本技術(shù)涉及蓋板領(lǐng)域，特別是涉及一種鍍黑膜的蓋板。

背景技術(shù)：

1、手機行業(yè)經(jīng)過不斷升級，拍照功能越來越強大，而手機上的攝像頭做得數(shù)量越來越多且尺寸越來越大，導(dǎo)致現(xiàn)有技術(shù)中的手機后蓋的美觀程度較差，在手機后蓋中可以看到攝像頭的鏡頭，色差不一致。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種鍍黑膜的蓋板。

2、本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的：

3、一種鍍黑膜的蓋板，包括：蓋板和黑膜，所述黑膜包括四層鈦的氧化物層和四層二氧化硅層，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層交叉層疊，所述蓋板上開設(shè)有攝像頭孔，所述黑膜靠近所述鈦的氧化物層一側(cè)貼附在所述蓋板的表面上。

4、在其中的一個實施例中，所述蓋板的邊緣設(shè)置有卡槽。

5、在其中的一個實施例中，所述黑膜為長方體結(jié)構(gòu)。

6、在其中的一個實施例中，所述鈦的氧化物層為氧化鈦層或三氧化二鈦層。

7、在其中的一個實施例中，所述黑膜的反射率為60％。

8、在其中的一個實施例中，所述黑膜的透過率為40％。

9、在其中的一個實施例中，所述二氧化硅層的折射率為1.55。

10、在其中的一個實施例中，所述鈦的氧化物層的折射率為2.61。

11、在其中的一個實施例中，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層的厚度范圍均為80nm～120nm。

12、在其中的一個實施例中，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層的厚度均為90nm。

13、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型至少具有以下優(yōu)點：

14、本實用新型的鍍黑膜的蓋板通過設(shè)置蓋板和貼附在蓋板上的黑膜。黑膜包括四層鈦的氧化物層和四層二氧化硅層，鈦的氧化物層和二氧化硅層交叉層疊。蓋板上開設(shè)有攝像頭孔，黑膜靠近鈦的氧化物層一側(cè)貼附在蓋板的表面上。黑膜可以遮擋安裝在攝像頭孔中的攝像頭，使得用戶用肉眼看不見攝像頭，工作人員通過軟件模擬出與蓋板背面顏色一致的黑膜，以達(dá)到蓋板背面顏色一致的效果，提高美觀性，而攝像頭通過黑膜一定的折射率可以進行拍攝，不影響攝像頭的功能。

技術(shù)特征：

1.一種鍍黑膜的蓋板，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述蓋板的邊緣設(shè)置有卡槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述黑膜為長方體結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述鈦的氧化物層為氧化鈦層或三氧化二鈦層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述黑膜的反射率為60％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述黑膜的透過率為40％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述二氧化硅層的折射率為1.55。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述鈦的氧化物層的折射率為2.61。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層的厚度范圍均為80nm～120nm。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍黑膜的蓋板，其特征在于，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層的厚度均為90nm。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種鍍黑膜的蓋板，包括：蓋板和黑膜，所述黑膜包括四層鈦的氧化物層和四層二氧化硅層，所述鈦的氧化物層和所述二氧化硅層交叉層疊，所述蓋板上開設(shè)有攝像頭孔，所述黑膜靠近所述鈦的氧化物層一側(cè)貼附在所述蓋板的表面上。黑膜可以遮擋安裝在攝像頭孔中的攝像頭，使得用戶用肉眼看不見攝像頭，工作人員通過軟件模擬出與蓋板背面顏色一致的黑膜，以達(dá)到蓋板背面顏色一致的效果，提高美觀性，而攝像頭通過黑膜一定的折射率可以進行拍攝，不影響攝像頭的功能。

技術(shù)研發(fā)人員：馮毅
受保護的技術(shù)使用者：信利光電股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240412
技術(shù)公布日：2024/12/23