸，能夠使被曝光基板的表背中的校準精度提高。
[0025]發(fā)明效果
[0026]根據(jù)本發(fā)明，不依賴于被曝光基板的尺寸，能夠使被曝光基板的表背中的校準精度提聞。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1是示出實施方式的曝光描繪系統(tǒng)的整體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。
[0028]圖2是示出實施方式的曝光描繪系統(tǒng)的功能的框圖。
[0029]圖3A是示出通過實施方式的曝光描繪系統(tǒng)對被曝光基板的表面進行了曝光時的該表面的一例的主視圖。
[0030]圖3B是示出通過實施方式的曝光描繪系統(tǒng)對被曝光基板的背面進行了曝光時的該背面的一例的主視圖。
[0031]圖4是示出實施方式的第I曝光描繪裝置和第2描繪曝光描繪裝置的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0032]圖5是實施方式的第I曝光描繪裝置和第2曝光描繪裝置的基板夾持機構(gòu)部的分解立體圖。
[0033]圖6是用于對實施方式的第I曝光描繪裝置和第2曝光描繪裝置的光傳感器的功能進行說明的放大剖視圖。
[0034]圖7A是用于對實施方式的第I曝光描繪裝置和第2曝光描繪裝置的標記形成部進行說明的主要部分放大剖視圖。
[0035]圖7B是用于對實施方式的第I曝光描繪裝置和第2曝光描繪裝置的標記形成部進行說明的主要部分放大俯視圖。
[0036]圖8是示出實施方式的曝光描繪系統(tǒng)的反轉(zhuǎn)裝置中的反轉(zhuǎn)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)主視圖。
[0037]圖9是示出實施方式的第I曝光描繪裝置和第2曝光描繪裝置的電氣系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
[0038]圖10是示出在實施方式的曝光描繪系統(tǒng)中平臺的移動方向與攝影部的移動方向之間的關系的圖。
[0039]圖11是示出實施方式的曝光描繪系統(tǒng)的紫外線光源的可動范圍的圖。
[0040]圖12是示出實施方式的曝光前處理程序的處理流程的流程圖。
[0041]圖13是用于說明實施方式的曝光前處理的概略主視圖。
[0042]圖14是示出實施方式的第I曝光處理程序的處理流程的流程圖。
[0043]圖15是用于說明實施方式的第I曝光處理的概略主視圖。
[0044]圖16是示出實施方式的第2曝光處理程序的處理流程的流程圖。
[0045]圖17是用于說明實施方式的第2曝光處理的概略主視圖。
[0046]圖18是示出在實施方式的曝光描繪系統(tǒng)中，被曝光基板的尺寸與校準用標記的描繪位置之間的關系的概略主視圖。

【具體實施方式】
[0047]以下，參照附圖詳細說明本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)。另外，在本實施方式中，作為曝光描繪系統(tǒng)1，以如下系統(tǒng)為例進行說明:將印刷布線基板或印刷基板和平板顯示器用玻璃基板等的平板基板作為被曝光基板，對被曝光基板的第I面(以下，也稱為“表面”。)和第2面(以下，也稱為“背面”。)的雙方進行曝光描繪。
[0048]圖1是示出本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I的整體結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。另外，圖2是示出本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I的功能的框圖。如圖1和圖2所示，曝光描繪系統(tǒng)I具有對被曝光基板的表面進行曝光并在被曝光基板的背面形成校準用標記的第I曝光描繪裝置2。另外，第I曝光描繪裝置2在形成校準用標記之前對后述的紫外線光源51的位置進行計測。另外，曝光描繪系統(tǒng)I具有使被曝光基板的表背反轉(zhuǎn)的反轉(zhuǎn)裝置3。另外，曝光描繪系統(tǒng)I具有對被曝光基板的背面進行曝光的第2曝光描繪裝置4。另外，曝光描繪系統(tǒng)I具有將被曝光基板從裝置外部傳送到第I曝光描繪裝置2的第I傳送部5和將被曝光基板從第I曝光描繪裝置2傳送到反轉(zhuǎn)裝置3的第2傳送部6。另外，曝光描繪系統(tǒng)I具有將被曝光基板從反轉(zhuǎn)裝置3傳送到第2曝光描繪裝置4的第3傳送部7和將被曝光基板從第2曝光描繪裝置4傳送到裝置外部的第4傳送部8。
[0049]圖3A是不出在對被曝光基板C的表面Cl進行了曝光時的該表面Cl的一例的主視圖，圖3B是在對被曝光基板C的背面C2進行了曝光時的該背面C2的一例的主視圖。
[0050]如圖3A所示，在被曝光基板C的表面Cl上，通過第I曝光描繪裝置2而描繪有表面用圖像Pl。另外，如圖3B所示，在被曝光基板C的背面C2上，通過第2曝光描繪裝置4，以與表面Cl的描繪有表面用圖像Pl的坐標系(以下，稱為“圖像坐標系”。)對應的圖像坐標系描繪有背面用圖像P2。另外，在本實施方式中，表面用圖像Pl為“F”形狀的圖像。另夕卜，在本實施方式中，背面用圖像P2為上述表面Cl中的與“F”形狀的圖像對應的包圍背面C2的區(qū)域的矩形的框形狀的圖像。而且，在被曝光基板C的背面C2上，在主視上部中央側(cè)和主視下部中央側(cè)上，通過第I曝光描繪裝置2描繪有多個(本實施方式中為兩個)的校準用標記M。該校準用標記M是用于使分別描繪在被曝光基板C的表面Cl和背面C2上的表面用圖像Pl的位置與背面用圖像P2的位置彼此對應的標記。
