專利名稱：透明基板、電光學(xué)裝置及其制造方法、圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及透明基板、電光學(xué)裝置、圖像形成裝置和電光學(xué)裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
利用電子攝像方式的圖像形成裝置中，利用了曝光作為像載持體的感光鼓而形成潛像的作為電光學(xué)裝置的曝光頭。近幾年，為了謀求這種曝光頭的薄型化和輕量化，提出了作為曝光頭的發(fā)光源，利用有機(jī)電致發(fā)光元件(有機(jī)EL元件)的。
其中，在這種曝光頭中，從可以擴(kuò)大構(gòu)成材料的選擇寬度的便利性角度，采用了在透明基板的一側(cè)面(發(fā)光元件形成面)上形成有機(jī)EL元件并從對(duì)向發(fā)光元件形成面的其他面(光取出面)取出有機(jī)EL元件所發(fā)出的光的、所謂底部發(fā)射結(jié)構(gòu)。
可是，在底部發(fā)射結(jié)構(gòu)中，在光取出面與有機(jī)EL元件之間，形成為使有機(jī)EL元件發(fā)光的各種配線或電容。因此，存在降低有機(jī)EL元件的開口率，降低光取出效率的問題。
因此，在這種曝光頭中，為了提高光取出效率，進(jìn)行了使有機(jī)EL元件所發(fā)出的光聚光的透鏡即所謂微透鏡設(shè)在光取出面的提案(例如專利文獻(xiàn)1)。在專利文獻(xiàn)1中，向?qū)ο蛴袡C(jī)EL元件的光取出面，噴出固化性樹脂，通過固化其已噴出的樹脂的來形成微透鏡。
特開2003-291404然而，在上述的曝光頭中，使微透鏡從有機(jī)EL元件隔開發(fā)光元件形成面與光取出面之間的距離，即僅隔開透明基板厚度相應(yīng)的部分(份)。因此，對(duì)有機(jī)EL元件的微透鏡的開口角(從有機(jī)EL元件的中心位置對(duì)微透鏡的直徑的張開角度)變小、其變小的部分只是透明基板的厚度相應(yīng)的部分，并且，導(dǎo)致有機(jī)EL元件所發(fā)出的光的取出效率相應(yīng)降低的問題，其降低只是透明基板厚度相應(yīng)的部分。
認(rèn)為通過使透明基板厚度變薄、在其透明基板上形成有機(jī)EL元件和微透鏡，可以減輕這些問題。可是，如果使透明基板厚度變薄，則其機(jī)械強(qiáng)度不夠，而形成有機(jī)EL元件或微透鏡時(shí)，存在破壞透明基板的危險(xiǎn)。另外，使透明基板的光取出面平滑的加工變?yōu)槔щy，伴隨其表面粗糙度降低(算術(shù)平均粗糙度)會(huì)帶來微透鏡的形成位置和其形狀的偏差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述的問題而進(jìn)行的，其目的在于，提供一種避免微透鏡形狀或其形成位置的偏差，提高光取出效率的透明基板、電光學(xué)裝置、圖像形成裝置和電光學(xué)裝置的制造方法。
本發(fā)明的透明基板是在從光取出面?zhèn)壬涑銎淙肷湓诠馊肷涿鎮(zhèn)鹊墓獾耐该骰逯?，在所述光取出面形成微透鏡，在所述微透鏡的周圍，形成了從所述光取出面凸出而補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。
根據(jù)本發(fā)明的透明基板，可以只對(duì)形成從光取出面凸出的強(qiáng)度補(bǔ)償部分補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度。因此，只形成強(qiáng)度補(bǔ)償部的部分，可以使透明基板厚度變薄，可以使光入射面與光取出面之間的距離變短。并且，由于在預(yù)先形成的光取出面上形成微透鏡，所以，比磨削加工等來形成的光取出面，可以使表面粗糙度變小。
從而，避免微透鏡的形狀和其形成位置的偏差，可以擴(kuò)大對(duì)光入射面的微透鏡的開口角，可以提高從光入射面一側(cè)入射的光的取出效率。
在這種透明基板中，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成了貫通到所述光取出面的貫通孔的部分；所述微透鏡是形成在所述貫通孔的透鏡。
根據(jù)這種透明基板，形成在光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層的貫通孔中形成微透鏡，所以，在除了形成貫通孔的區(qū)域以外的區(qū)域，可以形成補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。從而，可以使強(qiáng)度補(bǔ)償部的尺寸變大，使透明基板的厚度變?yōu)楦?。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從光入射面一側(cè)入射的光的取出效率。
在這種透明基板中，所述微透鏡是具有半球面狀光學(xué)面的透鏡，所述貫通孔是具有與所述微透鏡開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔。
根據(jù)這種透明基板，貫通孔是具有與所述微透鏡開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔，所以，在除了形成微透鏡的區(qū)域以外的區(qū)域，可以形成補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。從而，光取出面的大致全面上，可以形成強(qiáng)度補(bǔ)償部，可以使透明基板厚度更薄。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從光入射面一側(cè)入射光的取出效率。
在這種透明基板中，所述透明基板是玻璃基板，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的感光性玻璃膏(paste)層上，將所述貫通孔圖案形成之后，燒成的。
根據(jù)這種透明基板，燒成涂敷在光取出面的玻璃膏而形成強(qiáng)度補(bǔ)償部，所以，可以容易確保對(duì)透明基板的強(qiáng)度補(bǔ)償部的密接性，可以使透明基板和強(qiáng)度補(bǔ)償部的熱膨脹系數(shù)等大致相同。從而，可以進(jìn)一步提高透明基板的機(jī)械強(qiáng)度，使透明基板的厚度變?yōu)楦?。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從光入射面一側(cè)入射的光的取出效率。
本發(fā)明的電光學(xué)裝置是將從形成在透明基板的發(fā)光元件形成面上的發(fā)光元件所發(fā)出的光，從對(duì)向于所述發(fā)光元件形成面的所述透明基板的光取出面?zhèn)壬涑龅碾姽鈱W(xué)裝置，其中，與作為所述光取出面的所述發(fā)光元件相對(duì)峙的位置上形成微透鏡，并在其微透鏡的周圍，形成了補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。
根據(jù)本發(fā)明的電光學(xué)裝置，可以補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度，其補(bǔ)償量只是與從光取出面凸出形成的強(qiáng)度補(bǔ)償部的部分相應(yīng)。因此，只與形成強(qiáng)度補(bǔ)償部相應(yīng)地可以使透明基板厚度變薄，可以使發(fā)光元件形成面與光取出面之間的距離變短。并且，由于在預(yù)先形成的光取出面上形成了微透鏡，所以，例如和磨削加工等來形成的光取出面相比，可以使表面粗糙度變小。
