專利名稱：光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光纖通訊光無(wú)源器件，特別是涉及一種光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
光纖衰減器有多種結(jié)構(gòu)和形式，其中一種方案有反射率漸變反射膜，通過(guò)平移或轉(zhuǎn)動(dòng)反射率漸變反射膜的光學(xué)玻璃片改變光強(qiáng)方式(如圖1所示)。在圖1中，光纖衰減器包括雙光纖準(zhǔn)直器101、全反射鏡片102、反射率漸變的反射鏡片103。當(dāng)反射鏡片103在雙光纖準(zhǔn)直器101和全反射鏡片102之間入射光和反射光之中移動(dòng)時(shí)，雙光纖接受的光強(qiáng)會(huì)逐漸發(fā)生變化，從而形成衰減器(見(jiàn)專利USP6,130,984)。
這樣結(jié)構(gòu)一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，反射鏡片103平移時(shí)，衰減器的dB值將隨反射鏡片103位移線性變化。這衰減器問(wèn)題往往是最小的衰減值往往偏大。
光纖衰減器另一種常見(jiàn)形式如圖2所示，它包括01，202為準(zhǔn)直器201、202、螺母203、頂端為特殊形狀的擋光法片204。
其中的UPS為較好的一種結(jié)構(gòu)，由于擋光法204頂端采用特殊形狀設(shè)計(jì)，它擋光產(chǎn)生的衰減，使擋光法片204平移量與擋光衰減的dB值接近線性變化，還有其他進(jìn)行擋光方式。
這樣擋光方式弱點(diǎn)，這樣機(jī)械件工藝制造和控制不易，另一個(gè)方面他們隨平移衰減的速度太快，較難實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種加工制造容易、隨平移衰減的速度和緩、具有較高分辨率光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是本實(shí)用新型是一種光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍有增透膜具有曲線邊緣。
所述的曲線邊緣為隨平移量線性或近似線性衰減形狀。
所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為增透膜。
所述的光學(xué)通光面鍍的增透膜采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為全反射膜。
所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜采用近似梯形曲線邊緣，其余部分為增透膜。
所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜的曲線邊緣為螺旋形邊緣。
所述的曲線邊緣可采用膠片或照片方式實(shí)現(xiàn)多形狀的圖案。
采用上述方案后，由于本實(shí)用新型光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍的增透膜具有曲線邊緣，該曲線邊緣為隨平移量線性或近似線性衰減形狀，因而，本實(shí)用新型具有隨平移衰減的速度和緩和具有較高分辨率的優(yōu)點(diǎn)。且由于本實(shí)用新型是采用玻璃材料和全反射膜實(shí)現(xiàn)光強(qiáng)改變，它帶來(lái)的好處是擋光外形易實(shí)現(xiàn)性，比直接采用檔光金屬件或刀口易于加工，可采用照相、光刻、印刷等多種方式制作。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。


圖1是一種習(xí)用光纖衰減器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是另一種習(xí)用光纖衰減器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型第一個(gè)實(shí)施例的正視圖；圖4是本實(shí)用新型第二個(gè)實(shí)施例的正視圖；圖5是本實(shí)用新型第三個(gè)實(shí)施例的正視圖；圖6A、6B是本實(shí)用新型第四個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本實(shí)用新型的應(yīng)用示意圖；圖8是應(yīng)用本實(shí)用新型制成的光纖衰減器結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
圖7是本實(shí)用新型的應(yīng)用示意圖。它包括光纖準(zhǔn)直器301、302、衰減片303。
如圖3所示，本實(shí)用新型光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，衰減片303被分為兩個(gè)區(qū)域，A區(qū)為鍍?nèi)瓷淠?，B區(qū)為鍍?cè)鐾改ぃ溥吘壙刹捎锰厥馇€邊緣以保證衰減片303平移到兩準(zhǔn)直器301、302之間，衰減量dB值或光強(qiáng)衰減成百分比與303平移量接近線性或線性關(guān)系。