[0051]在本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I中，在被曝光基板C的傳送方向的上游側(cè)設置有第I曝光描繪裝置2。當未曝光的被曝光基板C被傳入到裝置內(nèi)時，如上所述，第I曝光描繪裝置2對被曝光基板C的表面Cl進行曝光并在表面描繪表面用圖像Pl。另外，第I曝光描繪裝置2在被曝光基板C的背面C2形成校準用標記M。
[0052]在本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I中，校準用標記M是以約q)0.5mm至約(plmm的圓形來描繪。但是，大小和形狀不限定于此。例如，大小只要是不與表面用圖像Pl和背面用圖像P2的描繪重疊的大小即可，形狀也可以任意地設定為十字型的形狀和矩形型的形狀等。
[0053]在第I曝光描繪裝置2的被曝光基板C的傳送方向的下游側(cè)設置有反轉(zhuǎn)被曝光基板C的表背的反轉(zhuǎn)裝置3。當表面Cl通過第I曝光描繪裝置2而被曝光且傳入描繪有校準用標記M的被曝光基板C時，為了在接下來的工藝中對被曝光基板C的背面C2進行曝光，反轉(zhuǎn)裝置3使被曝光基板C的表背反轉(zhuǎn)。
[0054]在反轉(zhuǎn)裝置3的被曝光基板C的傳送方向的下游側(cè)設置有對被曝光基板C的背面C2進行曝光的第2曝光描繪裝置4。當通過反轉(zhuǎn)裝置3反轉(zhuǎn)的被曝光基板C傳入到裝置內(nèi)時，第2曝光描繪裝置4對被曝光基板C的背面C2進行曝光并描繪背面用圖像P2。此時，第2曝光描繪裝置4使用通過第I曝光描繪裝置2描繪在被曝光基板C上的校準用標記M進行了位置對準的基礎上對背面C2進行曝光。
[0055]第I傳送裝置5、第2傳送裝置6、第3傳送裝置7以及第4傳送裝置8分別具有多個旋轉(zhuǎn)輥和使旋轉(zhuǎn)輥旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電動機。平行地敷設有多個旋轉(zhuǎn)輥，在旋轉(zhuǎn)輥的一端安裝有受到通過帶或線而傳遞的旋轉(zhuǎn)力的鏈輪或滑輪。作為傳遞使旋轉(zhuǎn)輥旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電動機的旋轉(zhuǎn)力的單元，除了帶或線以外還能夠采用基于圓筒狀的磁鐵的傳遞方法。
[0056]另外，在本實施方式中，為了提高被曝光基板C的吞吐率(每小時的生產(chǎn)量)，使用第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4這兩臺曝光描繪裝置而對被曝光基板C的表面Cl和背面C2進行曝光。但是，曝光描繪裝置的臺數(shù)不限于兩臺，也能夠通過一臺曝光描繪裝置使被曝光基板C從表面Cl向背面C2反轉(zhuǎn)并且對被曝光基板C的兩面進行描繪。
[0057]接著，對第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的結(jié)構(gòu)進行說明。
[0058]圖4是示出本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2描繪曝光描繪裝置4的結(jié)構(gòu)的立體圖。以下，將平臺10移動的方向作為Y方向，將與該Y方向在水平面上垂直的方向作為X方向，與Y方向在垂直平面上垂直的方向作為Z方向，而且以Z軸為中心的旋轉(zhuǎn)方向作為Θ方向。
[0059]如圖4所示，第I曝光描繪裝置2具有用于固定被曝光基板C的平板狀的平臺10。平臺10以能夠移動的方式構(gòu)成，固定在平臺10上被曝光基板C伴隨平臺10的移動而將被曝光基板C移動到曝光位置，通過后述的曝光部16照射光束而在被曝光基板C上描繪表面用圖像Cl。
[0060]平臺10被支撐在可移動地設置在桌子狀的基體11的上表面的平板狀的基臺12上。另外，在基臺12與平臺10之間設置有具有通過電動機等而構(gòu)成的移動驅(qū)動機構(gòu)(省略圖示)的移動機構(gòu)部13。平臺10通過移動機構(gòu)部13相對于基臺12以平臺10的中央部中的垂線為中心軸在Θ方向上進行旋轉(zhuǎn)移動。
[0061]在基體11的上表面上設置有一個或多個(本實施方式中為兩個)的導軌14?；_12通過導軌14而被支撐為能夠往返自由地移動，通過由電動機等構(gòu)成的平臺驅(qū)動部(后述的平臺驅(qū)動部71)而移動。并且，平臺10支撐在該可移動的基臺12的上表面，從而沿著導軌14移動。
[0062]在基體11的上表面上以跨過導軌14的方式豎立設置有門型的門部15，在該門部15上安裝有曝光部16。曝光部16由多個(本實施方式中為16個)的曝光頭16a構(gòu)成，固定配置于平臺10的移動路徑上。在曝光部16上分別連接有從光源單元17抽出的光纖18和從圖像處理單元19抽出的信號電纜20。
[0063]各曝光頭16具有作為反射型的空間光調(diào)制元件的數(shù)字微鏡器件(DMD)。另外，各曝光頭17根據(jù)從圖像處理單元19輸入的圖像數(shù)據(jù)控制DMD而對來自光源單元17的光束進行調(diào)制。各曝光頭16將該光束照射到載置于平臺10上的被曝光基板C，從而進行基于第I曝光描繪裝置2的曝光。另外，作為空間光調(diào)制元件，也可以使用液晶等透射型的空間光調(diào)制元件。