從而，避免微透鏡形狀和其形成位置的偏差，可以擴(kuò)大對(duì)光入射面的微透鏡的開口角，可以提高從發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置中，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成了貫通到所述光取出面的貫通孔的部分，所述微透鏡是形成在所述貫通孔的透鏡。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置，由于在形成在光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層的貫通孔上形成微透鏡，所以，可以在除了形成貫通孔的區(qū)域以外的區(qū)域，形成補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。從而，可以使強(qiáng)度補(bǔ)償部的尺寸變大，可以使透明基板的厚度更薄。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置中，所述微透鏡是具有半球面狀光學(xué)面的凸形狀的透鏡，所述貫通孔是具有與所述微透鏡的開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置，貫通孔是以具有所述微透鏡開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔來形成，所以，在除了形成微透鏡的區(qū)域以外的區(qū)域，可以形成，補(bǔ)償透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。從而，可以涉及光取出面略全面來形成強(qiáng)度補(bǔ)償部，從而使透明基板的厚度更薄。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置中，所述透明基板是玻璃基板，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的感光性玻璃膏層上形成所述貫通孔圖案之后，燒成的。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置，由于將層疊在光取出面的玻璃膏層進(jìn)行燒成而形成強(qiáng)度補(bǔ)償部，所以，可以容易確保對(duì)透明基板的強(qiáng)度補(bǔ)償部的密接性，可以使透明基板和強(qiáng)度補(bǔ)償部的熱膨脹系數(shù)大致相同。從而，可以進(jìn)一步提高透明基板的機(jī)械強(qiáng)度，可以使透明基板厚度更薄。進(jìn)而，可以進(jìn)一步地提高從發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置中，所述發(fā)光元件是電致發(fā)光元件，其中具備形成在所述光取出面?zhèn)鹊耐该麟姌O；相對(duì)于所述透明電極形成的背面電極；以及形成在所述透明電極與所述背面電極之間的發(fā)光層。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置，可以提高從電致發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置中，所述發(fā)光層是由有機(jī)材料形成，所述電致發(fā)光元件是有機(jī)電致發(fā)光元件。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置，可以提高從有機(jī)電致發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
本發(fā)明的圖像形成裝置，是具備使像載持體的外周面帶電的帶電機(jī)構(gòu)；曝光已帶電的所述像載持體的外周面而形成潛像的曝光機(jī)構(gòu)；對(duì)所述潛像供給著色粒子而顯影顯像的顯影機(jī)構(gòu)；和將所述顯像轉(zhuǎn)印在轉(zhuǎn)印介質(zhì)的轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)的圖像形成裝置，其中，所述曝光機(jī)構(gòu)具備了上述的電光學(xué)裝置。
根據(jù)本發(fā)明的圖像形成裝置，以使曝光已帶電的像載持體的曝光機(jī)構(gòu)將成為具備上述的電光學(xué)裝置。從而，可以提高從發(fā)光元件所發(fā)出的光的曝光光的取出效率。
本發(fā)明的電光學(xué)裝置的制造方法，在透明基板的光取出面上層疊強(qiáng)度補(bǔ)償層之后，在所述強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成了貫通到所述光取出面的貫通孔，而形成其補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部；并且，在作為對(duì)向所述光取出面的所述透明基板的發(fā)光元件形成面的、對(duì)向所述貫通孔的位置上形成發(fā)光元件，使之在所述貫通孔中形成了射出所述發(fā)光元件所發(fā)出的光的微透鏡。
根據(jù)本發(fā)明的電光學(xué)裝置的制造方法，在透明基板的光取出面上只是形成補(bǔ)償其透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部，與其部分相應(yīng)地可以變薄透明基板的厚度，可以使所述光取出面與發(fā)光元件形成面之間的距離變短。從而，可以擴(kuò)大對(duì)發(fā)光元件的微透鏡的開口角，可以制造出提高了從發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率的電光學(xué)裝置。
在這種電光學(xué)裝置的制造方法中，所述發(fā)光元件是具備發(fā)光層的電致發(fā)光元件，由液滴噴出裝置向隔壁內(nèi)噴出由發(fā)光層形成材料而構(gòu)成的液滴之后，通過固化已噴出的所述液滴來形成所述發(fā)光層。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置的制造方法，從液滴噴出裝置向隔壁內(nèi)噴出的液滴來形成發(fā)光層，所以，更簡(jiǎn)便的方法來可以制造出提高了電致發(fā)光元件所發(fā)出的光取出效率的電光學(xué)裝置。
在這種電光學(xué)裝置的制造方法中，將所述隔壁作為掩模而曝光由感光性材料構(gòu)成的所述強(qiáng)度補(bǔ)償層，并通過顯影所述強(qiáng)度補(bǔ)償層來形成所述貫通孔。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置的制造方法，將隔壁作為掩模而使貫通孔圖案形成，所以，可以使隔壁的位置和貫通孔的位置匹配，可以使發(fā)光層的位置和微透鏡的位置匹配。從而，可以避免微透鏡的形成位置的偏差，更可靠地提高從電光學(xué)裝置的發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置的制造方法中，將所述強(qiáng)度補(bǔ)償部作為掩模而曝光由感光性材料構(gòu)成的所述隔壁層，并通過顯影所述隔壁層來形成所述隔壁。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置的制造方法，將所述強(qiáng)度補(bǔ)償部作為掩模而圖案形成隔壁，所以，可以使隔壁的位置和貫通孔的位置匹配，可以使發(fā)光層的位置和微透鏡的位置匹配。從而，可以避免微透鏡的形成位置的偏差，更可靠地提高，從電光學(xué)裝置的發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。
