本文涉及但不限于顯示，尤指一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

1、有機發(fā)光二極管（oled，organic?light?emitting?diode）為主動發(fā)光顯示器件，具有自發(fā)光、廣視角、高對比度、低耗電、極高反應(yīng)速度等優(yōu)點。隨著顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，以oled為發(fā)光元件、由薄膜晶體管（tft，thin?film?transistor）進行信號控制的顯示裝置已成為目前顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。

2、然而，顯示產(chǎn)品存在不斷擴大的暗點（gds，growing?dark?spot）的問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、以下是對本文詳細描述的主題的概述。本概述并非是為了限制權(quán)利要求的保護范圍。

2、本公開實施例提供了一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置，以解決顯示產(chǎn)品gds的問題。

3、第一方面，本公開實施例提供了一種顯示基板，包括：襯底基板、依次設(shè)置在所述襯底基板上的驅(qū)動結(jié)構(gòu)層、顯示結(jié)構(gòu)層和偏光片，所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)層包括像素驅(qū)動電路，所述顯示結(jié)構(gòu)層包括沿遠離所述襯底基板方向依次設(shè)置的第一電極、像素定義層、隔離柱、有機發(fā)光層和第二電極，所述像素定義層包括多個像素開口，所述像素開口暴露出所述第一電極，所述有機發(fā)光層至少設(shè)置在所述像素開口內(nèi)，所述隔離柱位于所述像素定義層遠離所述襯底基板的一側(cè)，且所述隔離柱在所述襯底基板上的正投影和所述像素開口在所述襯底基板上的正投影不交疊；所述第一電極與所述像素驅(qū)動電路電連接；其中，在平行于所述襯底基板的平面內(nèi)，至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣；或者，相鄰的至少兩個所述隔離柱之間相互絕緣。

4、一種示例性實施例中，所述至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣，包括：至少一個所述隔離柱在所述襯底基板上的正投影和所述有機發(fā)光層在所述襯底基板上的正投影不交疊，且至少一個所述隔離柱在所述襯底基板上的正投影和所述第二電極在所述襯底基板上的正投影不交疊。

5、一種示例性實施例中，所述至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣，包括：所述顯示結(jié)構(gòu)層還包括至少一個絕緣包裹層，所述絕緣包裹層包裹在所述隔離柱的表面，設(shè)置為使所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣。

6、一種示例性實施例中，所述絕緣包裹層的形狀與所述隔離柱的形狀相同。

7、一種示例性實施例中，所述絕緣包裹層在所述襯底基板上的正投影與所述第二電極在所述襯底基板上的正投影至少部分交疊。

8、一種示例性實施例中，所述相鄰的至少兩個所述隔離柱之間相互絕緣，包括：所述顯示結(jié)構(gòu)層還包括設(shè)置在所述像素定義層遠離所述襯底基板一側(cè)的至少一個隔斷部，所述有機發(fā)光層和所述第二電極覆蓋所述隔斷部和所述隔離柱，所述隔斷部在所述襯底基板上的正投影和所述像素開口在所述襯底基板上的正投影不交疊；在平行于所述襯底基板的平面內(nèi)，所述隔斷部位于相鄰的所述隔離柱之間，設(shè)置為使自身所在位置處的所述第二電極斷開。

9、一種示例性實施例中，多個所述隔離柱在所述襯底基板上呈陣列分布，多個所述隔斷部和多個所述隔離柱之間相互間隔設(shè)置。

10、第二方面，本公開實施例提供了一種顯示基板的制備方法，包括：在襯底基板上形成驅(qū)動結(jié)構(gòu)層，所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)層包括像素驅(qū)動電路；在所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)層上依次形成第一電極、像素定義層、隔離柱、有機發(fā)光層和第二電極；其中，所述第一電極與所述像素驅(qū)動電路電連接；所述像素定義層包括多個像素開口，所述像素開口暴露出所述第一電極，所述有機發(fā)光層至少設(shè)置在所述像素開口內(nèi)，所述隔離柱位于所述像素定義層遠離所述襯底基板的一側(cè)，且所述隔離柱在所述襯底基板上的正投影和所述像素開口在所述襯底基板上的正投影不交疊；在所述第二電極遠離所述襯底基板的一側(cè)貼附偏光片；其中，在平行于所述襯底基板的平面內(nèi)，至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣；或者，相鄰的至少兩個所述隔離柱之間相互絕緣。

11、一種示例性實施例中，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：在至少一個所述隔離柱遠離所述襯底基板的一側(cè)形成保護層，所述保護層包覆所述隔離柱；在形成所述第二電極之后，所述方法還包括：去除所述保護層，使所述至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣。

12、一種示例性實施例中，所述在至少一個所述隔離柱遠離所述襯底基板的一側(cè)形成保護層，包括：在至少一個所述隔離柱遠離所述襯底基板的一側(cè)利用光刻膠形成所述保護層，在沿遠離所述襯底基板的方向上，所述保護層平行于所述襯底基板的橫截面的面積逐漸增加。

13、一種示例性實施例中，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：在至少一個所述隔離柱遠離所述襯底基板的一側(cè)形成絕緣包裹層，所述絕緣包裹層包覆所述隔離柱且與所述隔離柱的形狀相同，使所述至少一個所述隔離柱與后續(xù)形成的所述第二電極之間相互絕緣。