[0064]在基體11的上表面上進一步以跨過導軌14的方式設置有門部22。在門部22上安裝有用于對載置在平臺10上的被曝光基板C進行攝影的一個或多個(本實施方式中為兩個)的攝像部23。攝影部23是內(nèi)置了一次的發(fā)光時間極短的閃光燈的CCD相機等。攝影部23是為了對后述的標記形成部52、以及描繪在被曝光基板C上的校準用標記M進行攝影而設置。另外，在門部22上設置有對攝影部23的X方向的移動進行引導的引導部23a。并且，各個攝影部23被引導部23引導而在X方向上移動。另外，攝影部23相對于平臺10的相對位置是根據(jù)平臺10或攝影部23的移動計測而被存儲到系統(tǒng)控制部70具有的存儲單元。另外，在對標記形成部52中的紫外線光源51進行攝影時，在被曝光基板C沒有載置在平臺10上的狀態(tài)下對紫外線光源51進行攝影。
[0065]第I曝光描繪裝置2根據(jù)通過攝影部23攝影了標記形成部52的圖像導出紫外線光源51在被曝光基板C上的位置。另外，第2曝光描繪裝置4根據(jù)通過攝影部23攝影了校準用標記M的圖像，與第I曝光描繪裝置2中的紫外線光源51的位置進行比較而檢測其位置偏離量(Χ、Υ、Θ方向的偏離量)。該校準用標記M的位置偏離量的信息用于描繪在被曝光基板C的表面Cl上的表面用圖像Pl與描繪在背面C2上的背面用圖像Ρ2之間的位置校正中。
[0066]另外，理想的是以與后述的標記形成部52的個數(shù)(或校準用標記M的個數(shù))對應的個數(shù)設置攝影部23。但是，不限定于此，也可以設置一個攝影部23，并且通過使該攝影部23移動而對多個標記形成部52或多個校準用標記M進行攝影。
[0067]另外，在平臺10的上表面上，設置有用于將被曝光基板C的端部固定于平臺10的基板夾持機構(gòu)部。
[0068]圖5是本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的基板夾持機構(gòu)部30的分解立體圖。如圖5所示，基板夾持機構(gòu)部30具有以夾入被曝光基板C的一方的對邊的方式從上方夾持端部的一對夾持桿31a、31b。另外，基板夾持機構(gòu)部30具有以在被曝光基板C的水平面上夾入另一方的對邊的方式從上方夾持端部的一對夾持桿31c、31d。另外，基板夾持機構(gòu)部30具有使這些夾持桿31a至31d分別在水平方向上平行移動的移動單元32a至32d。夾持桿31a至31d分別配置于平臺10的上表面，移動單元32a至32d配置于平臺10的下方。
[0069]在本實施方式中，夾持桿31a、31b在Y方向上為長尺寸且在X方向上各自相對，夾持桿31c、31d在X方向上為長尺寸且在Y方向上各自相對。夾持桿31a、31b形成為長度比夾持桿31c、31d短，即使在被曝光基板C的尺寸小時，也構(gòu)成為彼此不干擾。
[0070]在本實施方式中，夾持桿31a具有金屬制(例如鋁)的夾持支架33。另外，夾持桿31a固定于夾持支架33的下表面的內(nèi)側(cè)區(qū)域(平臺10的中心側(cè)區(qū)域)，具有與被曝光基板C的表面Cl接觸的樹脂制的夾持葉片34。另外，夾持桿31a具有設置于夾持支架33的下表面的外側(cè)區(qū)域(平臺10的外側(cè)區(qū)域)的兩個支撐柱35。在平臺10上，以在表背方向上貫通且從平臺10的端部朝向中央的方式，在各邊上以預定間隔形成有一個或多個(在本實施方式中，各邊三個(共12個))在Y方向或X方向上延伸的插通孔37。另外，夾持桿31a的兩個支撐柱35插通到各邊中的三個插通孔37中的兩個插通孔37中。夾持桿31b至31d也具有與夾持桿31a相同的結(jié)構(gòu)。
[0071]移動單元32a具有支撐兩個支撐柱35的支撐板40、使該支撐板40在Z方向上滑動移動的氣缸41。氣缸41的活塞桿42的前端固定于支撐板40的下表面。氣缸41通過由電動機等構(gòu)成的驅(qū)動部而使活塞桿42下降和上升?；钊麠U42的可動范圍被限制，在下降時和上升時都停止在預定位置上。
[0072]在活塞桿42下降時，夾持桿43a與活塞桿42 —起下降，夾持桿31a被按壓到平臺
10。此處，當在平臺10上載置有被曝光基板C時，被曝光基板C通過夾持桿31a而被夾持。另一方面，在活塞桿42上升時,夾持桿31a與活塞桿42 —起上升,夾持桿31a從平臺10向Z方向分離。夾持桿31a從平臺10分開的距離比被曝光基板C的厚度大。將夾持桿31a被按壓在平臺10時的夾持桿31a的狀態(tài)稱為閉狀態(tài)(閉位置)，將從平臺10分開時的夾持桿31a的狀態(tài)稱為開狀態(tài)(開位置)。
[0073]移動單元32a進一步具有在X方向上排列的驅(qū)動輪44和從動輪45、架設在這些輪44,45上的同步帶46、使驅(qū)動輪44旋轉(zhuǎn)的帶驅(qū)動電動機47。帶驅(qū)動電動機47能夠進行正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)。在同步帶46上通過安裝部48安裝有氣缸41，當對同步帶46進行驅(qū)動時，氣缸41和支撐板40在X方向上移動，由此夾持桿31a在X方向上移動。夾持桿31a —邊使支撐柱35沿著插通孔37 —邊滑動移動，在支撐柱35位于插通孔37的外側(cè)端部的退避位置與支撐柱35位于插通孔37的內(nèi)側(cè)端部的中央位置之間移動。另外，將夾持桿31a在夾持被曝光基板C的周緣部時的夾持桿31a的位置(退避位置與中央位置之間的任意一個位置)稱為夾持位置。
[0074]移動單元32b、32c、32d具有與移動單元32a相同的結(jié)構(gòu)。其中，移動單元32b使夾持桿31b在Z方向和X方向上移動，移動單元32c使夾持桿31c在Z方向和Y方向上移動，移動單元32d使夾持桿3Id在Z方向和Y方向上移動。