在這種電光學(xué)裝置的制造方法中，同時(shí)曝光由感光性材料構(gòu)成的所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和由感光性材料構(gòu)成的所述隔壁層，而在所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和所述隔壁層上形成對(duì)應(yīng)于所述貫通孔的圖案，通過顯影所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和所述隔壁層來形成所述貫通孔和所述隔壁。
根據(jù)這種電光學(xué)裝置的制造方法，由于同時(shí)曝光強(qiáng)度補(bǔ)償層和隔壁層而形成貫通孔和隔壁，所以，可以使形成貫通孔的微透鏡位置和形成在隔壁內(nèi)的發(fā)光層的位置匹配。從而，可以避免微透鏡形成位置的偏差，更可靠地提高從電光學(xué)裝置的發(fā)光元件所發(fā)出的光的取出效率。


圖1是表示使本發(fā)明具體化的第一實(shí)施方式的圖像形成裝置的概略側(cè)剖面圖。
圖2是表示第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的概略正剖面圖。
圖3是表示第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的概略平面圖。
圖4是表示第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的放大剖面圖。
圖5是說明第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的制造方法的流程圖。
圖6是說明第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的制造工序的說明圖。
圖7是說明第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的制造工序的說明圖。
圖8是說明第一實(shí)施方式圖像形成裝置的曝光頭的制造工序的說明圖。
圖9是說明第二實(shí)施方式的曝光頭的制造方法的流程圖。
圖10是說明第二實(shí)施方式圖像形成裝置的、曝光頭的制造工序的說明圖。
圖11是說明變更例的曝光頭的制造工序的說明圖。
圖12是說明變更例的曝光頭制造工序的說明圖。
圖中10-作為圖像形成裝置的打印機(jī)，15-作為轉(zhuǎn)印介質(zhì)的中間轉(zhuǎn)印帶，16-作為像載持體的感光鼓，19-作為帶電機(jī)構(gòu)的帶電輥，20-構(gòu)成曝光機(jī)構(gòu)的、作為電光學(xué)裝置的有機(jī)電致發(fā)光陣列曝光頭，21-作為顯影機(jī)構(gòu)的調(diào)色劑盒，22-構(gòu)成轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)印輥，26-構(gòu)成轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)的二次轉(zhuǎn)印輥，30-作為透明基板的玻璃基板，30a-發(fā)光元件形成面，30b-光取出面，33-作為發(fā)光元件的有機(jī)電致發(fā)光元件，39-作為強(qiáng)度補(bǔ)償層的補(bǔ)償玻璃層，39a-作為強(qiáng)度補(bǔ)償部的凸部，39h-作為貫通孔的收容孔，40-微透鏡，45-構(gòu)成液滴噴出裝置的液滴噴出頭，Gp-玻璃膏層，OEL-作為發(fā)光層的有機(jī)電致發(fā)光層，Pa-作為背面電極的陰極，Pc-作為透明電極的陽(yáng)極，T-作為著色粒子的調(diào)色劑。
具體實(shí)施例方式
(第一實(shí)施方式)下面，結(jié)合圖1～8，說明具體化了本發(fā)明的第一實(shí)施方式。圖1是作為圖像形成裝置的、表示電子照相術(shù)方式打印機(jī)的概略側(cè)剖面圖。
(電子照相術(shù)方式打印機(jī))如圖1所示，電子照相術(shù)方式打印機(jī)10(下面，簡(jiǎn)單稱打印機(jī)10)是備有箱體狀形成的筐體11。在其筐體11內(nèi)，設(shè)有驅(qū)動(dòng)輥12、從動(dòng)輥13和張緊輥(tension roller)14，對(duì)每一個(gè)輥12～14，緊設(shè)有作為轉(zhuǎn)印介質(zhì)的中間轉(zhuǎn)印帶15。并且，由于驅(qū)動(dòng)輥12的旋轉(zhuǎn)，中間轉(zhuǎn)印帶15設(shè)置成向圖1的箭頭方向循環(huán)驅(qū)動(dòng)可能。
作為4體像載持體的感光鼓16向中間轉(zhuǎn)印帶15的緊方向(副掃描方向Y)旋轉(zhuǎn)可能地并設(shè)在中間轉(zhuǎn)印帶15的上方。在其感光鼓16的外周面上形成著具有光導(dǎo)電性的感光層16a(參照?qǐng)D4)。感光層16a是在黑暗中帶正電或負(fù)電電荷，如果照射所定由所定波長(zhǎng)區(qū)域構(gòu)成的光，則成為使被照射的部位的電荷消失。即，電子照相術(shù)方式的打印機(jī)10是由這些4體的感光鼓16構(gòu)成的串聯(lián)式的打印機(jī)。
在每一個(gè)感光鼓16的周圍，分別配置有作為帶電機(jī)構(gòu)的帶電輥19、構(gòu)成曝光機(jī)構(gòu)的作為電光學(xué)裝置的有機(jī)電致發(fā)光陣列曝光頭20(以下簡(jiǎn)稱為曝光頭20)、作為顯影機(jī)構(gòu)的調(diào)色劑盒21、構(gòu)成轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)的一次轉(zhuǎn)印輥22和清洗機(jī)構(gòu)23。
帶電輥19是密接感光鼓16的半導(dǎo)電性橡膠輥。如果向此帶電輥19施加直流電壓而旋轉(zhuǎn)感光鼓16，則使感光鼓16的感光層16a的全周面帶電為所定的帶電電位。
曝光頭20是射出所定波長(zhǎng)區(qū)域的光的光源，如圖2所示，形成為長(zhǎng)板狀。其曝光頭20是其長(zhǎng)度方向平行于感光鼓16的軸方向(在圖1中，垂直于紙面方向主掃描方向X)，在從感光層16a只隔開所定距離的位置上被定位。并且，如果曝光頭20向鉛垂方向Z射出基于印刷數(shù)據(jù)的光而使感光鼓16向旋轉(zhuǎn)方向Ro旋轉(zhuǎn)，則感光層16a被所定波長(zhǎng)區(qū)域的光曝光。這樣，感光層16a失去被曝光的部位(曝光光點(diǎn))的電荷，在其外周面形成靜電圖像(靜電潛像)。另外，此曝光頭20曝光的光的波長(zhǎng)區(qū)域是和感光層16a光譜靈敏度相匹配的波長(zhǎng)區(qū)域。即，曝光頭20曝光的光的發(fā)光能的峰值波長(zhǎng)是大致一致于所述感光層16a的光譜靈敏度的峰值波長(zhǎng)。
調(diào)色劑盒21是以箱體形狀形成，在其內(nèi)部裝入直徑10μm左右的作為著色粒子的調(diào)色劑T。另外，在本實(shí)施方式的4體的調(diào)色劑盒21中，分別裝有對(duì)應(yīng)于4色(黑、青綠、深紅、黃)的調(diào)色劑T。在其調(diào)色劑盒21中，從感光鼓16一側(cè)，按順序具備顯影輥21a和供給輥21b。供給輥21b是通過旋轉(zhuǎn)將調(diào)色劑T輸送到顯影輥21a。顯影輥21a是通過與供給輥21b的摩擦等，使該供給輥21b所輸送的調(diào)色劑T帶電的同時(shí)，將已帶電的調(diào)色劑T均勻附著在該顯影輥21a的外周面。
