專(zhuān)利名稱(chēng)：在光敏材料上沉積材料的制作方法
背景電子器件，例如集成電路、太陽(yáng)能電池和/或電子顯示器，可包括例如一個(gè)或多個(gè)襯底組成，其中，所述一個(gè)或多個(gè)襯底可具有一個(gè)或多個(gè)形成于所述襯底上的傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)。形成諸如這些襯底的方法可能有所變化，但通常采用可能比較耗時(shí)的昂貴的方法和/或產(chǎn)生不太理想結(jié)果的方法。
附圖簡(jiǎn)介在本說(shuō)明書(shū)的結(jié)論部分，特別指出并清楚對(duì)發(fā)明主題提出了權(quán)利要求。然而就操作的組織與方法而言，通過(guò)參考以下結(jié)合附圖所進(jìn)行的詳細(xì)描述，可以更好地理解根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題及其目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，在附圖中

圖1a是襯底的一個(gè)實(shí)施例的側(cè)視圖，其上面形成了一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征；圖1b是顯示了可用于在襯底上形成傳導(dǎo)特征的系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)施例的簡(jiǎn)圖；圖2是顯示了可用于在襯底上形成傳導(dǎo)特征的系統(tǒng)的另一實(shí)施例的簡(jiǎn)圖；圖3是顯示了可用于在襯底上形成傳導(dǎo)特征的系統(tǒng)的又一實(shí)施例的簡(jiǎn)圖；和圖4是流程圖，其顯示了在襯底上形成一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的方法的一個(gè)實(shí)施例。
詳細(xì)描述在以下詳細(xì)描述中，為了提供對(duì)根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的全面理解，而闡述了許多特定的細(xì)節(jié)。然而，本領(lǐng)域中的技術(shù)人員應(yīng)該懂得，可在沒(méi)有這些特定細(xì)節(jié)的條件下實(shí)踐根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題。在其它情況下，不需要詳細(xì)地描述眾所周知的方法、步驟、部件和/或電路，從而不會(huì)使根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題含糊不清楚。
電子器件，例如半導(dǎo)體器件和/或顯示器件，可包括例如至少一個(gè)襯底。所述至少一個(gè)襯底可具有一個(gè)或多個(gè)形成于襯底上的傳導(dǎo)特征。這些傳導(dǎo)特征可包括圖案化(patterned)的導(dǎo)線，通常稱(chēng)為跡線，并且還可包括其它傳導(dǎo)特征，例如墊片、門(mén)電路和/或匯流排，并且可由例如有機(jī)材料和/或無(wú)機(jī)材料組成。如此處所用“傳導(dǎo)”一詞，當(dāng)例如參照傳導(dǎo)特征使用時(shí)，其通常指至少部分地導(dǎo)電的能力，并可包括例如傳導(dǎo)的、半傳導(dǎo)的或至少部分地傳導(dǎo)的特征。在至少一個(gè)實(shí)施例中，所述至少一個(gè)襯底和/或在襯底上形成的一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征包括一個(gè)或多個(gè)電子器件，例如薄膜晶體管(TFT)、場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)、RF-ID標(biāo)簽、智能標(biāo)簽、傳感器、數(shù)字存儲(chǔ)器、電容器、二極管、電阻器、光電電池、絕緣體、導(dǎo)體、光敏器件等等。薄膜器件，例如TFT，可用于顯示器件，其包括，例如場(chǎng)致發(fā)光顯示器和/或液晶顯示器(LCD)。因此，上面形成有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底可形成電子器件如顯示器件的一部分。
雖然根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此，但是，在一個(gè)具體實(shí)施例中，上面形成有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底可通過(guò)將至少一種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上、并處理所述至少一種材料的至少一部分而形成，所述處理可包括，使沉積材料至少一部分圖案化和/或選擇性地除去其中至少一部分沉積材料。另外，在至少一個(gè)實(shí)施例中，可使用后續(xù)沉積、圖案形成和/或除去工藝中的一個(gè)或多個(gè)工藝，來(lái)形成傳導(dǎo)特征?，F(xiàn)在參看圖1a，其顯示了具有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底的一個(gè)實(shí)施例100。這種特征可基本上通過(guò)上述工藝來(lái)形成。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，實(shí)施例100包括至少一部分襯底的側(cè)視圖，所述襯底包括襯底材料102，在其上面形成了第二材料層104和傳導(dǎo)特征層106。當(dāng)然，在備選實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)其它層可分開(kāi)和/或取代前述層，所述一個(gè)或多個(gè)其它層例如為一個(gè)或多個(gè)中間層。襯底材料102可包括柔性襯底材料，例如主要包括聚酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二酸乙二醇酯(PEN)，Mylar材料和/或聚酰亞胺(例如Kapton材料)的襯底，但根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不限于此。襯底材料102可具有在其上面形成的第二材料層104，其可包括形成于襯底102至少一個(gè)表面的至少一部分上的涂層或覆層材料，例如形成于襯底102一個(gè)表面的大部分上的涂層或覆層。在一個(gè)實(shí)施例中，第二材料層104可包括至少是部分地對(duì)光敏感的材料或材料組合，其也可稱(chēng)為光敏材料。在本說(shuō)明書(shū)中，詞語(yǔ)“光敏”在例如參照光敏材料使用時(shí)，通常指這樣的材料，即，在這種材料中，例如來(lái)自電磁源的光子的光量子轟擊，可能導(dǎo)致在至少一部分材料的導(dǎo)帶和/或價(jià)帶中產(chǎn)生一個(gè)或多個(gè)電子和/或空穴。例如，能夠在至少一個(gè)實(shí)施例中使用的光敏材料可包括一種材料或材料的組合，并且可包括有機(jī)材料、無(wú)機(jī)材料和/或其組合，例如一種或多種半導(dǎo)體的固體氧化物，例如鈦、鉭、鎢、釩、鈮、鋅、錫和/或銦的氧化物，例如TiO2和/或其任意組合，和/或錫、鐵、鎘、鉬和/或銅的一種或多種硫化物，例如CdS，這些只是其中的一些示例；但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題同樣并不局限于此。另外，如之前所述，襯底材料102可包括任何材料組合，例如聚酯、PET、PEN、Mylar(聚酯薄膜)材料和/或Kapton材料，需要注意的是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于這方面，并且可包括任何適合于用作襯底的材料，例如呈現(xiàn)出適合于用作電子器件襯底的性質(zhì)的任何材料。