[0075]圖6是用于對本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的光傳感器49的功能進行說明的放大剖視圖。如圖5和圖6所示，在移動單元32a的支撐板40上設置有用于檢測被曝光基板C的有無的反射型的光傳感器(基板端緣傳感器)49。光傳感器49安裝于支撐板40上，設置于在X方向和Y方向上與插通孔37對應的位置、即從上方觀察時光傳感器49從插通孔37暴露的位置。光傳感器49具有向上方發(fā)出檢查光的投光部、接受發(fā)射到被曝光基板C的背面C2的檢查光的受光部，在受光部接受到檢查光時輸出有基板信號，在受光部沒有接受檢查光時輸出無基板信號。
[0076]在光傳感器49的上方放置有夾持桿31a的夾持葉片34。但是，為了防止來自光傳感器49的檢查光反射到夾持葉片34而向光傳感器49返回，在與夾持葉片34的插通孔37對應的部位上形成有傾斜面50。在各移動單元32b、32c、32d的支撐板40上也設置有與移動單兀32a相同的光傳感器49。
[0077]另外，在每個支撐板40上設置有對載置在平臺10上的被曝光基板C形成校準用標記M的標記形成部52。圖7A是用于對本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的標記形成部52進行說明的主要部分放大剖視圖。另外，圖7B是用于對本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的標記形成部52進行說明的主要部分放大俯視圖。另外，在圖7B中為了說明紫外線光源51的結(jié)構(gòu)而省略了被曝光基板C。
[0078]如圖5、圖7A和圖7B所不,各個標記形成部52以與在各邊中設置有多個的插通孔37中的設置于中央的插通孔37對應的方式形成為在沿著插通孔37的方向上延伸的板狀。在標記形成部52上，在平臺10中的中央側(cè)設置有向平臺10的方向產(chǎn)生紫外線光束(短波長的光束)UV的紫外線光源51。使通過該紫外線光源51產(chǎn)生的紫外線光束UV穿過插通孔37并照射到被曝光基板C，從而在被曝光基板C的第2面(與平臺10接觸側(cè)的面)C2上描繪校準用標記M。
[0079]另外，在標記形成部52上，在平臺10中的端部的一側(cè)，多個(本實施方式中為兩個)的校正用標記53設置于能夠從平臺10的上方目視確認的同一面上。另外，這些校正用標記53形成于如下位置:在被曝光基板C被載置于平臺10并被固定于基板夾持機構(gòu)30的狀態(tài)下，不會被被曝光基板C遮擋而能夠通過插通孔37從外部目視確認。由此，能夠在通過攝影部23得到的攝影圖像中識別各個校正用標記53。
[0080]各個標記形成部52分別與移動單元32a至32d的移動連動而移動。與各個標記形成部52對應的插通孔37設置于包含各個標記形成部25的移動路徑的區(qū)域上。另外，在通過曝光部16對被曝光基板C的表面Cl進行曝光的期間，紫外線光源51也能夠以貫通沒有插通有支撐柱35的插通孔37的方式產(chǎn)生紫外線光束UV。另外，紫外線光束UV的照射時間可以根據(jù)涂布到被曝光基板C的感光材料而分別設定為最佳的時間。
[0081]另外，在各個標記形成部52中，以紫外線光源51與校正用標記53成為彼此已知的位置關系的方式設置，并且預先計測各個位置關系而存儲到系統(tǒng)控制部70具有的存儲單元。在紫外線光源51位于被曝光基板C的背部時等，存在不能通過攝影部23對紫外線光源51進行攝影的情況。在此時，通過對各個校正用標記53進行攝影而計測位置，能夠從所計測的各個校正用標記53的位置和所存儲的紫外線光源51與校正用標記53之間的位置關系導出紫外線光源51的位置。
[0082]另外，第I曝光描繪裝置2具有多個紫外線光源51，但是第2曝光描繪裝置4無需一定具有多個紫外線光源51。在第I曝光描繪裝置2上設置有多個紫外線光源，并且也可以通過使該紫外線光源移動而對多個校準用標記M進行描繪。
[0083]第I曝光描繪裝置2具有將通過第I傳送裝置5傳送來的被曝光基板C傳入到第I曝光描繪裝置2的內(nèi)部的自動搬運手(以下，AC手)62。AC手62形成為平板狀，并且能夠與水平面平行地在水平方向和垂直方向上移動。另外，在AC手62的下表面設置有:吸附機構(gòu)，具有吸引空氣而通過真空吸附吸附保持被曝光基板C的吸附部63 ；以及按壓機構(gòu)，具有向下方按壓被曝光基板C的上下移動自由的按壓部64。
[0084]AC手62通過吸附機構(gòu)吸附保持載置在第I傳送裝置5上的未曝光的被曝光基板C而向上方吊起，將所吊起的被曝光基板C載置在平臺10的上表面的預定的位置。在載置被曝光基板C時，通過按壓機構(gòu)將被曝光基板C按壓到平臺10并且解除吸附部63的吸附，從而平臺10的真空吸附工作，被曝光基板C穩(wěn)定地固定在平臺10上。
[0085]另外，AC手62通過吸附機構(gòu)吸附保持載置在平臺10的上表面的曝光完成的被曝光基板C而向上方吊起。另外，AC手62在吸附保持了所吊起的被曝光基板C的狀態(tài)下移動到第2傳送裝置6，并且解除吸附機構(gòu)的吸附，從而使被曝光基板C移動到第2傳送裝置6。
[0086]根據(jù)本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I的基板夾持機構(gòu)部30，可靠地夾持被曝光基板C的周緣部，能夠?qū)Ρ黄毓饣錍的翹曲和變形進行矯正。另外，基板夾持機構(gòu)部30構(gòu)成為，使紫外線光源51和光傳感器59與夾持桿31a至31d —起移動。因此，由于不需要用于紫外線光源51和光傳感器59的移動機構(gòu)，因此能夠抑制基板夾持機構(gòu)部30的制造成本。