14、一種示例性實施例中，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：在所述像素定義層遠離所述襯底基板的一側(cè)形成至少一個隔斷部，所述隔斷部在所述襯底基板上的正投影和所述像素開口在所述襯底基板上的正投影不交疊；在平行于所述襯底基板的平面內(nèi)，所述隔斷部位于相鄰的所述隔離柱之間，后續(xù)形成的所述第二電極在所述隔斷部處斷開，使相鄰的至少兩個所述隔離柱之間相互絕緣。

15、一種示例性實施例中，所述隔斷部的材料在通電前后的體積不同；在形成所述第二電極后，所述方法還包括：在第一時間段內(nèi)對所述隔斷部進行通電，通過所述隔斷部在通電前后的體積變化使所述隔斷部所在位置處的所述第二電極斷開。

16、一種示例性實施例中，所述隔斷部的材料包括摻雜有金屬粒子的環(huán)氧樹脂。

17、第三方面，本公開實施例提供了一種顯示裝置，包括如上所述的顯示基板，或者，包括采用如上制備方法得到的顯示基板。

18、本公開實施例提供的顯示基板，通過設(shè)置至少一個隔離柱與第二電極之間相互絕緣，或者，相鄰的至少兩個隔離柱之間相互絕緣，切斷了隔離柱與第二電極之間的離子傳輸通道，使得即便偏光片內(nèi)的碘離子和鉀離子等運動到第二電極處，也不會通過多個隔離柱運動到顯示區(qū)域內(nèi)部，能夠避免顯示基板產(chǎn)生gds不良。

19、本申請的其它特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本申請而了解。本申請的其他優(yōu)點可通過在說明書以及附圖中所描述的方案來實現(xiàn)和獲得。

20、在閱讀并理解了附圖和詳細描述后，可以明白其他方面。

技術(shù)特征：

1.一種顯示基板，包括：襯底基板、依次設(shè)置在所述襯底基板上的驅(qū)動結(jié)構(gòu)層、顯示結(jié)構(gòu)層和偏光片，所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)層包括像素驅(qū)動電路，所述顯示結(jié)構(gòu)層包括沿遠離所述襯底基板方向依次設(shè)置的第一電極、像素定義層、隔離柱、有機發(fā)光層和第二電極，所述像素定義層包括多個像素開口，所述像素開口暴露出所述第一電極，所述有機發(fā)光層至少設(shè)置在所述像素開口內(nèi)，所述隔離柱位于所述像素定義層遠離所述襯底基板的一側(cè)，且所述隔離柱在所述襯底基板上的正投影和所述像素開口在所述襯底基板上的正投影不交疊；所述第一電極與所述像素驅(qū)動電路電連接；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣，包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述至少一個所述隔離柱與所述第二電極之間相互絕緣，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述絕緣包裹層的形狀與所述隔離柱的形狀相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述絕緣包裹層在所述襯底基板上的正投影與所述第二電極在所述襯底基板上的正投影至少部分交疊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述相鄰的至少兩個所述隔離柱之間相互絕緣，包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示基板，其特征在于，多個所述隔離柱在所述襯底基板上呈陣列分布，多個所述隔斷部和多個所述隔離柱之間相互間隔設(shè)置。

8.一種顯示基板的制備方法，包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述在至少一個所述隔離柱遠離所述襯底基板的一側(cè)形成保護層，包括：

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，在形成所述有機發(fā)光層和所述第二電極之前，所述方法還包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制備方法，其特征在于，所述隔斷部的材料在通電前后的體積不同；在形成所述第二電極后，所述方法還包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述隔斷部的材料包括摻雜有金屬粒子的環(huán)氧樹脂。

15.一種顯示裝置，包括如權(quán)利要求1至7中任意一項所述的顯示基板，或者，包括采用如權(quán)利要求8至14中任意一項制備方法得到的顯示基板。

技術(shù)總結(jié)
顯示基板及其制備方法、顯示裝置。顯示基板包括襯底基板、依次設(shè)置在襯底基板上的驅(qū)動結(jié)構(gòu)層、顯示結(jié)構(gòu)層和偏光片，驅(qū)動結(jié)構(gòu)層包括像素驅(qū)動電路，顯示結(jié)構(gòu)層包括沿遠離襯底基板方向依次設(shè)置的第一電極、像素定義層、隔離柱、有機發(fā)光層和第二電極，像素定義層包括多個像素開口，像素開口暴露出第一電極，有機發(fā)光層至少設(shè)置在像素開口內(nèi)，隔離柱位于像素定義層遠離襯底基板的一側(cè)，且隔離柱在襯底基板上的正投影和像素開口在襯底基板上的正投影不交疊；第一電極與像素驅(qū)動電路電連接；其中，在平行于襯底基板的平面內(nèi)，至少一個隔離柱與第二電極之間相互絕緣；或者，相鄰的至少兩個隔離柱之間相互絕緣。

技術(shù)研發(fā)人員：楊靜,王晶,孫韜,王純陽
受保護的技術(shù)使用者：京東方科技集團股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30