襯底材料102至少一個(gè)表面的至少一部分可具有形成于其上面的傳導(dǎo)特征，如傳導(dǎo)特征層106所示。雖然并不局限于這方面，但是，傳導(dǎo)特征層106的一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征可包括圖案化的傳導(dǎo)特征，其包括例如跡線、墊片、門(mén)電路和/或匯流排或其任意組合。另外如之前所述，襯底，例如襯底材料102，可用作電子器件，例如LCD器件的一部分。雖然根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于這方面，但是，傳導(dǎo)特征層106的一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征可包括一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)材料層和/或半導(dǎo)體材料層。如后面更詳細(xì)說(shuō)明的那樣，具體的材料和/或材料組合至少部分地取決于用于形成器件如器件100的工藝，和/或所形成的器件的類(lèi)型。
圖1a的傳導(dǎo)特征層106可利用傳導(dǎo)特征形成系統(tǒng)，例如圖1b中至少部分地顯示的實(shí)施例而形成。圖1b中顯示了傳導(dǎo)特征形成系統(tǒng)110的一個(gè)實(shí)施例；然而，這僅僅是該系統(tǒng)的一個(gè)示例，其顯示了根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的一個(gè)實(shí)施例，并且可利用許多其它的方法和/或系統(tǒng)來(lái)形成具有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底，例如圖1a的襯底102。如后文中更詳細(xì)說(shuō)明的那樣，例如可利用一種或多種化學(xué)鍍和/或電解電鍍工藝來(lái)至少部分地形成一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征。另外，許多其它的系統(tǒng)實(shí)施例是可行的，并且包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。然而，對(duì)于這個(gè)具體實(shí)施例，110可執(zhí)行通過(guò)利用在例如處理器上執(zhí)行的軟件、硬件電路、固件和/或其任意組合來(lái)實(shí)現(xiàn)的操作。如以下更詳細(xì)所述，這種軟件例如可配置成通過(guò)與形成系統(tǒng)110的一個(gè)或多個(gè)部件的動(dòng)作相互作用和/或?qū)ζ溥M(jìn)行指導(dǎo)，來(lái)執(zhí)行處理，從而執(zhí)行各種操作。
通常可將系統(tǒng)110稱(chēng)為卷到卷式(RtR)處理系統(tǒng)，但是需要注意的是，這僅僅是形成器件，例如器件100的一種具體方法，并且根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此。在這種具體情形下，RtR處理系統(tǒng)指的是這樣一種用于處理的系統(tǒng)，其將材料從至少一個(gè)卷筒傳送到至少另一個(gè)卷筒上，來(lái)作為處理的至少一部分。然而，在一個(gè)備選實(shí)施例中，可以不利用RtR系統(tǒng)來(lái)形成襯底和一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征。雖然如此，但是，繼續(xù)這個(gè)示例，在至少一個(gè)實(shí)施例中，系統(tǒng)110可包括沉積機(jī)構(gòu)116，其可包括一個(gè)或多個(gè)卷筒和材料儲(chǔ)存器118。系統(tǒng)110還可另外包括干燥裝置122，以及電磁輻射源128。另外，系統(tǒng)110可包括卷筒124，以及沉積機(jī)構(gòu)132，其在至少一個(gè)實(shí)施例中例如還可包括一個(gè)或多個(gè)卷筒和材料儲(chǔ)存器130。
在操作過(guò)程中，對(duì)于這個(gè)實(shí)施例而言，系統(tǒng)110可以以下方式至少部分地形成具有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底，襯底材料112可包括材料卷，其在一個(gè)實(shí)施例中，例如可提供給系統(tǒng)110。在一個(gè)實(shí)施例中，襯底材料112可相對(duì)于機(jī)構(gòu)116，并在例如方向114的方向上例如機(jī)械地移動(dòng)，并且在至少一個(gè)實(shí)施例中，可通過(guò)例如機(jī)構(gòu)116進(jìn)行滾軋、拉拔和/或傳送。襯底材料112可包括一種材料或材料組合。在一個(gè)具體實(shí)施例中，例如襯底材料112可包括具體材料或材料組合的柔性襯底，其中，至少一個(gè)第二材料層如光敏材料層至少部分地涂敷、覆蓋或滯留在一個(gè)或多個(gè)襯底表面上，如圖1a中所示，但是，如之前所述，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，襯底材料112可包括聚酯薄膜襯底，其中，在聚酯薄膜襯底至少一個(gè)表面的至少一部分上形成了例如TiO2的涂層或覆層，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題同樣并不局限于此。襯底112可通過(guò)例如機(jī)構(gòu)116的一個(gè)或多個(gè)卷筒，而相對(duì)于機(jī)構(gòu)116例如機(jī)械地移動(dòng)。機(jī)構(gòu)116能夠?qū)⒉牧?，例如?lái)自儲(chǔ)存器118的材料，沉積到襯底112的至少一個(gè)表面的至少一部分上，例如沉積在前述第二材料層的至少一部分上，并且在這里可稱(chēng)之為滾軋沉積(rolldeposition)。然而，需要注意的是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此，可將材料或材料組合沉積在一個(gè)或多個(gè)襯底表面的至少一部分上的任何方法都包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。例如，在至少一個(gè)實(shí)施例中以及一個(gè)或多個(gè)這些實(shí)施例中，可使用噴涂、旋涂、滴涂、浸漬和/或涂敷(spreading)等一個(gè)或多個(gè)工藝。因此，雖然沒(méi)有顯示，但是，可利用一個(gè)或多個(gè)其它不同于機(jī)構(gòu)116的機(jī)構(gòu)來(lái)執(zhí)行例如一個(gè)或多個(gè)沉積操作。