[0087]圖8是示出本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I的反轉(zhuǎn)裝置4中的反轉(zhuǎn)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)主視圖。如圖8所示,反轉(zhuǎn)裝置4具有棍單元4b,該棍單元4b具有排列成兩列并在各列間夾入被曝光基板C的多個輥4a。輥單元4b通過支撐棒4c而被支撐，在夾入了被曝光基板C時，在通過支撐棒4c提起的狀態(tài)下以設置于輥單元4b的中央部的旋轉(zhuǎn)軸4d為中心進行旋轉(zhuǎn)。在輥單元4b旋轉(zhuǎn)了 180度之后，被曝光基板C從輥單元4b解放，從而使被曝光基板C的表背反轉(zhuǎn)。另外，反轉(zhuǎn)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)不限定于上述結(jié)構(gòu)，也可以使用提起被曝光基板C的一端使被曝光基板C旋轉(zhuǎn)180度而使被曝光基板C的表背反轉(zhuǎn)的方法、以及其他以往公知的方法。
[0088]圖9是示出本實施方式的第I曝光描繪裝置2和第2曝光描繪裝置4的電氣系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
[0089]如圖9所示，在第I曝光描繪裝置2上設置有與裝置各部分別電連接的系統(tǒng)控制部70，該系統(tǒng)控制部70總括地控制各部分。系統(tǒng)控制部70控制AC手62而進行被曝光基板C向平臺10的傳入動作和排出動作。另外，系統(tǒng)控制部70控制平臺驅(qū)動部71而進行平臺10的移動，并且通過攝影部23進行校準用標記M的攝影而對圖像的描繪位置進行調(diào)整。另外，系統(tǒng)控制部70控制光源單元17和圖像處理單元19而對曝光頭16a進行曝光處理。操作裝置73具有顯示部和輸入部，例如，在輸入被曝光基板C的外形尺寸時被操作。
[0090]基板載置位置確定部72將針對平臺10的被曝光基板C的載置位置確定在適當?shù)呐渲梦恢?以下，稱為“適當載置位置”。)。另外，能夠通過在Y方向中對攝影部23的攝像定時進行調(diào)整而使校準用標記M位于攝影區(qū)域的中央。因此，Y方向中的適當載置位置也可以設定于平臺10上的任意一個位置。另外，在本實施方式中，X方向上的適當載置位置被設定于被曝光基板C的中心與平臺10的中心一致的位置。
[0091 ] 在基板載置位置確定部72中，根據(jù)通過在進行針對被曝光基板C的曝光動作之前進行的準備動作而得到的信息，算出X方向上的基板的適當載置位置(校準用標記M的適當位置)。在該準備動作中，系統(tǒng)控制部70在X方向上將被曝光基板C載置在平臺10的適當位置上的基礎上進行通過攝影部23對校準用標記M進行攝影的控制。另外，在Y方向上使被曝光基板C的中心與平臺10的中心一致，以平臺10的一方的相對的邊與被曝光基板C的一方的相對的邊各自平行的方式載置。另外，系統(tǒng)控制部70算出X方向上的攝影區(qū)域的中心位置與校準用標記M的位置之間的偏離量。并且，系統(tǒng)控制部70根據(jù)該偏離量算出X方向上的基板的適當載置位置。在準備動作中，對多個(例如五個)基板進行該處理，從而能夠更正確地求出適當?shù)妮d置位置。另外，在該準備動作中，還確定攝影部23的攝影定時。所算出的基板的適當載置位置信息和攝影定時信息發(fā)送到系統(tǒng)控制部70而存儲在系統(tǒng)控制部70具有的存儲單元中。
[0092]移動控制部74根據(jù)系統(tǒng)控制部70的指示而對攝影部23的移動驅(qū)動進行控制。在本實施方式中，移動控制部74以如下方式控制攝影部23的移動驅(qū)動:在平臺10的移動時，多個標記形成部52、或描繪在被曝光基板C上的多個校準用標記M穿過多個攝影部23的各個攝影區(qū)域。
[0093]移動控制部74根據(jù)系統(tǒng)控制部70的指示而分別控制移動單元32a至32d的驅(qū)動。移動控制部74對來自移動單元32a至32d的光傳感器49的信號(有基板信號或無基板信號)進行監(jiān)視。另外，移動控制部74根據(jù)該信號對移動單元32a至32d的氣缸41和帶驅(qū)動電動機47的驅(qū)動進行控制,使夾持桿31a至31d進行夾持動作。
[0094]在移動控制部74中，根據(jù)從操作裝置73輸入的基板尺寸信息、和通過準備動作算出的基板的適當載置位置信息，推測平臺10上的區(qū)域中的載置有被曝光基板C的區(qū)域。另夕卜，移動控制部74根據(jù)該推測的區(qū)域在高速/低速之間切換夾持桿31a至31d的移動速度。具體地講，在平臺10上，在比從被曝光基板C的周緣分離了距離LI (例如40mm)的位置(參照圖6)更外側(cè)設定為高速移動，在比該位置更內(nèi)側(cè)設定為低速移動。由此，在低速移動時進行被曝光基板C的檢測，因此能夠可靠地檢測被曝光基板C。另外，將從被曝光基板C的周緣分開距離LI的位置稱為減速位置(切換點)。夾持桿31a至31d停止在從檢測到被曝光基板C的位置向內(nèi)側(cè)進入預定距離(例如5_)的夾持位置，在該夾持位置處進行夾持。該夾持位置成為夾持桿31a至31d的支撐柱35不與被曝光基板C的端緣抵接的位置。
[0095]當在夾持桿31a至31d高速移動時檢測到被曝光基板C時，移動控制部74判斷為實際的基板尺寸比所輸入的基板尺寸大。此時，移動控制部74使夾持桿31a至31d的移動停止，并且向系統(tǒng)控制部70輸出異常信號。系統(tǒng)控制部70受理異常信號，使操作裝置73的顯示部顯示基板尺寸大的意思的錯誤信息。另外，也可以代替顯示錯誤信息，而產(chǎn)生警告曰?