并且，對(duì)感光鼓16施加所述帶電電位和反向電位的脈沖電位的狀態(tài)下，使供給輥21b和顯影輥21a旋轉(zhuǎn)。這樣，感光鼓16在所述曝光光點(diǎn)與顯影輥21a(調(diào)色劑T)之間給以所述脈沖電位相對(duì)的靜電吸附力。受靜電吸附力的調(diào)色劑T從該顯影輥21c的外周面移動(dòng)到所述曝光光點(diǎn)而吸附。由此，在每一個(gè)感光鼓16(每一個(gè)感光層16a)的外周面，形成分別對(duì)應(yīng)于靜電潛像的單色的可視像(顯像)(被顯影)。
作為中間轉(zhuǎn)印帶15的內(nèi)側(cè)面15a的、與所述每一個(gè)感光鼓16對(duì)峙的位置上，分別設(shè)有一次轉(zhuǎn)印輥22。一次轉(zhuǎn)印輥22是導(dǎo)電性輥，其外周面一邊密接在中間轉(zhuǎn)印帶15的內(nèi)側(cè)面15a一邊旋轉(zhuǎn)。向此一次轉(zhuǎn)印輥22施加直流電壓而使感光鼓16和中間轉(zhuǎn)印帶15旋轉(zhuǎn)，則附著在感光層16a的調(diào)色劑T受到一次轉(zhuǎn)印輥22一側(cè)的靜電吸附力，按順序移動(dòng)到中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b而被吸附。即，一次轉(zhuǎn)印輥22將形成在感光鼓16的顯像一次轉(zhuǎn)印在中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b。然后，由于每一個(gè)感光鼓16和一次轉(zhuǎn)印輥22，中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b四次重復(fù)由單色構(gòu)成的一次轉(zhuǎn)印，通過重疊這些顯像來獲得完全彩色的圖像(調(diào)色像)。
清洗機(jī)構(gòu)23具備省略圖示的LED等的光源和橡膠刮板，對(duì)向所述一次轉(zhuǎn)印后的感光層16a照射光而被帶電的感光層16a的電進(jìn)行消電。并且，清洗機(jī)構(gòu)23是利用橡膠刮板機(jī)械地除去殘留在已消電的感光層16a的調(diào)色劑T。
在中間轉(zhuǎn)印帶15的下側(cè)，配設(shè)有裝有記錄用紙的記錄用紙盒24。在其記錄用紙盒24的上側(cè)，配設(shè)有將記錄用紙P向中間轉(zhuǎn)印帶15一側(cè)供給的供紙輥25。在作為其供紙輥25的上側(cè)、對(duì)向驅(qū)動(dòng)輥12的位置上配設(shè)有構(gòu)成轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)的二次轉(zhuǎn)印輥26。二次轉(zhuǎn)印輥26和所述的每一個(gè)一次轉(zhuǎn)印輥22相同，是導(dǎo)電性輥，推壓記錄用紙P的背面，使該記錄用紙P的表面接觸在中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b。于是，如果直流電壓施加在此二次轉(zhuǎn)印輥26而旋轉(zhuǎn)中間轉(zhuǎn)印帶15，則吸附在中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b的調(diào)色劑T按順序移動(dòng)到記錄用紙P的表面上而被吸附。即，二次轉(zhuǎn)印輥26將形成在中間轉(zhuǎn)印帶15的外側(cè)面15b的調(diào)色像二次轉(zhuǎn)印在記錄用紙P的表面上。
在二次轉(zhuǎn)印輥26的上側(cè)，配設(shè)有內(nèi)部裝有熱源的加熱輥27a和壓住該加熱輥27a的壓輥27b。并且，當(dāng)二次轉(zhuǎn)印后的記錄用紙P被輸送到加熱輥27a與壓輥27b之間時(shí)，則由加熱而軟化轉(zhuǎn)印在記錄用紙P的調(diào)色劑T，浸透在記錄用紙P內(nèi)而固化。由此，在記錄用紙P的表面上定影調(diào)色像。定影了調(diào)色像的記錄用紙P變成為將由排紙輥28向筐體11的外側(cè)排出的狀態(tài)。
從而，打印機(jī)10通過曝光頭20曝光已帶電的感光層16a，在該感光層16a上形成靜電潛像。其次，顯影感光層16a的靜電潛像而在該感光層16a形成單色的顯像。接著，打印機(jī)10按順序?qū)⒏泄鈱?6a的顯像轉(zhuǎn)印在中間轉(zhuǎn)印帶15上，而在中間轉(zhuǎn)印帶15上形成完全彩色的調(diào)色像。然后，打印機(jī)10將中間轉(zhuǎn)印帶15上的調(diào)色像二次轉(zhuǎn)印在記錄用紙P上，并通過加熱加壓來定影調(diào)色像后結(jié)束印刷。
接著，下面說明設(shè)在上述打印機(jī)10的作為電光學(xué)裝置的曝光頭20。圖2是表示曝光頭20的正剖面圖。
如圖2所示，在曝光頭20具備作為透明基板的玻璃基板30。玻璃基板30是形成為長(zhǎng)件狀的無色透明的無堿玻璃基板，形成為其長(zhǎng)度方向(圖2的左右方向主掃描方向X)的寬度大致相同于感光鼓16的軸方向?qū)挾鹊拇笮　?br> 另外，在本實(shí)施方式中，關(guān)于其玻璃基板30，設(shè)上表面(相反于感光鼓16的面)作為發(fā)光元件形成面30a、下表面(感光鼓16一側(cè)的面)作為光取出面30b。并且，設(shè)玻璃基板30的厚度是使其光取出面30b作成為平滑(例如，表面粗糙度平均算術(shù)粗糙度為24μm以下)，而可以以獲得均勻厚度的最小厚度(最小基板厚度T1)來形成的。另外，在本實(shí)施方式中，其最小基板厚度T1為100μm，但不限于這些。
首先，下面說明玻璃基板30的發(fā)光元件形成面30a一側(cè)。圖3是從光取出面30b一側(cè)看曝光頭20的平面圖。圖4是沿著圖3中所示的虛線A-A的概略剖面圖。
如圖2所示，在玻璃基板30的發(fā)光元件形成面30a上，形成有多個(gè)像素形成區(qū)域31。在每一個(gè)像素形成區(qū)域31，分別形成著由薄膜晶體管32(以下簡(jiǎn)稱為TFT)和作為發(fā)光元件的有機(jī)電致發(fā)光元件(有機(jī)EL元件)33構(gòu)成的像素34。由于基于印刷數(shù)據(jù)所生成的信號(hào)，TFT32是變?yōu)榻油顟B(tài)，根據(jù)其接通狀態(tài)，使有機(jī)EL元件33發(fā)光。
如圖4所示，TFT32是在其最下層具備通道膜BC。通道膜BC是形成在發(fā)光元件形成面30a上的島嶼狀的p型多晶硅膜，在其左右兩側(cè)，形成省略圖示的活性化的n型區(qū)域(源區(qū)和漏區(qū))。即，TFT32是所謂的多晶硅型TFT。
在通道膜BC的上側(cè)中央位置上，從發(fā)光元件形成面30a一側(cè)，按順序形成有柵極絕緣膜Do、柵極電極Pg和柵極配線M1。柵極絕緣膜Do是硅氧化膜等的、具有光透過性的絕緣膜，沉積在通道膜BC的上側(cè)和發(fā)光元件形成面30a的大體全面上。柵極電極Pg是鉭等的低電阻金屬膜，形成在對(duì)向通道膜BC的大致中央位置。柵極配線M1是ITO等的具有光透過性的透明導(dǎo)電膜，電連接?xùn)艠O電極Pg和省略圖示的數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路。并且，如果數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路通過柵極配線M1向柵極電極Pg輸入數(shù)據(jù)信號(hào)，則TFT32變?yōu)榛谄鋽?shù)據(jù)信號(hào)的接通狀態(tài)。
作為通道膜BC的所述源區(qū)和漏區(qū)的上側(cè)，形成著向上方延伸的源極觸點(diǎn)Sc和漏極觸點(diǎn)Dc。每一個(gè)源極觸點(diǎn)Sc、Dc是由降低通道膜BC之間接觸電阻的金屬膜所形成。并且，這些每一個(gè)觸點(diǎn)Sc、Dc和柵極電極Pg(柵極配線M1)是由硅氧化膜等制作的第一層間絕緣膜D1各自電絕緣。