繼續(xù)這個(gè)示例，上面沉積有儲(chǔ)存器118內(nèi)的材料的襯底材料112，可被傳遞到干燥裝置122附近。在一個(gè)實(shí)施例中，干燥裝置122可包括例如輻射加熱器，并且能夠?yàn)橐r底材料112提供熱能，從而使例如由機(jī)構(gòu)116沉積出的材料至少部分地干燥。然而，在備選實(shí)施例中，可以不利用干燥裝置，并且/或者可利用一個(gè)或多個(gè)其它類(lèi)型的干燥裝置，例如能夠吹空氣和/或氣體的鼓風(fēng)機(jī)裝置，用于對(duì)襯底材料112進(jìn)行至少部分地干燥，并且所述干燥裝置的使用和/或類(lèi)型至少可部分地取決于例如沉積在襯底材料112上的材料和/或襯底材料112的成分。在傳遞到干燥裝置122附近之后，在這個(gè)實(shí)施例中，可通過(guò)例如至少部分地在滾筒124上進(jìn)行滾軋，而使襯底材料112相對(duì)于滾筒124移動(dòng)。滾筒124可導(dǎo)致襯底112相對(duì)于電磁輻射裝置128移動(dòng)，電磁輻射裝置128可為例如至少一部分襯底材料112提供電磁輻射。在一個(gè)實(shí)施例中，電磁輻射裝置128可包括一個(gè)或多個(gè)激光裝置，但是作為備選，電磁輻射裝置128也可包括用于產(chǎn)生波長(zhǎng)覆蓋光譜的有限部分或大部分的電磁輻射的裝置，例如采用一個(gè)或多個(gè)白熾燈的裝置。同樣，電磁輻射裝置128的選擇至少可部分地取決于例如襯底材料112的成分和/或沉積在襯底材料112上的材料。在一個(gè)實(shí)施例中，電磁輻射裝置128可包括激光裝置，該激光裝置能夠產(chǎn)生例如激光光束134。在這個(gè)具體實(shí)施例中，例如，激光裝置能夠產(chǎn)生功率超過(guò)大約1μW/cm2的電磁輻射，并且具有基本上在大約10-800納米(nm)范圍內(nèi)的波長(zhǎng)。在備選實(shí)施例中，激光裝置可包括波長(zhǎng)基本上在大約200至400nm范圍內(nèi)的激光，并且具有大約20,000μW/cm2的功率，這僅僅是一個(gè)示例。在任一實(shí)施例中，激光裝置能夠選擇性地為襯底112的一個(gè)或多個(gè)部分，例如為形成于襯底112上的光敏材料的一個(gè)或多個(gè)部分，而提供激光輻射。同樣，裝置128能夠產(chǎn)生在電磁波譜中的大約某個(gè)具體波長(zhǎng)下的激光光束134，并且具有適合于提供例如局部化輻射或″點(diǎn)″輻射的能量。另外，本文所用的用語(yǔ)“選擇性地”，當(dāng)與例如提供激光輻射一起使用時(shí)，該用語(yǔ)通常指為材料，例如為材料層的一個(gè)或多個(gè)部分提供電磁輻射，其中，所述這些部分是至少部分地基于一個(gè)或多個(gè)部分的具體位置，例如采用形成局部化輻射或點(diǎn)輻射的基礎(chǔ)上來(lái)選擇的。
在至少一個(gè)實(shí)施例中，雖然根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此，但是，襯底112的第二材料層的至少一部分可包括光敏材料，并且可將沉積在襯底材料112上的至少一部分材料沉積在例如至少一部分光敏材料的上面。在這個(gè)實(shí)施例中，裝置128能夠?yàn)橹辽僖徊糠止饷舨牧咸峁╇姶泡椛?，?dǎo)致至少一部分光敏材料暴露于例如電磁輻射下，如之前所述，這可導(dǎo)致至少一部分光敏材料發(fā)生物理變化和/或化學(xué)變化。選擇性地為部分光敏材料提供電磁輻射在這里例如可被稱(chēng)為圖案化。
在這個(gè)實(shí)施例中，在被提供了電磁輻射處理之后，襯底材料112可相對(duì)于例如機(jī)構(gòu)132移動(dòng)，并且機(jī)構(gòu)132可沉積出材料，例如儲(chǔ)存器130中的材料，而且可將材料沉積在由例如機(jī)構(gòu)116沉積出的一種或多種材料的至少一部分上。在一個(gè)實(shí)施例中，可將材料沉積在例如由機(jī)構(gòu)116沉積出的一種或多種材料上，和/或沉積在通過(guò)裝置128來(lái)提供電磁輻射處理的一部分襯底材料112上。這可導(dǎo)致由機(jī)構(gòu)116沉積出的至少一部分材料發(fā)生物理變化和/或化學(xué)變化，從而例如溶解和/或除去至少一部分材料，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題當(dāng)然并不局限于此。在一個(gè)實(shí)施例中，由機(jī)構(gòu)116沉積出的部分材料，以及至少部分地通過(guò)裝置128提供電磁輻射處理的部分材料，可與由機(jī)構(gòu)132沉積出的一種或多種材料發(fā)生物理反應(yīng)和/或化學(xué)反應(yīng)，并且可從例如襯底112中溶解和/或除去至少一部分材料。例如，在一個(gè)或多個(gè)其它實(shí)施例中，和/或如圖2和/或圖3所示，并且如以下更詳細(xì)說(shuō)明的那樣，可在襯底材料112上執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)另外的工藝。
在另一實(shí)施例中，襯底材料，例如襯底材料112可具有形成于一個(gè)或多個(gè)表面的至少一部分上的光敏材料層，并且機(jī)構(gòu)，例如機(jī)構(gòu)116可將一種或多種有機(jī)材料沉積在至少一部分光敏材料上。例如，基本上包括Mylar和/或Kapton材料的襯底可具有形成于至少一個(gè)表面的至少一部分上的一層TiO2。機(jī)構(gòu)，例如機(jī)構(gòu)116可沉積出一種或多種有機(jī)材料，并且在至少一個(gè)實(shí)施例中，一種或多種有機(jī)材料的至少一部分可具有傳導(dǎo)性質(zhì)。例如，一種或多種基本上包括聚苯胺和/或聚噻吩，和/或一種或多種聚合物，例如烷烴、烯烴、炔烴聚合物、支化環(huán)狀聚合物和/或芳族聚合物的材料，可被沉積在至少一部分襯底材料上。在這個(gè)實(shí)施例中，可通過(guò)例如圖1b的加熱裝置122對(duì)其上沉積有一種或多種有機(jī)材料的襯底進(jìn)行加熱。加熱裝置可導(dǎo)致例如至少一部分有機(jī)材料干燥，但是，在備選實(shí)施例中，如之前所提出的那樣，可以不采用加熱機(jī)構(gòu)。上面沉積有一種或多種有機(jī)材料的襯底材料的至少一部分可通過(guò)例如電磁輻射裝置128來(lái)為其提供電磁輻射。電磁輻射裝置可選擇性地輻射至少一部分襯底材料，例如光敏材料層的一個(gè)或多個(gè)部分。在一個(gè)實(shí)施例中，上面沉積有一種或多種有機(jī)材料的光敏材料的一個(gè)或多個(gè)部分可被提供電磁輻射處理。這可導(dǎo)致至少一部分光敏材料發(fā)生例如一種或多種物理變化和/或化學(xué)變化。在這個(gè)實(shí)施例中，上面沉積有一種或多種有機(jī)材料的襯底材料可具有一種或多種由例如圖1b所示機(jī)構(gòu)132沉積在其上面的另外的材料。這可導(dǎo)致例如，至少一部分沉積在襯底上的有機(jī)材料被溶解和/或去除。在一個(gè)實(shí)施例中，其中，所沉積的有機(jī)材料包括一種或多種聚苯胺和/或聚噻吩，能夠與有機(jī)材料發(fā)生反應(yīng)的材料可包括例如水。在這個(gè)實(shí)施例中，在為襯底材料提供一種或多種能夠與有機(jī)材料發(fā)生反應(yīng)的材料之后，可至少部分地除去至少一部分有機(jī)材料，從而產(chǎn)生了上面形成有一種或多種有機(jī)材料區(qū)域的襯底材料，其中，所述區(qū)域包括例如未經(jīng)電磁輻射處理的襯底區(qū)域。這些一種或多種有機(jī)材料的區(qū)域可以是例如導(dǎo)電的，并因而可形成具有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底。然而，需要注意的是，這是一個(gè)具體實(shí)施例，并且如后面更詳細(xì)說(shuō)明的那樣，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此。