[0096]另外，在夾持桿31a至31d低速移動且未檢測到被曝光基板C而低速移動持續(xù)了預定時間時，移動控制部74判斷為實際的基板尺寸比所輸入的基板尺寸小、或者沒有載置基板。此時，移動控制部74使夾持桿31a至31d的移動停止，并且向系統(tǒng)控制部70輸出異常信號。系統(tǒng)控制部70受理異常信號，使操作裝置73的顯示部顯示基板尺寸小、或者沒有載置被曝光基板C的意思的錯誤信息。
[0097]圖10是示出在本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I中平臺10的移動方向與攝影部23的移動方向之間的關系的圖。如圖10所示，攝影部23的移動方向為在水平方向上對于平臺10的移動方向(Y方向)垂直的方向(X方向)。在曝光描繪系統(tǒng)I中，在通過攝影部23對多個紫外線光源51或描繪在被曝光基板C上的校準用標記M進行攝影時，通過使平臺10移動而對Y方向的位置進行控制。另外，在曝光描繪系統(tǒng)I中，通過使攝影部23移動而對X方向的位置進行控制。由此，以多個標記形成部52或校準用標記M包含在攝影部23的攝影區(qū)域中的方式控制各自的相對位置。另外，攝影部23的移動方向不限定于X方向。SP，只要能夠?qū)擞浶纬刹?2或描繪在被曝光基板C上的校準用標記M進行攝影即可。因此，攝影部23的移動方向可以是X方向和Y方向雙方，或者，也可以是X方向和Y方向以外的其他方向。
[0098]圖11是示出本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I的紫外線光源51的可動范圍R的圖。如圖11所示，紫外線光源51構(gòu)成為，能夠從平臺10的端部(在本實施方式中，平臺10的邊部的中央部)向中央部以直線狀僅移動預定距離。在紫外線光源51對被曝光基板C描繪校準用標記M時，在平臺10上載置了被曝光基板C的狀態(tài)下，紫外線光源51產(chǎn)生紫外線光束UV。此時，紫外線光源51移動到對被曝光基板C的端部描繪了校準用標記M的位置。紫外線光源51的可動范圍R不限定于此，可以是如下范圍:包含從能夠?qū)τ谧鳛槠毓鈱ο蟮淖钚〕叽绲幕迕枥L校準用標記M的位置到最大尺寸的基板的端面的位置。優(yōu)選是能夠?qū)τ谧鳛槠毓鈱ο蟮乃谐叽绲幕迕枥L校準用標記M的最小的范圍。
[0099]接著，對本實施方式的作用進行說明。
[0100]圖12是示出本實施方式的曝光前處理程序的處理流程的流程圖，該程序被預先存儲于在第I曝光描繪裝置2的系統(tǒng)控制部70中具備的作為記錄介質(zhì)的ROM的預定區(qū)域。另外，圖13是用于說明本實施方式的曝光前處理的概略主視圖。
[0101]第I曝光描繪裝置2的系統(tǒng)控制部70在預先確定的定時(在本實施方式中，在被曝光基板C被載置到平臺10的定時)執(zhí)行該曝光前處理程序。
[0102]當被曝光基板C載置到平臺10時，在步驟SlOl中，系統(tǒng)控制部70使針對被曝光基板C的紫外線光源51的位置移動。在本實施方式中，紫外線光源51與基板夾持機構(gòu)部30的移動單元32a至32d的移動連動而移動。因此，系統(tǒng)控制部70對移動單元32a進行控制，從而使開狀態(tài)的夾持桿31a至31d從平臺10的端部向中央部的移動開始而使紫外線光源51的位置移動。另外，在從光傳感器49接收了有基板信號時，系統(tǒng)控制部70在所接收的位置或接收之后立刻移動了預定距離的位置處使夾持桿31a至31d以閉狀態(tài)轉(zhuǎn)移。由此，夾持桿31a至31d在與平臺10之間夾入了被曝光基板C的狀態(tài)下被固定，伴隨于此紫外線光源51的位置也被固定。
[0103]另外，在不進行基于夾持桿31a至31d的非曝光基板C的夾入時和通過與夾持桿31a至31d不同的移動機構(gòu)使紫外線光源51移動時，在非曝光基板C被載置在平臺10之前移動到預定位置。
[0104]在步驟S103中，系統(tǒng)控制部70通過攝影部23對與多個紫外線光源51對應的校正用標記53的各自進行攝影，通過上述方法從該攝影圖像導出紫外線光源51的位置。另夕卜，對位置進行計測的方法不限定于上述方法，也可以是如下的方法:在被曝光基板C載置到平臺10之前等，能夠通過攝影部23對紫外線光源51進行攝影時，對紫外線光源51進行攝影，根據(jù)該攝影圖像對紫外線光源51的位置進行計測。
[0105]另外，在步驟S105中，系統(tǒng)控制部70設定與平臺10上對應的坐標系(以下，稱為“平臺坐標系”。)，結(jié)束曝光前處理程序。如圖13所示，在曝光前處理的階段中，在平臺坐標系中在已知的位置上配置各自的紫外線光源51。
[0106]第I曝光描繪裝置2的系統(tǒng)控制部70在曝光前處理完成且被曝光基板C被載置在平臺10上之后執(zhí)行第I曝光處理。圖14是示出本實施方式的第I曝光處理程序的處理流程的流程圖，該程序被預先存儲于在第I曝光描繪裝置2的系統(tǒng)控制部70中具備的作為記錄介質(zhì)的ROM的預定區(qū)域。另外，圖15是用于說明本實施方式的第I曝光處理的概略主視圖。
[0107]在步驟S201中，系統(tǒng)控制部70根據(jù)在步驟S103中計測的紫外線光源51的位置，設定作為用于對被曝光基板C描繪表面用圖像Pl的坐標系的圖像坐標系。如圖15所示，在第I曝光處理的階段中，根據(jù)針對平臺坐標系的紫外線光源51的位置設定圖像坐標系。也可以在任意的圖像坐標系中導入紫外線光源51的位置。
[0108]在步驟S203中，系統(tǒng)控制部70根據(jù)在步驟S201中設定的圖像坐標系使平臺10移動到曝光位置。此時，系統(tǒng)控制部70使平臺10沿著導軌14在Y方向上移動。另外，系統(tǒng)控制部70使平臺10移動到基于曝光頭16a的曝光對象位置與在被曝光基板C中描繪表面用圖像Pl時的開始位置一致的位置。
[0109]在步驟S205中，系統(tǒng)控制部70開始各曝光頭16a的曝光，在被曝光基板C的表面Cl中的、基于在步驟S201中設定的圖像坐標系的位置描繪表面用圖像P1。另外，在步驟S207中，系統(tǒng)控制部20使紫外線光源51產(chǎn)生紫外線光束UV，在被曝光基板C的背面C2描繪校準用標記M。另外，步驟205的對于被曝光基板C的表面Cl的處理與步驟S207的對于被曝光基板C的背面C2的處理是不妨礙彼此的處理。即，第I曝光描繪裝置2能夠同時并行地進行上述各處理，因此也可以同時進行步驟S205和步驟S207的處理。或者，第I曝光描繪裝置2也可以在步驟S205的處理之前進行步驟S207的處理。如圖15所示，根據(jù)圖像坐標系，在被曝光基板C的表面Cl描繪表面用圖像Pl，在背面C2描繪校準用標記M。