在每一個(gè)觸點(diǎn)Sc、觸點(diǎn)Dc的上側(cè)，分別形成著由鋁等的低電阻金屬膜構(gòu)成的電源線M2s和陽(yáng)極線M2d。電源線M2s是電連接源極觸點(diǎn)Sc與省略圖示的驅(qū)動(dòng)電源。陽(yáng)極線M2d電連接漏極觸點(diǎn)Dc與有機(jī)EL元件33。這些電源線M2s和陽(yáng)極線M2d是由硅氧化膜等構(gòu)成的第二層間絕緣膜D2來電絕緣的。并且，如果TFT32變?yōu)榛跀?shù)據(jù)信號(hào)的接通狀態(tài)，則從電源線M2s(驅(qū)動(dòng)電源)向陽(yáng)極線M2d(有機(jī)EL元件33)供給其與數(shù)據(jù)信號(hào)相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電流。
如圖4所示，在第二層間絕緣膜D2的上側(cè)，形成著有機(jī)EL元件33。在其有機(jī)EL元件33的最下層，形成著作為透明電極的陽(yáng)極Pc。陽(yáng)極Pc是ITO等的具有光透過性的透明導(dǎo)電膜，其一端連接在陰極線M2d。在其陽(yáng)極Pc的上側(cè)沉積了使每一個(gè)陽(yáng)極Pc互相電絕緣的硅氧化膜等的第三層間絕緣膜D3。在此第三層間絕緣膜D3上形成著使陽(yáng)極Pc的大致中央位置向上側(cè)開口的圓形孔(位置匹配孔D3h)。
在其第三層間絕緣膜D3的上側(cè)沉積了用感光性聚酰亞胺等樹脂所形成的隔壁層DB。在對(duì)向其隔壁層DB的位置匹配孔D3h的位置上，形成了向上側(cè)以錐狀開口的圓錐孔DBh。并且，由此圓錐孔DBh的內(nèi)周面形成隔壁DBw。
作為隔壁Pc的上側(cè)的位置匹配孔D3h的內(nèi)側(cè)，形成著由高分子類的有機(jī)材料構(gòu)成的有機(jī)電致發(fā)光層(有機(jī)EL層)OEL。即，有機(jī)EL層OEL是和位置匹配孔D3h的直徑(匹配直徑R1)相同的外徑來形成的。
有機(jī)EL層OEL是由空穴輸送層和發(fā)光層的兩層構(gòu)成的有機(jī)化合物層，在其上側(cè)，形成了由鋁等的具有光反射性的金屬膜構(gòu)成的、作為背面電極的陰極Pa。陰極Pa是大致全面覆蓋發(fā)光元件形成面30a一側(cè)來形成，通過使每一個(gè)像素34共有，向每一個(gè)有機(jī)EL元件33供給共同的電位。
即，有機(jī)EL元件33是由這些陽(yáng)極Pc、有機(jī)EL層OEL和陰極Pa所形成的有機(jī)電致發(fā)光元件(有機(jī)EL元件)，將其射出已發(fā)出的光的面(有機(jī)EL層OEL)的直徑變?yōu)槲恢闷ヅ淇譊3h的內(nèi)徑、即匹配直徑R1來形成。
在陰極Pa的上側(cè)，配設(shè)著由接合層La1來接合在陰極Pa(玻璃基板30)的密封基板38。密封基板38是俯視圖看時(shí)為和玻璃基板30相同尺寸所形成的無色透明的無堿玻璃基板，以便防止有機(jī)EL層OEL和各種金屬配線的氧化的。
于是，如果與數(shù)據(jù)信號(hào)相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電流供給在陽(yáng)極線M2d，則有機(jī)EL層OEL以與其驅(qū)動(dòng)電流相應(yīng)的亮度進(jìn)行發(fā)光。此時(shí)，從有機(jī)EL層OEL向陰極Pa一側(cè)(圖4的上側(cè))發(fā)出的光是由該陰極Pa反射。因此，從有機(jī)EL層OEL發(fā)出的光其幾乎是透過陽(yáng)極Pc、第二層間絕緣膜D2、第一層間絕緣膜D1、柵極絕緣膜Do和玻璃基板30而照射在光取出面30b一側(cè)(感光鼓16一側(cè))。
下面，說明玻璃基板30的光取出面30b的一側(cè)。
如圖2所示，在玻璃基板30的光取出面30b上，形成了作為強(qiáng)度補(bǔ)償層的補(bǔ)償玻璃層39。補(bǔ)償玻璃層39是面要敘述的玻璃膏層Gp(參照?qǐng)D5)的玻璃粉末熔化后燒成的。與其補(bǔ)償玻璃層39的有機(jī)EL層OEL相對(duì)峙的位置上形成了貫通其上下方向的作為貫通孔的受容孔39h。并且，通過在補(bǔ)償玻璃層39形成受容孔39h，形成作為強(qiáng)度補(bǔ)償部的凸部39a。
該凸部39a(補(bǔ)償玻璃層39)的厚度是在后面要敘述的像素形成工序(圖5所示的步驟S12)的加熱處理或等離子體處理中，避免玻璃基板30的機(jī)械性破壞，補(bǔ)償其機(jī)械強(qiáng)度的厚度(補(bǔ)償厚度T12)來形成的。另外，在本實(shí)施方式中，根據(jù)試驗(yàn)等，使其補(bǔ)償厚度T2相同于最小基板厚度T1的厚度即100μm，但是不限于這些。
在其受容孔39h的內(nèi)部，分別形成著微透鏡40。微透鏡40是對(duì)所述有機(jī)EL層OEL所發(fā)出的光的波長(zhǎng)具有充分的透過率的半球面狀光學(xué)面的、凸形狀透鏡，如圖4所示，形成為使有機(jī)EL元件33(有機(jī)EL層OEL)的中心位置位于其光軸A上位置。
其微透鏡40的直徑(開口直徑)是以受容孔39h的直徑(有機(jī)EL層OEL的直徑)、即以匹配直徑R1來形成的。由此，微透鏡40不會(huì)降低其邊緣部的成像性能，向感光層16a一側(cè)可以射出從有機(jī)EL層OEL所發(fā)出的光。
并且，微透鏡40是使其下側(cè)曲面(射出面40a)的頂點(diǎn)與感光層16a之間的距離變?yōu)橄褚粋?cè)焦點(diǎn)距離Hf，與從有機(jī)EL元件33沿著光軸A發(fā)出的光線(平行光線束)的光軸A之間的交點(diǎn)(像一側(cè)焦點(diǎn)F)位于感光層16a上。由此，從微透鏡40射出的光變成為在感光層16a上可形成所要尺寸的曝光光點(diǎn)。
于是，如果從有機(jī)EL層OEL發(fā)出的光入射在微透鏡40，則微透鏡40使入射光聚光而在感光層16a形成曝光光點(diǎn)。此時(shí)，從有機(jī)EL層OEL的中心位置對(duì)微透鏡40的直徑的張開角(開口角θ1)相應(yīng)地?cái)U(kuò)大，其擴(kuò)大只是與玻璃基板30的厚度以最小基板厚度T1所形成的部分相應(yīng)。即微透鏡40，只是玻璃基板30的厚度以最小基板厚度T1形成的部分相應(yīng)，提高有機(jī)EL層OEL所發(fā)出的光的取出效率，而可以增加曝光的光量。
(曝光頭的制造方法)接著，下面說明曝光頭20的制造方法。圖5是說明曝光頭20的制造方法的流程圖，圖6～圖8是說明該曝光頭20的制造方法的說明圖。
如圖5所示，首先進(jìn)行玻璃膏層粘接工序(步驟S11)。即在玻璃基板30的光取出面30b上粘接玻璃膏層Gp(參照?qǐng)D6)而形成凸部39a。
另外，本實(shí)施方式的玻璃膏層Gp為只是被曝光的部分可以溶解在堿性溶液等顯影液的所謂正片型感光性材料，是由玻璃粉末、粘接樹脂和感光性樹脂等構(gòu)成的膏。其玻璃粉末是氧化鉛、氧化硼和氧化硅的混合物或氧化鋅、氧化硼和氧化硅的混合物等，具有約400～600℃的軟化點(diǎn)的粉末。另外，粘接樹脂是通過加熱而具有與玻璃基板30的粘接性的樹脂(例如，丙烯樹脂等)，通過后面要敘述的燒成，從補(bǔ)償玻璃層39分解除去的樹脂。并且，感光性樹脂是通過由所定波長(zhǎng)構(gòu)成的曝光光進(jìn)行曝光而成為可以溶解在顯影液的樹脂，和粘接樹脂相同，是由后面要敘述的燒成來從補(bǔ)償玻璃層39分解除去的樹脂。
首先，在玻璃膏層粘接工序中，利用加熱輥將層疊在省略圖示的支持基板上的玻璃膏層Gp熱壓接在光取出面30b，如圖6所示，將玻璃膏層Gp從所述支持基板粘接在玻璃基板30上。