圖2中所示是傳導(dǎo)特征形成系統(tǒng)的另一實(shí)施例，即140；然而，這僅僅是可能的系統(tǒng)實(shí)施例的一個(gè)示例。許多其它的系統(tǒng)實(shí)施例也是可行的，并且包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。與實(shí)施例110相似，這個(gè)具體實(shí)施例140能夠進(jìn)行通過(guò)利用例如在處理器上執(zhí)行的軟件、硬件電路、固件或其任意組合來(lái)實(shí)現(xiàn)的操作。類(lèi)似地，如以下更詳細(xì)所述，這種軟件例如可配置成通過(guò)與形成系統(tǒng)140的一個(gè)或多個(gè)部件的動(dòng)作相互作用和/或?qū)ζ溥M(jìn)行指導(dǎo)，來(lái)執(zhí)行處理過(guò)程，從而執(zhí)行各種操作。
系統(tǒng)140還可被稱(chēng)為RtR處理系統(tǒng)，但是需要注意的是，這僅僅是形成器件，例如器件100的一種具體方法，并且根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此。然而，繼續(xù)這個(gè)示例，系統(tǒng)140可包括多個(gè)沉積機(jī)構(gòu)，例如146和150，其可分別包括例如多個(gè)卷筒，以及材料儲(chǔ)存器，例如148和152。在操作過(guò)程中，在一個(gè)實(shí)施例中，襯底材料142可包括由例如圖1b所示系統(tǒng)110進(jìn)行處理的襯底材料112，襯底材料142可通過(guò)機(jī)構(gòu)146和/或150的卷筒，在例如方向144上進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送。機(jī)構(gòu)146和/或150可分別地將一種或多種材料沉積在襯底142至少一個(gè)表面的至少一部分上。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，襯底材料142可至少部分地通過(guò)機(jī)構(gòu)146來(lái)進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送。例如通過(guò)將材料儲(chǔ)存器148中的材料沉積在至少一部分襯底上，例如沉積在形成于至少一部分襯底上的至少一部分光敏材料上，從而機(jī)構(gòu)146可將材料沉積在至少一部分襯底上，并且在至少一個(gè)實(shí)施例中，這可被稱(chēng)之為滾軋沉積。另外，襯底材料142可至少部分地通過(guò)機(jī)構(gòu)150進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送，并且可使另一材料，例如來(lái)自材料儲(chǔ)存器152的材料沉積在至少一部分襯底上。然而，需要注意的是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此，并且將材料沉積在至少一部分襯底如襯底材料142上的許多其它方法，都包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。例如，如參照?qǐng)D2所述，可作為備選或作為另外，而將一個(gè)或多個(gè)噴涂、滴涂、浸漬和/或涂敷工藝應(yīng)用于一個(gè)或多個(gè)滾軋沉積工藝中。
在一個(gè)具體實(shí)施例中，襯底材料142可包括例如由圖1b中所示系統(tǒng)處理之后的襯底材料112，并且襯底材料142可被提供給系統(tǒng)，例如系統(tǒng)140。在這個(gè)實(shí)施例中，如參照?qǐng)D1b所述，襯底材料可具有一種或多種形成于襯底材料上，例如形成于襯底材料至少一個(gè)表面的特殊部分上的光敏材料和/或有機(jī)材料。所述一種或多種材料可通過(guò)沉積機(jī)構(gòu)，例如機(jī)構(gòu)146而沉積在至少一部分襯底上。在至少一個(gè)實(shí)施例中，沉積在上面的一種或多種材料可包括一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑，例如氯化亞錫、氯化鈦和/或氯化鈀，并且另外還可包括含有例如鹽酸的溶液。在這個(gè)實(shí)施例中，一種或多種前述試劑可吸附和/或吸收至少一部分沉積在襯底材料上的一種或多種有機(jī)材料，并且可因此導(dǎo)致至少一部分襯底材料例如變得具有催化性，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題當(dāng)然并不局限于此。在這個(gè)實(shí)施例中，在將一種或多種材料沉積在至少一部分襯底材料上，例如沉積在至少一部分有機(jī)材料上之后，通過(guò)利用一個(gè)或多個(gè)另外的沉積機(jī)構(gòu)，例如圖2所示的機(jī)構(gòu)150，可將一種或多種另外的材料沉積在至少一部分襯底材料上。在將一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑提供給形成于至少一部分襯底材料上的有機(jī)材料的一個(gè)實(shí)施例中，另外的材料的沉積可包括例如一種或多種無(wú)電沉積和/或電解沉積的工藝。例如，有機(jī)材料可利用至少部分地包括鎳、銅、金、鉛、銀和/或其組合(例如NiCu)的浴槽來(lái)提供，并且至少一部分材料可與至少一部分有機(jī)材料，例如配備有諸如一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑的有機(jī)材料的一個(gè)或多個(gè)部分結(jié)合在一起。因此，在這個(gè)具體實(shí)施例中，通過(guò)利用無(wú)電沉積和/或電解沉積，可形成帶有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)的器件，其中至少一部分傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)至少部分地是金屬的。