[0110]如上所述，在針對被曝光基板C的表面Cl的表面用圖像Pl的描繪處理中在背面C2描繪校準用標記M，從而無需另外進行描繪校準用標記M的處理。因此，不會對曝光描繪處理周期性地產(chǎn)生影響，能夠?qū)⑿视脴擞汳的烘烤的保持時間保持得長。其結(jié)果，能夠提高對于背面C2的描繪處理中的、校準用標記M的攝影圖像的對比度，因此能夠抑制校準用標記M的識別偏差。
[0111]另外，校準用標記M是在通過紫外線光束UV照射之后被烘烤而在被曝光基板C中以能夠目視確認的方式顯示，通過攝影部23進行攝影，從而能夠確認其位置和形狀。
[0112]在步驟S209中，系統(tǒng)控制部70使平臺10移動到載置有被曝光基板C的位置，結(jié)束第I曝光處理程序。當平臺10移動到被曝光基板C的載置位置時，被曝光基板C吸附保持到AC手62而移動到第2傳送裝置6。另外，被曝光基板C通過第2傳送裝置6而被傳送到反轉(zhuǎn)裝置3，在通過反轉(zhuǎn)裝置3反轉(zhuǎn)了表背的基礎上通過第3傳送裝置7傳送到第2曝光描繪裝置4。
[0113]第2曝光描繪裝置4的系統(tǒng)控制部70在預先確定的定時(在本實施方式中，被曝光基板C載置到平臺10的定時)執(zhí)行該曝光前處理程序。
[0114]圖16是示出本實施方式的第2曝光處理程序的處理流程的流程圖，該程序存儲于在第2曝光描繪裝置4的系統(tǒng)控制部70中具備的作為記錄介質(zhì)的ROM的預定區(qū)域。另外，圖17是用于說明本實施方式的第2曝光處理的說明的概略主視圖。
[0115]在步驟S301中，系統(tǒng)控制部70使載置有被曝光基板C的平臺10移動到在步驟S207中描繪的校準用標記M的整體包含于基于攝像裝置23的攝像圖像中的位置。此時，系統(tǒng)控制部70使平臺10沿著導軌14在Y方向上移動，并且使平臺10移動到設置有攝影部23的位置與設置有校準用標記M的位置在Y方向上大致一致的位置。
[0116]另外，基于攝影部23的攝影區(qū)域是在被曝光基板C的背面C2中設置有校準用標記M的區(qū)域，比包含被曝光基板C的設置誤差的區(qū)域大。由此，即使在被曝光基板C的設置位置從被預先設定的設置位置偏離的情況下，只要將以處于校準用標記M的中心部的方式設定的位置作為中心進行攝影，則包含于區(qū)域攝影部23的攝影區(qū)域中。
[0117]在步驟S303中，系統(tǒng)控制部70根據(jù)通過攝像部23對校準用標記M進行攝像的攝像圖像計測校準用標記M的位置。另外，在步驟S305中，系統(tǒng)控制部70根據(jù)在步驟S303中計測的校準用標記M的位置，設定圖像坐標系，該圖像坐標系用于確定對被曝光基板C的背面C2描繪背面用圖像P2的位置。此時，圖像坐標系被設定為，與在步驟S201中設定的圖像坐標系對應。即，被設定為，在步驟S103中計測的紫外線光源51的位置與表面用圖像Cl的描繪位置的相對位置、與校準用標記M的位置與背面用圖像C2的描繪位置的相對位置彼此對應。如圖17所示，在第2曝光處理的階段中，根據(jù)校準用標記M的位置設定圖像坐標系，因此還存在平臺坐標系與圖像坐標系的相對位置與第I曝光處理的階段不同。
[0118]在步驟S307中，系統(tǒng)控制部70根據(jù)在步驟S305中設定的圖像坐標系使平臺10移動到曝光位置。此時，系統(tǒng)控制部70使平臺10沿著導軌14在Y方向上移動。另外，系統(tǒng)控制部70使平臺10移動到基于曝光頭16a的曝光對象位置與在被曝光基板C中描繪背面用圖像P2時的開始位置一致的位置。
[0119]在步驟S309中，系統(tǒng)控制部70開始各曝光頭16a的曝光，在被曝光基板C的背面C2描繪背面用圖像P2。如圖17所示，根據(jù)圖像坐標系，在被曝光基板C的背面C2描繪背面用圖像P2。
[0120]在步驟S311中，系統(tǒng)控制部70使平臺10移動到載置有被曝光基板C的位置，結(jié)束第2曝光處理程序。當平臺10移動到被曝光基板C的載置位置時，在表面Cl和背面C2這兩面描繪了圖像的被曝光基板C被吸附保持到AC手62而移動到第4傳送裝置8，通過第4傳送裝置8而被傳送。
[0121]圖18是示出在本實施方式的曝光描繪系統(tǒng)I中被曝光基板C的尺寸與校準用標記M的描繪位置之間的關系的概略主視圖。在本實施方式中，夾持桿31a至31d通過基板夾持機構(gòu)部30的移動單元32a至32d而移動時，與該移動連動而紫外線光源51移動。因此，如圖18所示，光傳感器49探測被曝光基板C的端部而夾持桿31a至31d固定被曝光基板C的端部，從而紫外線光源51自動地固定于對被曝光基板C的端部照射紫外線光束UV的位置。另外，能夠自由地設定夾持桿31a至31d的位置與紫外線光源51之間的位置關系。由此，在本實施方式中，不依賴于被曝光基板C的尺寸，能夠在被曝光基板C的預先確定的位置上描繪校準用標記M。
[0122]另外，在步驟S103中對紫外線光源51的位置進行計測的方法根據(jù)所求出的計測精度而不同，基板夾持機構(gòu)部30的移動單元32a至32d具有步進電動機，也可以通過該步進電動機的脈沖而進行計測?；蛘撸部梢允且苿訂卧?2a至32d具有旋轉(zhuǎn)編碼器而通過旋轉(zhuǎn)編碼器的脈沖計測位置。或者，也可以在第I曝光描繪裝置2的幾個地方設置光學式的距離傳感器或利用了超聲波的距離傳感器，通過這些距離傳感器計測位置。
[0123]另外，在本實施方式中，設置有兩個以上圓狀的校正用標記53，通過該兩個以上的校正用標記53與紫外線光源51的位置關系而導出紫外線光源51的位置。但是，校正用標記53的形狀和個數(shù)不限定于此，能夠任意地設定校正用標記的形狀。另外，在校正用標記53的形狀為箭頭型的標記等表示位置和紫外線光源51的方向的標記時，即使所設置的校正用標記53為一個，也能夠從該校正用標記53的位置和方向?qū)С鲎贤饩€光源51的位置。