接著，將對(duì)向受容孔39h(隔壁DBw)的、具有所定圖案的光掩模Mk重疊在玻璃膏層Gp上，將該玻璃膏層Gp進(jìn)行曝光·顯影。由此，匹配直徑R1為直徑的受容孔39h圖案形成在玻璃膏層Gp上。如果進(jìn)行受容孔39h的圖案形成，則將玻璃基板30配置在所定高溫氣氛下，分解除去含在玻璃膏層Gp的有機(jī)物(粘接樹脂和感光性樹脂)，熔化玻璃粉末后進(jìn)行燒成。然后，在光取出面30b上形成由受容孔39h和凸部39a構(gòu)成的補(bǔ)償玻璃層39。
如圖5所示，如果在光取出面30b上形成凸部39a，則接著進(jìn)行像素形成工序(步驟S12)。即在玻璃基板30的發(fā)光元件形成面30a上，形成像素34。
如圖7所示，在像素形成工序中，首先，在發(fā)光元件形成面30a的全面，利用受激準(zhǔn)分子激光器來形成結(jié)晶化的多晶硅膜，將其多晶硅膜進(jìn)行圖案形成，在每一個(gè)像素形成區(qū)域31內(nèi)形成通道膜BC。如果形成了通道膜BC，則通過熱CVD法，在其通道膜BC和發(fā)光元件形成面30a的上側(cè)全面上形成由硅氧化膜等構(gòu)成的柵極絕緣膜Do，在其柵極絕緣膜Do上側(cè)全面上沉積鉭等的低電阻金屬膜。接著，將其低電阻金屬膜進(jìn)行圖案形成，在柵極絕緣膜Do的上側(cè)，形成柵極電極Pg。如果形成柵極電極Pg，則以其柵極電極Pg為掩模的離子摻雜法，在通道膜BC上形成n型區(qū)域(源區(qū)和漏區(qū))。
在通道膜BC上如果形成源區(qū)和漏區(qū)，則在柵極電極Pg和柵極絕緣膜Do的上側(cè)全面，沉積ITO等的具有光透過性的透明導(dǎo)電膜，將該透明導(dǎo)電膜進(jìn)行圖案形成的方法，在柵極電極Pg的上側(cè)，形成柵極配線M1。如果形成柵極配線M1，則由等離子CVD法，在柵極配線M1和柵極絕緣膜Do的上側(cè)全面上形成由硅氧化膜等構(gòu)成的第一層間絕緣膜D1，在作為其第一層間絕緣膜D1的、對(duì)向源區(qū)和漏區(qū)的位置，圖案形成一對(duì)觸點(diǎn)孔。然后，在觸點(diǎn)孔內(nèi)埋入金屬膜的方法，形成源極觸點(diǎn)Sc和漏極觸點(diǎn)Dc。
如果形成每一個(gè)觸點(diǎn)Sc、Dc，則在每一個(gè)觸點(diǎn)Sc、Dc和第一層間絕緣膜D1的上側(cè)全面沉積鋁等的金屬膜，通過對(duì)其金屬膜進(jìn)行圖案形成，形成連接在每一個(gè)觸點(diǎn)Sc、Dc的電源線M2s和陽(yáng)極線M2d。接著，在這些電源線M2s、陽(yáng)極線M2d和第一層間絕緣膜D1的上側(cè)全面，沉積硅氧化膜構(gòu)成的第二層間絕緣膜D2，在作為其第二層間絕緣膜D2、對(duì)向陽(yáng)極線M2d一部分的位置，形成經(jīng)由孔。接著，在其經(jīng)由孔內(nèi)和第二層間絕緣膜D2的上側(cè)全面，沉積ITO等的具有光透過性的透明導(dǎo)電膜，對(duì)其透明導(dǎo)電膜進(jìn)行圖案形成的方法來形成與陽(yáng)極線M2d連接的陽(yáng)極Pc。
如果形成陽(yáng)極Pc，則在其陽(yáng)極Pc和第二層間絕緣膜D2的上側(cè)全面，沉積由硅氧化膜等構(gòu)成的第三層間絕緣膜D3。然后，蝕刻第三層間絕緣膜D3，在對(duì)向收容孔39h的位置，形成匹配直徑R1的位置匹配孔D3h。
如果形成位置匹配孔D3h，則在其位置匹配孔D3h內(nèi)和第三層間絕緣膜D3的上側(cè)全面，涂敷由光固化性樹脂構(gòu)成的隔壁形成材料，通過對(duì)其隔壁形成材料進(jìn)行圖案形成，形成具有隔壁DBw(圓錐孔DBh)的隔壁層DB。
然后，通過噴墨法等在位置匹配孔D3h(圓錐孔DBh)內(nèi)噴出孔穴輸送層的構(gòu)成材料，并干燥和固化其構(gòu)成材料，形成孔穴輸送層。進(jìn)一步，通過噴墨法等，在其孔穴輸送層上噴出發(fā)光層的構(gòu)成材料(發(fā)光層形成材料)，并干燥和固化其構(gòu)成材料，形成發(fā)光層。即，形成直徑為匹配直徑R1的有機(jī)EL層OEL。如果形成有機(jī)EL層OEL，則在其有機(jī)EL層OEL和第三層間絕緣膜D3上側(cè)全面，沉積由鋁等的金屬膜構(gòu)成的陰極Pa，形成陽(yáng)極Pc、有機(jī)EL層OEL和陰極Pa構(gòu)成的有機(jī)EL元件33。
如果在發(fā)光元件形成面30a上形成像素34，則在像素34(陰極Pa)的上側(cè)全面，涂敷由環(huán)氧樹脂等構(gòu)成的粘接劑而形成粘接層La1，并通過其粘接層La1，將密封基板38粘接在玻璃基板30上。由此，在發(fā)光元件形成面30a上形成用密封基板38密封的像素34(TFT32和有機(jī)EL元件33)。
此時(shí)，由各種加熱處理或等離子體處理等，玻璃基板30雖然承受機(jī)械性負(fù)荷，但是，由補(bǔ)償厚度T2構(gòu)成的凸部39a(補(bǔ)償玻璃層39)來其機(jī)械強(qiáng)度得到補(bǔ)償，而可以避免其機(jī)械性破壞。
如圖5所示，在發(fā)光元件形成面30a上形成像素34，則進(jìn)行向收容孔39h噴出液滴的液滴噴出工序(步驟S13)。圖8是說明液滴噴出工序的說明圖。首先，說明用于噴出液滴的液滴噴出裝置的構(gòu)成。
如圖8所示，構(gòu)成液滴噴出裝置的液滴噴出頭45具備噴嘴板46。在其噴嘴板46的下表面(噴嘴形成面46a)上，向上方形成有噴出作為功能液的紫外線固化性樹脂Pu的多個(gè)噴嘴N。在每一個(gè)噴嘴N的上側(cè)，形成有連通省略圖示的收容箱子而向噴嘴N內(nèi)供給紫外線固化性樹脂Pu可能的供給室47。在每一個(gè)供給室47的上側(cè)，配設(shè)了上下方向往復(fù)振動(dòng)而擴(kuò)大、縮小供給室47內(nèi)容積的振動(dòng)板48。作為其振動(dòng)板48的上側(cè)的、對(duì)向每一個(gè)供給室47的位置上，配設(shè)了向上下方向伸縮而使振動(dòng)板48振動(dòng)的壓電元件49。
并且，如圖8所示，輸送到液滴噴出裝置的玻璃基板30，其光取出面30b配置成對(duì)向噴嘴形成面46a的位置。并且，玻璃基板30使發(fā)光元件形成面30a平行于噴嘴形成面46a、且每一個(gè)收容孔39h的中心位置分別布置在噴嘴N正下方而進(jìn)行定位。
在此，如果向液滴噴出頭45輸入用于噴出液滴的驅(qū)動(dòng)信號(hào)，則根據(jù)驅(qū)動(dòng)信號(hào)，壓電元件49伸縮而供給室47的容積被擴(kuò)大或縮小。此時(shí)，如果供給室47的容積縮小，則與已縮小的容積相對(duì)應(yīng)的紫外線固化性樹脂Pu從每一個(gè)噴嘴N作為微小液滴Ds而被噴出。被噴出的每一個(gè)微小液滴Ds分別彈落(噴)在收容孔39h內(nèi)的發(fā)光元件形成面30b上。接著，如果供給室47的容積被擴(kuò)大，則已擴(kuò)大的容積量相應(yīng)的紫外線固化性樹脂Pu從省略圖示的收容箱子向供給室47內(nèi)供給。即，液滴噴出頭45是由于這樣的供給室47的擴(kuò)大或縮小，向收容孔39h噴出所定量的紫外線固化性樹脂Pu。噴在收容孔39h內(nèi)的多個(gè)的微小液滴Ds是如圖8的雙點(diǎn)劃線所示，由于其表面張力而形成呈現(xiàn)半球面狀表面的液滴Dm。另外，此時(shí)，液滴噴出頭45只噴出液滴Dm的直徑變?yōu)槭杖菘?9h的直徑、即匹配直徑R1的液滴Dm。
如圖5所示，如果在收容孔39h內(nèi)已形成液滴Dm，則使其液滴Dm固化而進(jìn)行形成微透鏡40的透鏡形成工序(步驟S14)。即，將紫外線照射在液滴Dm并使液滴Dm固化。由此，在光取出面30b上形成具有匹配直徑R1的開口徑的微透鏡40。