圖3中所示是傳導(dǎo)特征形成系統(tǒng)的另一實(shí)施例160；然而，這僅僅是一個(gè)示例性的實(shí)施例。許多其它的系統(tǒng)實(shí)施例也是可行的，并且包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。與實(shí)施例110和/或140類(lèi)似，這個(gè)具體實(shí)施例160能夠執(zhí)行可通過(guò)在處理器上執(zhí)行的軟件、通過(guò)硬件電路、固件和/或其任意組合來(lái)實(shí)現(xiàn)的操作，并且如以下更詳細(xì)所述，可配置成通過(guò)與形成系統(tǒng)160一個(gè)或多個(gè)部件的動(dòng)作相互作用和/或?qū)ζ溥M(jìn)行指導(dǎo)，來(lái)執(zhí)行處理過(guò)程，從而執(zhí)行各種操作。
還可將系統(tǒng)160稱(chēng)為RtR處理系統(tǒng)，但是需要注意的是，這僅僅是形成器件，例如器件100的一個(gè)具體方法，并且根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于此。然而，繼續(xù)這個(gè)示例，系統(tǒng)160可包括一個(gè)或多個(gè)沉積機(jī)構(gòu)，例如166，170和176，其分別對(duì)應(yīng)于相應(yīng)的材料儲(chǔ)存器，例如168，172和178。在這個(gè)具體實(shí)施例中，例如在通過(guò)機(jī)構(gòu)170來(lái)滾軋、拉拔或傳送襯底之后，但在通過(guò)機(jī)構(gòu)176來(lái)滾軋、拉拔或傳送襯底之前，電磁輻射源174可為襯底162提供電磁輻射。在操作過(guò)程中，襯底162可包括例如經(jīng)過(guò)圖1b所示系統(tǒng)110來(lái)處理的襯底112，并且/或者可包括經(jīng)過(guò)圖2所示系統(tǒng)140來(lái)處理的襯底142，這種襯底162可通過(guò)機(jī)構(gòu)166和170的卷筒而在方向164上進(jìn)行例如機(jī)械的滾軋、拉拔或傳送。沉積機(jī)構(gòu)166和170可相應(yīng)地將一種或多種材料沉積在襯底162至少一個(gè)表面的至少一部分上。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，上面形成有一種或多種材料的襯底162可通過(guò)機(jī)構(gòu)166進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送。機(jī)構(gòu)166可通過(guò)例如將儲(chǔ)存器168中的材料沉積在至少一部分光敏材料和/或襯底材料上，從而將材料沉積在至少一部分襯底上。另外，襯底162可通過(guò)機(jī)構(gòu)170來(lái)進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送處理，并且可使另一材料，例如儲(chǔ)存器172中的材料沉積在至少一部分襯底上，例如沉積在由例如機(jī)構(gòu)166沉積出的至少一部分材料上。電磁輻射裝置174可為襯底162至少一部分，例如由機(jī)構(gòu)166和/或170沉積出的一種或多種材料提供電磁輻射。在一個(gè)實(shí)施例中，電磁輻射裝置174包括激光裝置，并且激光裝置能夠選擇性地為襯底162的一個(gè)或多個(gè)部分，例如一個(gè)或多個(gè)特殊圖案的部分，和/或?yàn)橛衫鐧C(jī)構(gòu)166和/或170所沉積出的一種或多種材料來(lái)提供激光光束180。在這個(gè)實(shí)施例中，電磁輻射裝置174能夠產(chǎn)生在電磁波譜中的某個(gè)特殊頻率或頻率范圍內(nèi)的激光光束180，并且具有適合于提供例如局部化輻射的能量。然而，作為備選，裝置174可包括產(chǎn)生光譜波長(zhǎng)范圍內(nèi)的電磁輻射的裝置，例如采用一個(gè)或多個(gè)白熾燈的裝置。同樣，電磁輻射裝置174的選擇可至少部分地取決于例如襯底材料162的成分和/或沉積在襯底材料162上的材料。繼續(xù)這個(gè)示例，在這個(gè)實(shí)施例中，襯底162可通過(guò)機(jī)構(gòu)176來(lái)進(jìn)行滾軋、拉拔或傳送，并且使一種或多種另外的材料，例如儲(chǔ)存器178中的材料沉積在其上面，并且沉積在至少一部分襯底162之上，例如沉積在由例如機(jī)構(gòu)166和/或170沉積出的至少一部分材料上。
在一個(gè)具體實(shí)施例中，襯底材料，例如由圖1b中所示系統(tǒng)來(lái)處理的襯底材料112，可被提供給系統(tǒng)，例如系統(tǒng)160。在這個(gè)實(shí)施例中，襯底材料可具有一種或多種形成于襯底材料上，例如形成于襯底材料至少一個(gè)表面的特殊部分上的光敏材料和/或有機(jī)材料。一種或多種材料可通過(guò)沉積機(jī)構(gòu)，例如機(jī)構(gòu)166而沉積在至少一部分襯底上。在至少一個(gè)實(shí)施例中，沉積在上面的一種或多種材料可包括一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑，例如氯化亞錫、氯化鈦和/或氯化鈀，并且還可包括含有例如鹽酸的溶液。在這個(gè)實(shí)施例中，一種或多種前述試劑可吸附至少一部分襯底材料和/或至少一部分光敏材料，并且可以不必粘附在例如有機(jī)材料上。因此，就可導(dǎo)致至少一部分襯底材料和/或至少一部分光敏材料變成例如具有催化性，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題當(dāng)然并不局限于此。在這個(gè)實(shí)施例中，在將一種或多種材料沉積在至少一部分襯底材料和/或至少一部分光敏材料上之后，通過(guò)利用一個(gè)或多個(gè)另加的沉積機(jī)構(gòu)，例如圖2所示的機(jī)構(gòu)150，可將一種或多種另外的材料沉積在至少一部分襯底材料和/或至少一部分光敏材料上。在將一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑提供給襯底材料和/或光敏材料的一個(gè)實(shí)施例中，所述另外的材料的沉積可包括一種或多種無(wú)電沉積工藝。例如，襯底材料和/或光敏材料可利用至少部分地包含例如鎳、銅、金、鉛、銀和/或其組合的浴槽來(lái)提供，并且至少一部分材料可與至少一部分襯底材料和/或光敏材料，例如與配備有諸如一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑的襯底材料和/或光敏材料的一個(gè)或多個(gè)部分結(jié)合在一起。在這個(gè)實(shí)施例中，電磁輻射源，例如輻射源174，可為至少一部分襯底材料，例如為襯底的大部分提供電磁輻射。電磁輻射源可為例如在早前的處理操作中形成于襯底材料上的光敏材料的一個(gè)或多個(gè)部分提供電磁輻射，并且在這個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)無(wú)電沉積和/或電解沉積而形成于襯底上的一種或多種材料可掩蔽部分襯底以免于受到輻射，因此，就可為沒(méi)有無(wú)電沉積材料的襯底部分提供電磁輻射，從而可能導(dǎo)致材料的受輻射部分發(fā)生例如物理變化和/或化學(xué)變化。在這個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)利用一個(gè)或多個(gè)另加的沉積機(jī)構(gòu)，例如圖3的機(jī)構(gòu)176，可將一種或多種另外的材料沉積在至少一部分襯底材料和/或光敏材料上。在一個(gè)實(shí)施例中，沉積的材料可包括一種配置成可與至少一部分光敏材料，例如在之前工藝中提供了電磁輻射處理的光敏材料產(chǎn)生反應(yīng)的材料。在一個(gè)實(shí)施例，這種材料可包括例如水，并且這種材料例如可溶解和/或除去通過(guò)提供電磁輻射來(lái)進(jìn)行處理的形成于光敏材料上的有機(jī)層部分。因此，在這個(gè)具體實(shí)施例中，可通過(guò)利用無(wú)電沉積來(lái)形成帶一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)的器件。