[0124]另外，在通過到攝影圖像中紫外線光源51的位置的理論值的偏離量來計測紫外線光源51的位置時，優(yōu)選紫外線光源51位于攝像部23的焦點深度內(nèi)。但是，在紫外線光源51不在攝像部23的焦點深度內(nèi)時，可以以紫外線光源51位于攝像部23的焦點深度內(nèi)的方式變更平臺10的高度(Z方向上的位置)。
[0125]另外，在本實施方式中，雖然描繪兩個校準用標記M，但是不限定于此，校準用標記M的數(shù)量只要是兩個以上則可以任意地設定。校準用標記M的數(shù)量越多，越能夠使被曝光基板C的表背中的校準精度提高。
[0126]另外，在本實施方式中，使用紫外線光源51在被曝光基板C上描繪校準用標記M，但不限定于此，通過噴涂或轉(zhuǎn)印墨水而進行描繪。
[0127]另外，在本實施方式中，紫外線光源51以能夠在X方向或Y方向上移動的方式設置，但不限定于此，也可以使用能夠在任意的方向上移動的紫外線光源。另外，紫外線光源的移動路徑可以是橫穿被曝光基板C的中央部的路徑，也可以是橫穿被曝光基板C的任意位置的路徑。
[0128]在本實施方式中，紫外線光源51與夾持機構(gòu)部30的移動單元32a至32d連動而移動，但不限定于此，也可以通過由電動機等構(gòu)成的移動機構(gòu)使紫外線光源51分別獨立地移動。此時，預先存儲被曝光基板C的尺寸和平臺10中的載置位置，紫外線光源51也可以被設定為根據(jù)所存儲的尺寸和載置位置而移動到預先確定的位置。
[0129]另外，當在步驟S205中表面用圖像Pl的描繪失敗時，可以不進行步驟S207的處理(校準用標記M的描繪處理)而轉(zhuǎn)移到步驟S209的處理。此時，在表面用圖像Pl的描繪失敗的被曝光基板C上沒有描繪有校準用標記M。因此，用戶對每個被曝光基板C確認校準用標記M的有無，從而能夠判別表面用圖像Pl的描繪成功還是失敗。
【權利要求】
1.一種曝光描繪裝置，具有: 第I曝光單元，通過對載置在平臺上的印刷布線基板的第I面進行曝光而在所述第I面上描繪電路圖案； 標記形成單元，設置為能夠相對于所述平臺相對地移動，在所述印刷布線基板的所述第I面上第I面用的電路圖案的描繪處理中，在與所述第I面相反的第2面形成預先確定的多個標記； 計測單元，對所述標記形成單元的位置進行計測； 檢測單元，對由所述標記形成單元形成在所述印刷布線基板的所述第2面上的多個標記的位置進行檢測；以及 第2曝光單元，以由所述計測單元計測的所述標記形成單元的位置和由所述檢測單元檢測的所述多個標記的位置為基準，通過對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而在所述第2面上描繪電路圖案。
2.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述標記形成單元被設置為，能夠相對于以載置在所述平臺上的所述印刷布線基板的任意一邊為基準預先確定的方向、和與該預先確定的方向交叉的方向中的至少一方的方向移動。
3.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述標記形成單元能夠移動的范圍為能夠?qū)Τ叽绮煌亩喾N類的印刷布線基板形成該標記的范圍。
4.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述曝光描繪裝置還具有特定單元，該特定單元對所述印刷布線基板的尺寸進行特定， 所述標記形成單元根據(jù)由所述特定單元特定的尺寸而分別形成所述多個標記。
5.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述計測單元具有對所述標記形成單元進行攝影的攝影單元，使用該攝影單元的攝影圖像對所述標記形成單元的各個位置進行計測。
6.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述標記形成單元形成在如下位置:即使在所述平臺上載置有印刷布線基板的狀態(tài)下，也能夠通過所述計測單元對相對于所述標記形成單元位于已知的相對位置的校正用標記進行攝影， 所述計測單元具有攝影單元，該攝影單元以所述校正用標記分別被攝影的方式對所述標記形成單元進行攝影，所述計測單元使用該攝影單元的攝影圖像對所述標記形成單元的各個位置進行計測。
7.根據(jù)權利要求5所述的曝光描繪裝置，其中， 設置有多個所述攝影單元，所述攝影單元分別對所述標記形成單元中的一個以上進行攝影。
8.根據(jù)權利要求5所述的曝光描繪裝置，其中， 所述攝影單元被設置為與描繪有電路圖案的位置存在已知的關系，并能夠相對于所述平臺移動。
9.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述標記形成單元通過短波長的光對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而形成所述標記。
10.根據(jù)權利要求1所述的曝光描繪裝置，其中， 所述標記形成單元通過使墨水附著到所述印刷布線基板的第2面而形成所述多個標記。
11.一種曝光描繪方法，用于曝光描繪裝置，該曝光描繪裝置具有--第I曝光單元，通過對載置在平臺上的印刷布線基板的第I面進行曝光而在所述第I面上描繪電路圖案；標記形成單元，設置為能夠相對于所述平臺相對地移動，在與所述第I面相反的第2面形成預先確定的多個標記；計測單元，對所述標記形成單元的位置進行計測；檢測單元，對由所述標記形成單元形成在所述印刷布線基板的所述第2面上的多個標記的位置進行檢測；以及第2曝光單元，通過對所述印刷布線基板的所述第2面進行曝光而在所述第2面上描繪電路圖案，所述曝光描繪方法具有如下步驟: 控制所述計測單元以使所述標記形成單元的位置被計測； 使所述標記形成單元向預先確定的位置移動； 控制所述第I曝光單元和所述標記形成單元，以在所述印刷布線基板的所述第I面上描繪第I面用的電路圖案，而且在該電路圖案的描繪處理中，與所述第I面用的電路圖案對應而在所述第2面上形成多個標記；以及 控制所述第2曝光單元，以由所述計測單元計測的所述標記形成單元的位置和由所述檢測單元檢測的所述多個標記的位置為基準而在所述第2面上描繪所述第2面用的電路圖案。
【文檔編號】H05K3/00GK104185817SQ201380016100
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2013年1月9日 優(yōu)先權日:2012年3月30日
【發(fā)明者】橋口昭浩, 菊池浩明, 鶴井弘則 申請人:株式會社阿迪泰克工程