下面，敘述如上所述構(gòu)成的本實(shí)施方式的效果。
(1)根據(jù)本實(shí)施方式，以最小基板厚度T1形成玻璃基板30的厚度，并在該玻璃基板30的光取出面30b形成凸部39a而使之補(bǔ)償玻璃基板30的機(jī)械強(qiáng)度。從而，只是與以最小基板厚度T1形成玻璃基板30的厚度相應(yīng)地可以增大微透鏡40的開口角θ1，可以制造提高了從有機(jī)EL元件33所發(fā)出的光的取出效率的曝光頭20。
(2)并且，由于在預(yù)先形成的平滑(算術(shù)平均粗糙度Ra為1μm以下)的光取出面30b上形成了微透鏡40，所以可以抑制其形狀的偏差。
(3)在上述實(shí)施方式中，在對(duì)向收容孔39h的位置上形成圓錐孔DBh(隔壁DBw)，在其收容孔39h和圓錐孔DBh(隔壁DBw)內(nèi)，分別噴出紫外線固化性樹脂Pu和有機(jī)EL層OEL構(gòu)成材料，使之形成微透鏡40和有機(jī)EL層OEL。從而，可以使微透鏡40的形成位置匹配在對(duì)向有機(jī)EL層OEL的位置，可以抑制其形成位置的偏差。
(4)并且，由相當(dāng)于微透鏡40的開口徑的匹配直徑R1來形成收容孔39h，所以，將該微透鏡40的開口徑確實(shí)成為匹配直徑R1，可以抑制其形狀的偏差。
(第二實(shí)施方式)下面，結(jié)合圖9和圖10來說明具體化了本發(fā)明的第二實(shí)施方式。另外，在第二實(shí)施方式中是變更了第一實(shí)施方式的收容孔39h和隔壁DBw(隔壁層DB)的制造方法，其他的點(diǎn)和第一實(shí)施方式相同的構(gòu)成。因此，在下面，詳細(xì)說明作為變更點(diǎn)的收容孔39h和隔壁DBw的制造方法。圖9是說明第二實(shí)施方式的曝光頭20的制造方法的流程圖，圖10是說明該曝光頭20的制造方法的說明圖。
如圖9所示，首先進(jìn)行在玻璃基板30的發(fā)光元件形成面30a上，形成TFT32，并在陽(yáng)極Pc上的隔壁層DB上形成隔壁DBw(圓錐孔DBh)的隔壁前工序(步驟S21)。另外，在本實(shí)施方式的隔壁層DB變成為吸收后面要敘述的曝光玻璃膏層Gp的曝光光Lp(參照?qǐng)D10)。
如圖9所示，如果在陽(yáng)極Pc上形成了隔壁DBw，則進(jìn)行玻璃膏涂敷工序(步驟S22)。即，在玻璃基板30的光取出面30b上涂敷玻璃膏而形成玻璃膏層Gp。另外，本實(shí)施方式的玻璃膏層Gp是只是被曝光的部分為可溶于堿性溶液等的顯影液的、所謂正片型感光性材料，是由玻璃粉末和感光性樹脂構(gòu)成的膏。
如圖9所示，如果在光取出面30b上形成了玻璃膏層Gp，則進(jìn)行隔壁后工序。即，將所述隔壁層DB為掩模，使該玻璃膏層Gp曝光在曝光光Lp而顯影(步驟S23)。由此，沒有必要單獨(dú)另配設(shè)用于曝光玻璃膏層Gp的光掩模，在對(duì)向隔壁層DB圓錐孔DBh的位置可以圖案形成由匹配直徑R1構(gòu)成的圓形孔、即收容孔39h。然后，通過燒成已顯影的玻璃膏層Gp，在補(bǔ)償玻璃層39上形成收容孔39h，并可以形成凸部39a。
如圖9所示，如果在圖案形成收容孔39h而形成補(bǔ)償玻璃層39，則在隔壁層DB內(nèi)，形成有機(jī)EL層OEL而形成有機(jī)EL元件33，在收容孔39h內(nèi)形成微透鏡40(步驟S13、S14)。
由此，沒有必要單獨(dú)另配設(shè)用于曝光玻璃膏層Gp的光掩模，在對(duì)向圓錐孔DBh(有機(jī)EL層OEL)的位置上自己匹配而可以形成收容孔39h(微透鏡40)。
另外，也可以如下變更上述的實(shí)施方式。
·在上述的實(shí)施方式中，燒成玻璃粉末而形成凸部39a，但不限于這些，例如，也可以是金屬膜等，只要其厚度可以補(bǔ)償玻璃基板30的機(jī)械強(qiáng)度的厚度來形成的就可以。
·在上述的實(shí)施方式中，將透明基板作為玻璃基板30來具體化，但不限于這些，例如，也可以是聚酰亞胺等的塑料基板，只要使有機(jī)EL層OEL所發(fā)出的光透過的透明基板就可以。
·在上述的實(shí)施方式中，向收容孔39h噴出紫外線固化性樹脂Pu而形成液滴Dm。但也可以是在此加上，對(duì)收容孔39h的內(nèi)周面實(shí)施疏液處理(例如，氟類等離子體處理或疏液材料的涂敷)之后，噴出紫外線固化性樹脂Pu而形成液滴Dm。由此，不會(huì)使微小液滴Ds濕潤(rùn)擴(kuò)散在收容孔39h的內(nèi)周面，而可以均勻形成呈現(xiàn)半球面狀的液滴Dm。
·在上述的實(shí)施方式中，用有機(jī)EL層OEL的內(nèi)徑(匹配直徑R1)大小來形成微透鏡40的開口徑。但不限于這些，例如，也可以用匹配直徑R1的兩倍的大小來形成開口徑。即，開口徑只要是不降低微透鏡40邊緣部的成像性能、并可以形成對(duì)應(yīng)于每一個(gè)有機(jī)EL層OEL的所要尺寸的曝光光點(diǎn)就可以。
·在上述的實(shí)施方式中，使微透鏡40作為半球面狀的凸鏡，但不限于這些，可以是作為半圓柱狀透鏡或凹鏡來具體化。由此，更能提高從有機(jī)EL元件33所發(fā)出的光的擴(kuò)散效率。
·在上述的實(shí)施方式中，采用了由紫外線固化性樹脂Pu來形成微透鏡40的構(gòu)成，但不限于這些，例如，可以是熱固化性樹脂，只要在收容孔39h中固化可能的功能液就可以。
·在上述的實(shí)施方式中，使射出面40a的頂點(diǎn)與感光層16a之間的距離作為像一側(cè)焦點(diǎn)距離Hf，將從有機(jī)EL層OEL所發(fā)出的光收集在感光層16a。但不限于這些，射出面40a的頂點(diǎn)與感光層16a之間的距離，例如可以是獲得有機(jī)EL層OEL的等倍數(shù)像的距離，而不是被像一側(cè)焦點(diǎn)距離Hf所限定的。
·在上述的實(shí)施方式中，通過液滴噴出裝置來形成微透鏡40。但不限于這些，形成微透鏡40的方法，例如，可以是將通過復(fù)制品法等來形成的微透鏡40配設(shè)在收容孔39h的構(gòu)成。
·在上述的實(shí)施方式中，采用了在每一個(gè)像素34中具備一個(gè)控制有機(jī)EL元件33的TFT32的構(gòu)成。但不限于這些，可以是在每一個(gè)像素34中具備兩個(gè)以上的控制有機(jī)EL元件33的TFT32的構(gòu)成，或者在玻璃基板30上不具備TFT32的構(gòu)成。
·在上述的實(shí)施方式中，采用了通過噴墨法形成有機(jī)EL層OEL的構(gòu)成。但不限于這些，形成有機(jī)EL層OEL的方法，例如，可以是旋轉(zhuǎn)涂敷法或真空蒸鍍等，并不是限定于噴墨法的。
·在上述的實(shí)施方式中，由高分子類的有機(jī)材料來形成有機(jī)EL層OEL，但也可以是低分子類有機(jī)材料，進(jìn)一步地，無機(jī)材料來形成的EL層也可以。
·在上述的實(shí)施方式中，將電光學(xué)裝置作為曝光頭20來具體化的，但不限于這些，例如，也可以是安裝在液晶面板上的背光，或具備平面狀的電子釋放元件，利用從該元件所釋放的電子來使熒光物質(zhì)發(fā)光的電場(chǎng)效果型顯示器(FED或SED)。
·在上述第二實(shí)施方式中，采用了在隔壁層DB上以隔壁為掩模來曝光玻璃膏層Gp。但不限于這些，例如，如圖1所示，也可以在形成隔壁層DB之前，形成補(bǔ)償玻璃層39(收容孔39h)。并且，也可以形成收容孔39h之后，在第三層間絕緣膜D3的上側(cè)全面，涂敷隔壁形成材料，將補(bǔ)償玻璃層39作為掩模而進(jìn)行所述隔壁形成材料的曝光·顯影。
由此，沒有必要單獨(dú)另配設(shè)用于曝光隔壁形成材料的光掩模，在對(duì)向補(bǔ)償玻璃層39的收容孔39h的位置，可以形成圓錐孔DBh(隔壁DBw)。另外，此時(shí)，補(bǔ)償玻璃層39吸收其曝光隔壁形成材料的曝光光Lp，隔壁形成材料優(yōu)選為只是被曝光的部分溶解在顯影液的正片型感光性材料。
