專利名稱：殼體及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有藍(lán)色與金屬質(zhì)感的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)：
隨著科技的不斷進(jìn)步，手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、 及計(jì)算機(jī)等各式電子裝置也迅速發(fā)展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。然而，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金屬質(zhì)感。另一方面，由于真空鍍膜技術(shù)本身較為復(fù)雜而不易精密操控，現(xiàn)有技術(shù)中于殼體表面形成的金屬真空鍍膜層的色彩有限，與烤漆、陽極處理等工藝相比，真空鍍膜層的顏色不夠豐富，限制了其在裝飾鍍膜領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種具有藍(lán)色及金屬質(zhì)感的殼體。另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。一種殼體，包括基體、結(jié)合層以及色彩層，所述結(jié)合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結(jié)合層的表面，所述色彩層為&-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45 至-35之間。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；在該基體的表面磁控濺射結(jié)合層；在該結(jié)合層的表面磁控濺射色彩層，磁控濺射所述色彩層的工藝參數(shù)為以鋯為靶材，以氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，氬氣為工作氣體，氮?dú)馀c氬氣總的流量為150-700Sccm，氮?dú)獾姆謮赫伎偟臍怏w壓強(qiáng)的20 40%;所述色彩層為&-N膜，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45至-35之間。所述殼體的制備方法，在形成色彩層時(shí)，采用鋯靶作為靶材，通過對(duì)反應(yīng)氣體氮?dú)夂凸ぷ鳉怏w氬氣總流量的控制和氮?dú)夥謮旱目刂疲瑥亩鴮?shí)現(xiàn)所需的色彩層中各成分的比例關(guān)系及各成分間的微觀鍵合結(jié)構(gòu)，從而達(dá)到使色彩層呈現(xiàn)出藍(lán)色的目的。以該方法所制得的殼體可呈現(xiàn)出具吸引力的藍(lán)色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，大大地提高了產(chǎn)品的外觀競(jìng)爭(zhēng)力。


圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明較佳實(shí)施例制作所述殼體的流程圖。主要元件符號(hào)說明殼體10基體11結(jié)合層 13色彩層1具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的殼體10可為一手機(jī)的殼體。該殼體10包括基體11、結(jié)合層13及色彩層15。該結(jié)合層13設(shè)置于基體11的表面，該色彩層15設(shè)置于結(jié)合層13的表面?；w11可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。結(jié)合層13以磁控濺射的方式形成于基體11的表面。該結(jié)合層13為鈦金屬膜，其厚度在0. 1 0.3μπι之間。該結(jié)合層13的顏色為不影響色彩層顏色的淺色調(diào)，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。色彩層15為&-Ν膜，其以磁控濺射的方式形成。該色彩層15的厚度在0. 3 0.5μπι之間。該色彩層15呈現(xiàn)出藍(lán)色，其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45至-35之間。請(qǐng)一并參閱圖1與圖2，本發(fā)明殼體10的制作方法包括以下步驟提供基體11。該基體11可以為金屬材料或玻璃、塑料等非金屬材料。對(duì)該基體11進(jìn)行預(yù)處理。該預(yù)處理可包括常規(guī)的對(duì)基體11進(jìn)行化學(xué)除油、除蠟、 酸洗、超聲波清洗及烘干等步驟。在基體11的表面形成結(jié)合層13。該結(jié)合層13為鈦金屬膜，其可采用磁控濺射的方式形成。形成該結(jié)合層13的具體操作方法可為將基體11固定于一磁控濺射鍍膜機(jī)(圖未示)的轉(zhuǎn)架上，抽真空該鍍膜機(jī)的腔體至3X 10_5Τοπ·，并加熱該腔體至120°C左右，通入流量為400 450sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的氬氣(工作氣體)；開啟鈦靶材的電源， 設(shè)定鈦靶材電源功率為8 10kw，對(duì)基體11施加0 -200V的偏壓，占空比為0 100%， 并設(shè)置轉(zhuǎn)架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為3轉(zhuǎn)每分鐘(revolution per minute，rpm)，沉積所述結(jié)合層13。 沉積所述結(jié)合層13的時(shí)間可為5 10分鐘。在該結(jié)合層13的表面形成色彩層15。在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，形成色彩層15 的具體操作方法可為在沉積所述結(jié)合層13后，向所述磁控濺射鍍膜機(jī)中通入反應(yīng)氣體氮?dú)饧皻鍤?，并設(shè)定氮?dú)馀c氬氣總的流量為150-700sCCm，且氮?dú)獾姆謮赫伎偟臍怏w壓強(qiáng)的 20 40% ；設(shè)置鋯靶材電源功率為8 12kw，調(diào)節(jié)對(duì)基體11的偏壓至0 -250V、占空比為0 100%，轉(zhuǎn)架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為2. 5 3. 5轉(zhuǎn)每分鐘(revolution per minute, rpm)，沉積所述色彩層15。沉積色彩層15的時(shí)間可為20 40分鐘。該色彩層15為&-N膜，其于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a* 坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45至-35之間。本發(fā)明殼體10可為筆記型計(jì)算機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理等電子裝置的殼體，或?yàn)槠渌b飾類產(chǎn)品的殼體。
相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述殼體10的制備方法，是通過對(duì)靶材的選取及對(duì)反應(yīng)氣體氮?dú)饬髁康脑O(shè)計(jì)，從而達(dá)到使色彩層15呈現(xiàn)出藍(lán)色的目的。應(yīng)該指出，上述實(shí)施方式僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化。這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種殼體，包括基體、結(jié)合層以及色彩層，所述結(jié)合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結(jié)合層的表面，其特征在于所述色彩層為&-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于 CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45至-35之間。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述結(jié)合層為鈦金屬膜，其厚度0.1 0. 3 μ m0
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為0.3 0. 5 μ m。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述基體為金屬材料、玻璃、或塑料。
5.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面磁控濺射一結(jié)合層；在該結(jié)合層的表面磁控濺射一色彩層，磁控濺射所述色彩層的工藝參數(shù)為以鋯為靶材，以氮?dú)饧皻鍤鉃楣ぷ鳉怏w，其中氮?dú)馀c氬氣總的流量為150-700sCCm，氮?dú)獾姆謮赫伎偟臍怏w壓強(qiáng)的20 40% ；所述色彩層為&-N膜，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45 至-35之間。
6.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于所述結(jié)合層為鈦金屬膜，形成該結(jié)合層的工藝參數(shù)為設(shè)置鈦靶的電源功率功率為8-lOkw，對(duì)基體施加的偏壓為 0 -200V,占空比為0 100%，鍍膜時(shí)間為5 10分鐘。
7.如權(quán)利要求5所述的殼體的制作方法，其特征在于形成該色彩層的工藝參數(shù)為設(shè)置鋯靶的電源功率功率為8-12kw，對(duì)基體施加的偏壓為0 -250V，占空比為0 100 %，鍍膜時(shí)間為20 40分鐘。
全文摘要
一種殼體，該殼體包括基體、結(jié)合層以及色彩層，所述結(jié)合層形成于基體的表面，所述色彩層形成于結(jié)合層的表面，所述色彩層為Zr-N膜，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)值介于40至50之間，a*坐標(biāo)值介于-25至-15之間，b*坐標(biāo)值介于-45至-35之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。該殼體呈現(xiàn)出藍(lán)色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色。
文檔編號(hào)H05K5/00GK102413650SQ20101028932
公開日2012年4月11日 申請(qǐng)日期2010年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月24日
發(fā)明者萬自成, 張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司