圖3是本實(shí)用新型第一個(gè)實(shí)施例。所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜(A區(qū))采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為增透膜(B區(qū))。
圖4是本實(shí)用新型第二個(gè)實(shí)施例。所述的光學(xué)通光面鍍的增透膜(B區(qū))采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為全反射膜(A區(qū))。
第一個(gè)實(shí)施例實(shí)際與與第二個(gè)實(shí)施例全反射膜(A區(qū))與增透膜(B區(qū))位置顛倒。
圖5是本實(shí)用新型第三個(gè)實(shí)施例。所述的光學(xué)通光面鍍的增透膜(B區(qū))采用半邊全反射膜，即全反射膜(A區(qū))采用近似梯形曲線邊緣，其余部分為增透膜(B區(qū))。當(dāng)然其邊緣可以為直線或曲線。
實(shí)際上，采用光刻與鍍膜技術(shù)我們可在玻璃片上實(shí)現(xiàn)各種形式全反射膜邊緣，以達(dá)到平移量與衰減量關(guān)系，使設(shè)計(jì)者以較大的設(shè)計(jì)空間。
除了平移外，亦可設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)動(dòng)方式。圖6A、6B是本實(shí)用新型第四個(gè)實(shí)施例。它是螺旋式全反射膜外型，A區(qū)為全反射膜。旋轉(zhuǎn)過(guò)程中不斷增加遮掩光斑(GB)面積實(shí)現(xiàn)逐步衰減光強(qiáng)的目的。
在上述各圖中，標(biāo)示GB為光斑。
采用現(xiàn)代光刻腐蝕技術(shù)，本實(shí)用新型衰減片的邊緣形狀可以達(dá)到實(shí)際所需或?qū)嶒?yàn)設(shè)計(jì)的形狀。如當(dāng)圖3中擋光部分可以非常銳利的形狀，而在金屬件擋光片則較難實(shí)現(xiàn)，本專利亦采用膠片，或照片方式實(shí)現(xiàn)多形狀的衰減片圖案，本專利為衰減器制作提供了一種設(shè)計(jì)空間。
圖8是應(yīng)用本實(shí)用新型制成的光纖衰減器結(jié)構(gòu)示意圖。它包括雙光纖準(zhǔn)直器601、衰減片602、全反射鏡603、固定準(zhǔn)直器與全反射鏡支架604、固定準(zhǔn)直器支架605、焊錫606(或膠)、平移塊607、螺桿608。
本實(shí)用新型的發(fā)明點(diǎn)就在于光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍有增透膜具有曲線邊緣。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于其光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍有增透膜具有曲線邊緣。
2.據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的曲線邊緣為隨平移量線性或近似線性衰減形狀。
3.據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為增透膜。
4.據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的光學(xué)通光面鍍的增透膜采用筆尖形曲線邊緣，其余部分為全反射膜。
5.據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜采用近似梯形曲線邊緣，其余部分為增透膜。
6.據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的光學(xué)通光面鍍的全反射膜的曲線邊緣為螺旋形邊緣。
7.據(jù)權(quán)利要求1至6所述的光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的曲線邊緣可采用膠片、照片或印刷方式實(shí)現(xiàn)多形狀的圖案。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光學(xué)衰減片的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍的增透膜具有曲線邊緣。所述的曲線邊緣為隨平移量線性或近似線性衰減形狀。由于本實(shí)用新型光學(xué)通光面鍍的全反射膜和鍍有增透膜具有曲線邊緣，該曲線邊緣為隨平移量線性或近似線性衰減形狀，因而，本實(shí)用新型具有隨平移衰減的速度和緩、具有較高分辨率。且本實(shí)用新型可采用照相、光刻、印刷等多種方式制作，加工制造容易。
文檔編號(hào)H04B10/12GK2733383SQ20042007946
公開(kāi)日2005年10月12日 申請(qǐng)日期2004年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月8日
發(fā)明者吳礪 申請(qǐng)人:吳礪