·進(jìn)一步地，如圖12所示，也可以采用將隔壁形成材料和玻璃膏層Gp同時(shí)曝光，形成相當(dāng)于圓錐孔DBh(隔壁DBw)和收容孔39h的圖案。由此，沒有必要單獨(dú)另配設(shè)用于曝光隔壁形成材料的光掩模或沒有必要單獨(dú)另配設(shè)用于曝光玻璃膏層Gp的光掩模，在對(duì)向收容孔39h的位置可以形成圓錐孔DBh(隔壁DBw)。另外，此時(shí)，隔壁形成材料和玻璃膏層Gp優(yōu)選為只是被曝光的部分溶解在顯影液的正片型感光性材料。
權(quán)利要求
1.一種透明基板，從光取出面?zhèn)壬涑銎淙肷湓诠馊肷涿鎮(zhèn)裙?，其特征在于在所述光取出面形成微透鏡，在所述微透鏡的周圍，形成了從所述光取出面凸出而補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明基板，其特征在于其中所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成了貫通到所述光取出面的貫通孔的部分，所述微透鏡是形成在所述貫通孔的透鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明基板，其特征在于其中所述微透鏡是具有半球面狀光學(xué)面的透鏡，所述貫通孔是具有與所述微透鏡的開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的透明基板，其特征在于其中所述透明基板是玻璃基板，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的感光性玻璃膏層上圖案形成所述貫通孔之后燒成的。
5.一種電光學(xué)裝置，將從形成在透明基板的發(fā)光元件形成面上的發(fā)光元件所發(fā)出的光，從對(duì)向于所述發(fā)光元件形成面的所述透明基板的光取出面?zhèn)壬涑?，其特征在于其中與作為所述光取出面的所述發(fā)光元件相對(duì)峙的位置上形成微透鏡，在其微透鏡的周圍，形成了補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電光學(xué)裝置，其特征在于其中所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成了貫通到所述光取出面的貫通孔的部分，所述微透鏡是形成在所述貫通孔的微透鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電光學(xué)裝置，其特征在于其中所述微透鏡是具有半球面狀光學(xué)面的凸形狀的透鏡，所述貫通孔是具有與所述微透鏡開口徑相對(duì)的內(nèi)徑的圓形孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的電光學(xué)裝置，其特征在于其中所述透明基板是玻璃基板，所述強(qiáng)度補(bǔ)償部是在層疊在所述光取出面的感光性玻璃膏層上圖案形成所述貫通孔之后燒成的。
9.根據(jù)權(quán)利要求5～8的任一項(xiàng)中所述的電光學(xué)裝置，其特征在于其中所述發(fā)光元件是電致發(fā)光元件，其具備形成在所述光取出面?zhèn)鹊耐该麟姌O；相對(duì)所述透明電極而形成的背面電極；和在所述透明電極與所述背面電極之間形成了的發(fā)光層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電光學(xué)裝置，其特征在于其中所述發(fā)光層由有機(jī)材料形成，所述電致發(fā)光元件是有機(jī)電致發(fā)光元件。
11.一種圖像形成裝置，具備使像載持體的外周面帶電的帶電機(jī)構(gòu)；曝光已帶電的所述像載持體的外周面而形成潛像的曝光機(jī)構(gòu)；對(duì)所述潛像供給著色粒子而顯影顯像的顯影機(jī)構(gòu)；和將所述顯像轉(zhuǎn)印在轉(zhuǎn)印介質(zhì)上的轉(zhuǎn)印機(jī)構(gòu)；其特征在于其中所述曝光機(jī)構(gòu)具備權(quán)利要求5～10的任一項(xiàng)中所述的電光學(xué)裝置。
12.一種電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于其中在透明基板的光取出面上層疊強(qiáng)度補(bǔ)償層之后，在所述強(qiáng)度補(bǔ)償層上形成貫通到所述光取出面的貫通孔，而形成其補(bǔ)償所述透明基板的機(jī)械強(qiáng)度的強(qiáng)度補(bǔ)償部；并且，在作為對(duì)向所述光取出面的所述透明基板的發(fā)光元件形成面的、對(duì)向所述貫通孔的位置上形成發(fā)光元件，使之在所述貫通孔中形成射出所述發(fā)光元件所發(fā)出的光的微透鏡。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于所述發(fā)光元件是具備發(fā)光層的電致發(fā)光元件；由液滴噴出裝置向隔壁內(nèi)噴出由發(fā)光層形成材料構(gòu)成的液滴之后，通過固化已噴出的所述液滴來形成所述發(fā)光層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于將所述隔壁作為掩模而曝光由感光性材料構(gòu)成的所述強(qiáng)度補(bǔ)償層，并通過顯影所述強(qiáng)度補(bǔ)償層來形成所述貫通孔。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于將所述強(qiáng)度補(bǔ)償部作為掩模而曝光由感光性材料構(gòu)成的所述隔壁層，并通過顯影所述隔壁層來形成所述隔壁。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電光學(xué)裝置的制造方法，其特征在于同時(shí)曝光由感光性材料構(gòu)成的所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和由感光性材料構(gòu)成的隔壁層，而在所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和所述隔壁層上形成對(duì)應(yīng)于所述貫通孔的圖案，并通過顯影所述強(qiáng)度補(bǔ)償層和所述隔壁層來形成所述貫通孔和所述隔壁。
全文摘要
本發(fā)明提供一種避免微透鏡形狀和起形成位置的偏差，提高光取出效率的透明基板、電光學(xué)裝置、圖像形成裝置和電光學(xué)裝置的制造方法。其解決方法是以最小基板厚度T1來形成玻璃基板(30)的厚度，在其玻璃基板(30)的光取出面(30b)上形成了由玻璃膏層構(gòu)成的補(bǔ)償玻璃層(39)。然后，在補(bǔ)償玻璃層(39)上形成收容孔(39h)，形成了補(bǔ)償玻璃基板(30)的機(jī)械強(qiáng)度的凸部(39a)。進(jìn)一步地，對(duì)向收容孔(39h)的位置，形成隔壁DBw來包圍的有機(jī)EL層OEL，在該收容孔(39h)內(nèi)，噴出紫外線固化性樹脂而形成了微透鏡(40)。
文檔編號(hào)H05B33/14GK1784093SQ20051012670
公開日2006年6月7日 申請(qǐng)日期2005年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月29日
發(fā)明者豐田直之 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社