現(xiàn)在參見(jiàn)圖4，其通過(guò)流程圖顯示了用于形成帶一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底的技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題當(dāng)然并不局限于這方面的范圍。因此，如下所述，這樣的實(shí)施例可用于至少部分地形成一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征。圖4中所示的流程圖可用于至少部分地形成器件，例如圖1a的器件100，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題并不局限于這方面。類(lèi)似地，方框的所示順序并不必然地將根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題局限于任何具體的順序。類(lèi)似地，在不脫離根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題范圍的前提下，可插入未顯示的另外的方框。
圖4中所示的流程圖186在備選實(shí)施例中可以軟件、硬件和/或固件的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)，并且可包括不連續(xù)的和/或連續(xù)的操作。在這個(gè)實(shí)施例中，在方框188處，可將一種或多種材料沉積在至少一部分襯底上，所述一種或多種材料可包括一個(gè)或多個(gè)材料的涂層或覆層，或者可包括選擇性的沉積，并且還可另外包括例如多個(gè)沉積工藝。在方框190處，可對(duì)在方框188的工藝中沉積出的一種或多種材料進(jìn)行處理。這可包括，例如加熱至少一部分材料，和/或例如通過(guò)使至少一部分材料暴露于電磁輻射下而使至少一部分材料圖案化，或者可包括例如選擇性地除去和/或溶解一部分材料。在方框192處，可將一種或多種另外的材料施加到至少一部分襯底上，并且例如可施加到在之前一個(gè)或多個(gè)方框的工藝中所施加和/或處理的一部分材料上。另外，所述沉積可包括例如一個(gè)或多個(gè)涂層或覆層，或者可包括選擇性的沉積，并且還可另外包括例如多個(gè)沉積工藝。
在這個(gè)實(shí)施例中，在方框188處，可將一種或多種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上。在一個(gè)實(shí)施例中，襯底可包括非傳導(dǎo)的襯底，例如Mylar和/或Kapton材料，并且可具有第二材料的涂層或覆層，例如形成于至少一個(gè)表面的至少一部分上的光敏材料。在一個(gè)實(shí)施例中，TiO2和/或CdS的涂層可形成于至少一個(gè)表面的至少一部分上。類(lèi)似地，在方框188處沉積在襯底上的材料可包括液態(tài)或半液態(tài)的材料，例如一種或多種有機(jī)和/或無(wú)機(jī)材料，并且可以是傳導(dǎo)的，而且可包括，例如一種或多種聚苯胺和/或聚噻吩和/或一種或多種聚合物，例如烷烴、烯烴、炔烴聚合物和/或支化環(huán)狀聚合物或芳族聚合物，這只是一些示例。另外，所述一種或多種材料可通過(guò)一種或多種沉積方法進(jìn)行施加，包括例如滾軋沉積、噴射、噴涂、滴涂、涂敷和/或旋涂。材料可施加到襯底上的選定位置，例如形成一個(gè)或多個(gè)圖案，并且/或者可作為涂層或覆層而施加在例如至少一個(gè)襯底表面的大部分上。在至少一個(gè)示例性實(shí)施例中，材料可包括聚苯胺，并且可通過(guò)滾軋沉積機(jī)構(gòu)和材料儲(chǔ)存器進(jìn)行施加。如之前所述，可將材料施加在襯底的一個(gè)或多個(gè)具體位置上，例如施加在襯底材料、光敏材料和/或有機(jī)材料的至少一個(gè)表面的大部分上。雖然許多將一種或多種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上的多種方法可與至少一個(gè)實(shí)施例相符，但是需要注意的是，任何可導(dǎo)致一種或多種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上的沉積方法都與根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的至少一個(gè)實(shí)施例相一致。
繼續(xù)這個(gè)實(shí)施例，在方框190處，可處理至少一部分在方框188處沉積出的一種或多種材料。這可包括，例如使至少一部分材料暴露于電磁輻射下和/或例如加熱至少一部分材料。同樣，存在許多用于處理一種或多種材料的方法，并且所使用的工藝可至少部分地取決于例如所應(yīng)用的材料。在一個(gè)實(shí)施例中，例如可通過(guò)輻射加熱器來(lái)加熱一種或多種材料的至少一部分。另外，在加熱之后，在這個(gè)具體實(shí)施例中，可例如通過(guò)激光為一種或多種材料的至少一部分提供電磁輻射。在這個(gè)實(shí)施例中，激光可選擇性地輻射材料的一個(gè)或多個(gè)部分，例如形成一個(gè)或多個(gè)圖案，并且在這個(gè)實(shí)施例中，可對(duì)形成于一個(gè)或多個(gè)光敏材料上的部分沉積材料進(jìn)行輻射處理，而且如之前所述，光敏材料可發(fā)生物理變化和/或化學(xué)反應(yīng)。
在這個(gè)實(shí)施例中，轉(zhuǎn)到方框192，一種或多種另外的材料可沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上，例如沉積在方框190工藝中所處理的一種或多種材料上。在至少一個(gè)實(shí)施例中，材料可包括液態(tài)或半液態(tài)的材料，并且對(duì)所沉積材料的選擇可至少部分地取決于例如在方框188處所沉積的一種或多種材料。在其中一種或多種聚苯胺和/或聚噻吩沉積在襯底上并且在方框190處為沉積材料的一個(gè)或多個(gè)部分提供電磁輻射的一個(gè)實(shí)施例中，可將水沉積在至少一部分材料上，例如沉積在被提供電磁輻射處理的至少一部分材料上。雖然存在許多對(duì)材料例如水進(jìn)行沉積的方法，但是，一種或多種包括噴涂、旋涂、滴涂、浸漬和/或涂敷等一種或多種工藝的沉積方法可用于至少一個(gè)實(shí)施例。材料可施加到襯底上的選定位置，施加在方框190所處理的至少一種材料的至少一部分上，并且/或者可作為涂層或覆層而施加在例如至少一個(gè)襯底表面的大部分上。這可導(dǎo)致例如至少一部分在方框190處接受輻射處理的材料被除去和/或溶解。另外，在方框192處可將一種或多種另外的材料沉積在至少一部分襯底上。存在許多用于沉積一種或多種材料的方法，包括無(wú)電沉積和電解沉積，并且沉積機(jī)構(gòu)可以是相似的，或者可以不同于例如方框188處所利用的一個(gè)或多個(gè)機(jī)構(gòu)。雖然將一種或多種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上的許多方法可與至少一個(gè)實(shí)施例相一致，但是需要注意的是，任何導(dǎo)致一種或多種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面至少一部分上的沉積方法都包括在根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的范圍內(nèi)。在一個(gè)實(shí)施例中，可將一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑沉積在至少一部分襯底上，并且還可將一種或多種傳導(dǎo)材料，例如一種或多種至少部分地包括金屬的材料沉積在至少一部分襯底上，例如沉積在于方框188的步驟中配備了一種或多種有機(jī)材料的襯底的一個(gè)或多個(gè)部分上。所述一種或多種傳導(dǎo)材料可被吸附和/或被吸收，并且可沉積在例如至少一部分有機(jī)材料上。
現(xiàn)在，當(dāng)然應(yīng)當(dāng)理解，可至少部分地基于前面的說(shuō)明書(shū)而生產(chǎn)出軟件，所述軟件能夠執(zhí)行前面的一個(gè)或多個(gè)操作。當(dāng)然還應(yīng)該懂得，雖然只是描述了具體實(shí)施例，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題在范圍上并不局限于具體實(shí)施例或?qū)崿F(xiàn)形式。例如，一個(gè)實(shí)施例可以為硬件形式，例如可實(shí)施，以便在之前所述的器件或器件組合上操作，而另一實(shí)施例可以為軟件形式。類(lèi)似地，可以固件形式，或作為硬件、軟件和/或固件的任意組合，來(lái)實(shí)現(xiàn)一個(gè)實(shí)施例。另外，可實(shí)施一個(gè)實(shí)施例的所有部分或一部分，以便在一個(gè)裝置，例如沉積裝置中進(jìn)行部分操作，并且在例如計(jì)算裝置中進(jìn)行部分操作。類(lèi)似地，雖然根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題在范圍上并不局限于這方面，但是，一個(gè)實(shí)施例可包括一個(gè)或多個(gè)物件，例如存儲(chǔ)介質(zhì)或存儲(chǔ)媒介。這種存儲(chǔ)媒介，例如一個(gè)或多個(gè)CD-ROM和/或磁盤(pán)，其上面可存儲(chǔ)指令，當(dāng)由系統(tǒng)、例如計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、計(jì)算平臺(tái)或其它系統(tǒng)執(zhí)行這些指令時(shí)，所述指令可導(dǎo)致執(zhí)行與根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題相符的一個(gè)方法實(shí)施例，例如之前所述的其中一個(gè)實(shí)施例。作為一個(gè)可能的示例，計(jì)算平臺(tái)可包括一個(gè)或多個(gè)處理單元或處理器，一個(gè)或多個(gè)輸入/輸出裝置，例如顯示器、鏈盤(pán)和/或鼠標(biāo)，和/或一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)器，例如靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器、閃速存儲(chǔ)器和/或硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器，但是，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題在范圍上同樣并不局限于這個(gè)示例。
在前面的詳細(xì)描述中，已經(jīng)描述了根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的各個(gè)方面。出于說(shuō)明目的，陳述了具體的數(shù)目、系統(tǒng)和/或配置，以提供對(duì)根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的全面理解。然而，已領(lǐng)會(huì)本發(fā)明公開(kāi)內(nèi)容的本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該懂得，根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題也可在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的條件下來(lái)實(shí)施。在其它情況下，省略和/或簡(jiǎn)化了眾所周知的特征，從而不會(huì)使根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題變得模糊難懂。雖然在這里已經(jīng)顯示和/或描述了某些特征，但是，本領(lǐng)域中的技術(shù)人員現(xiàn)在可以構(gòu)思出許多的改進(jìn)、替代物、變化和/或等效物。因此，應(yīng)該懂得，所附權(quán)利要求旨在包括所有屬于根據(jù)權(quán)利要求的發(fā)明主題的真實(shí)精神范圍內(nèi)的這些改進(jìn)和/或變化。
權(quán)利要求
1.一種方法，包括將包括有機(jī)材料的第一材料(118)沉積在涂覆或覆蓋襯底(102，112)的光敏材料(104)上；對(duì)上面沉積有所述第一材料(118)的所述光敏材料(104)的一部分選擇性地施加電磁輻射(134)；和將第二材料(130)施加到所述第一材料(118)的一部分上，以便至少部分地除去所述第一材料(118)的一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將第二材料(130)施加到所述第一材料(118)的所述部分上的步驟包括將所述第二材料(130)施加到所述第一材料(118)的所述部分上，其中，施加所述第二材料(130)導(dǎo)致所述第一材料(118)的至少一部分溶解。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將第三材料(148，168)沉積在至少一部分剩余的第一材料(118)上，以便使至少一部分剩余的所述第一材料(118)變得至少部分地具有催化性，其中，所述第三材料(148，168)基本上包括一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，還包括將第四材料(152，172)沉積在所述第三材料(148，168)的至少一部分上，其中，所述第四材料(152，172)是基本上通過(guò)使用包括一種或多種化學(xué)鍍和/或電解電鍍的工藝來(lái)沉積的，其中，所述第四材料至少部分地包括鎳、銅、金、鉛和/或銀的其中一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將第三材料(148，168)沉積在通過(guò)選擇性地提供電磁輻射(134)來(lái)處理的所述光敏材料(104)的至少一部分上，從而使剩余的所述光敏材料(104)的至少一部分變得至少部分地具有催化性，其中，所述第三材料(148，168)基本上包括一種或多種敏化劑、還原劑和/或催化劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，還包括將第四材料(152，172)沉積在所述第三材料(148，168)的至少一部分上，其中，所述第四材料(152，172)是基本上通過(guò)使用包括一種或多種化學(xué)鍍和/或電解電鍍的工藝來(lái)沉積的，其中，所述第四材料至少部分地包括鎳、銅、金、鉛和/或銀的其中一種或多種。
7.一種結(jié)構(gòu)，包括襯底(102)；形成于所述襯底(102)一部分上的光敏材料(104)；形成于所述光敏材料(104)一部分上的傳導(dǎo)特征(106)，其中，所述傳導(dǎo)特征(106)包括有機(jī)材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光敏材料(104)包括TiO2和/或CdS的其中一種或多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述傳導(dǎo)材料(106)包括以下其中一種或多種聚苯胺、聚噻吩、烷烴、烯烴、炔烴聚合物、支化環(huán)狀聚合物、芳族聚合物、鎳、銅、金、鉛和/或銀。
10.一種結(jié)構(gòu)，包括襯底(102)；形成于所述襯底(102)一部分上的光敏材料(104)；形成于所述光敏材料(104)一部分上的傳導(dǎo)特征(106)，其中，所述傳導(dǎo)特征(106)包括至少一種催化材料和至少一種傳導(dǎo)材料，其中，所述傳導(dǎo)材料形成于所述催化材料的至少一部分上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光敏材料(104)包括TiO2和/或CdS的其中一種或多種。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述催化材料基本上包括以下其中一種或多種氯化亞錫、氯化鈦、氯化鈀和/或含鹽酸的溶液。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述傳導(dǎo)材料(106)至少部分地包括鎳、銅、金、鉛和/或銀的其中一種或多種。
14.一種基本上通過(guò)以下工藝而形成的器件，所述工藝包括在襯底(102，112)上形成一個(gè)或多個(gè)材料層，其中，所述襯底(102，112)至少部分地包括光敏材料(104)，并且是至少部分地不導(dǎo)電的；對(duì)所述光敏材料(104)的至少一部分提供電磁輻射(128)；選擇性地除去所述一個(gè)或多個(gè)材料層的至少一部分；和在所述襯底(102，112)的至少一部分上形成一個(gè)或多個(gè)另外的材料層，從而在適當(dāng)?shù)奈恢眯纬梢粋€(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征(106)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的器件，其特征在于，所述光敏材料(104)包括TiO2和/或CdS的其中一種或多種。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的器件，其特征在于，所述一個(gè)或多個(gè)材料層包括以下其中一種或多種聚苯胺、聚噻吩、烷烴、烯烴、炔烴的聚合物、支化環(huán)狀聚合物、芳族聚合物、鎳、銅、金、鉛和/或銀。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的器件，其特征在于，所述形成一個(gè)或多個(gè)另外的材料層包括，通過(guò)使用一種或多種沉積工藝來(lái)形成一個(gè)或多個(gè)另外的材料層，所述一種或多種沉積工藝包括滾軋沉積、噴涂、旋涂、滴涂、浸漬、涂敷、電解電鍍和/或化學(xué)鍍。
18.一種系統(tǒng)，包括第一沉積機(jī)構(gòu)(116)，其配置成可將包括有機(jī)材料的第一材料(118)沉積在襯底(102)上的至少一部分光敏材料(104)上；激光裝置(128)，其配置成可選擇性地對(duì)至少一部分所述光敏材料(104)施加激光輻射(134)；第二沉積機(jī)構(gòu)(132)，所述第二沉積機(jī)構(gòu)配置成可將第二材料(130)沉積在所述第一材料(118)的至少一部分上，以便從所述光敏材料(104)上基本上除去由所述第一沉積機(jī)構(gòu)(116)沉積的所述第一材料(118)的至少一部分；和沉積機(jī)構(gòu)(146，166)，其配置成可將第三材料(148，168)沉積在剩余所述第一材料(118)的至少一部分上，從而使所述至少一部分第一材料至少部分地具有催化性。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括配置成可將第四材料(152，172)沉積在至少一部分所述第三材料(148，168)上的第四沉積機(jī)構(gòu)(150，170)，其中，所述第四材料(152，172)是基本上通過(guò)使用包括一種或多種化學(xué)鍍和/或電解電鍍的工藝來(lái)沉積的。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一沉積機(jī)構(gòu)(116)、所述第二沉積機(jī)構(gòu)(132)、所述第三沉積機(jī)構(gòu)(146，166)和/或所述第四沉積機(jī)構(gòu)(150，170)中的至少一個(gè)包括以下至少一個(gè)機(jī)構(gòu)滾軋沉積機(jī)構(gòu)、噴涂機(jī)構(gòu)、旋涂機(jī)構(gòu)、滴涂機(jī)構(gòu)、浸漬機(jī)構(gòu)、涂敷機(jī)構(gòu)、電解電鍍機(jī)構(gòu)和/或化學(xué)鍍機(jī)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供了用于形成襯底的方法、設(shè)備、裝置和/或系統(tǒng)的實(shí)施例，這種上面形成有一個(gè)或多個(gè)傳導(dǎo)特征的襯底可通過(guò)將至少一種材料沉積在至少一個(gè)襯底表面的至少一部分上，并處理所述至少一種材料的至少一部分而形成，所述處理可包括，使至少一部分沉積材料圖案化和/或選擇性地除去至少一部分沉積材料。
文檔編號(hào)H05K3/18GK101015073SQ200580026496
公開(kāi)日2007年8月8日 申請(qǐng)日期2005年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月6日
發(fā)明者S·D·萊思, G·S·赫爾曼 申請(qǐng)人:惠普開(kāi)發(fā)有限公司