本技術涉及顯示，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法。

背景技術：

1、oled(organic?light-emitting?diode，有機發(fā)光二極管)是由多層有機層和兩側電極構成的三明治結構的主動發(fā)光器件，它是由多層有機層和兩側電極構成的三明治結構的主動發(fā)光器件。目前，基于amoled(active-matrix?organic?light-emitting?diode，有源矩陣有機發(fā)光二極體)的顯示屏已經(jīng)在智能手機、手表以及筆記本電腦等領域得到商業(yè)化。

2、但是，現(xiàn)有顯示屏的性能有待提升。

技術實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本技術的目的在于提出一種顯示面板，可提升陰極成膜連續(xù)性，降低暗點發(fā)生率，從而提升顯示效果。

2、基于上述目的，本技術提供了一種顯示面板，該顯示面板包括：

3、基板；

4、陽極層，設置于所述基板的一側，所述陽極層包括多個陽極；

5、像素定義層，與所述陽極層設置于所述基板的同側，所述像素定義層上形成多個暴露所述陽極的像素開口；

6、隔離結構，設置于所述像素定義層遠離所述基板的一側，所述隔離結構圍合成與所述像素開口對應的多個隔離開口；所述隔離開口包括第一類隔離開口和第二類隔離開口；

7、發(fā)光功能層，設置于所述隔離開口內且覆蓋所述陽極，所述發(fā)光功能層由所述隔離結構隔斷，所述發(fā)光功能層包括分別設置于所述第一類隔離開口內的第一顏色發(fā)光層和設置于所述第二類隔離開口內的第二顏色發(fā)光層；

8、陰極層，設置于所述隔離開口內且覆蓋所述發(fā)光功能層，所述陰極層由所述隔離結構隔斷成多個陰極；

9、第一保護層，設置于所述像素定義層遠離所述基板的一側且位于所述第二類隔離開口內，且所述第一保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊。

10、在其中一種實施方式中，所述隔離結構包括支撐部和冠部，所述冠部位于所述支撐部遠離所述基板的一側，所述支撐部在所述基板上的正投影的面積小于所述冠部在所述基板上的正投影的面積，且所述支撐部在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影之內；

11、優(yōu)選地，所述第一保護層在所述基板上的正投影與所述冠部在所述基板上的正投影至少部分交疊，且與所述支撐部在所述基板上的正投影無交疊；

12、優(yōu)選地，所述支撐部為導電結構，所述陰極層與所述支撐部電性連接；

13、優(yōu)選地，所述顯示面板還包括封裝層，所述封裝層覆蓋所述陰極層和所述隔離結構。

14、在其中一種實施方式中，所述隔離開口還包括第三類隔離開口，所述發(fā)光功能層還包括第三顏色發(fā)光層，所述第三顏色發(fā)光層設置于所述第三類隔離開口內；所述顯示面板還包括：

15、第二保護層，設置于所述像素定義層遠離所述基板的一側且位于所述第三類隔離開口內，所述第二保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊；

16、優(yōu)選地，所述第二保護層在所述基板上的正投影與所述冠部在所述基板上的正投影至少部分交疊，且與所述支撐部在所述基板上的正投影無交疊；

17、優(yōu)選地，所述第二保護層在所述第一顏色發(fā)光層制備前制備，并在所述第一顏色發(fā)光層圖形化時被去除；

18、優(yōu)選地，所述第一保護層和所述第二保護層通過同一道工序制備得到；

19、優(yōu)選地，所述第二保護層的材料包括金屬；

20、優(yōu)選地，所述第二保護層的材料與所述陰極層的材料相同；

21、優(yōu)選地，所述第一保護層的材料與所述第二保護層的材料相同，所述第一保護層和所述第二保護層的厚度相同。

22、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括：

23、第三保護層，設置于所述像素定義層遠離所述基板的一側且位于所述第三類隔離開口內，所述第三保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊；

24、優(yōu)選地，所述第三保護層在所述基板上的正投影與所述冠部在所述基板上的正投影至少部分交疊，且與所述支撐部在所述基板上的正投影無交疊；

25、優(yōu)選地，所述第三保護層在所述一顏色發(fā)光層制備后制備，并在所述第二顏色發(fā)光層圖形化時被去除；

26、優(yōu)選地，所述第三保護層的材料包括金屬；

27、優(yōu)選地，所述第三保護層的材料與所述陰極層的材料相同。

28、在其中一種實施方式中，第二保護層，所述第二保護層在所述第一顏色發(fā)光層制備前制備，并在所述第一顏色發(fā)光層圖形化時被減薄，減薄后的所述第二保護層在所述第二顏色發(fā)光層圖形化時被去除。

29、在其中一種實施方式中，所述第一保護層在所述第一顏色發(fā)光層制備前制備，并在所述第一顏色發(fā)光層圖形化時被去除；

30、優(yōu)選地，所述第一保護層的材料包括金屬；

31、優(yōu)選地，所述第一保護層的材料與所述陰極層的材料相同。

32、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示面板，其包括：

33、基板；

34、陽極層，設置于所述基板的一側，所述陽極層包括多個陽極；

35、像素定義層，與所述陽極層設置于所述基板的同側，所述像素定義層上形成多個暴露所述陽極的像素開口；

36、隔離結構，設置于所述像素定義層遠離所述基板的一側，所述隔離結構圍合成與所述像素開口對應的多個隔離開口；所述隔離開口包括第一類隔離開口和第三類隔離開口；

37、發(fā)光功能層，設置于所述隔離開口內且覆蓋所述陽極，所述發(fā)光功能層由所述隔離結構隔斷，所述發(fā)光功能層包括至少部分設置于所述第一類隔離開口內的第一顏色發(fā)光層，以及至少部分設置于所述第三類像素開口內的第三顏色發(fā)光層；

38、陰極層，設置于所述隔離開口內且覆蓋所述發(fā)光功能層，所述陰極層由所述隔離結構隔斷成多個陰極；

39、其中，所述像素定義層上形成有第一凹坑，所述第一凹坑位于所述第三類隔離開口內，且至少部分所述第一凹坑在所述基板上的正投影位于所述隔離結構在所述基板上的正投影內。

40、在其中一種實施方式中，所述隔離開口還包括第二類隔離開口，所述發(fā)光功能層還包括第二顏色發(fā)光層，所述第二顏色發(fā)光層設置于所述第二類隔離開口內；

41、其中，所述像素定義層上形成有第二凹坑，所述第二凹坑位于所述第二類隔離開口內，且所述第二凹坑在所述基板上的正投影位于所述隔離結構在所述基板上的正投影內；

42、優(yōu)選地，所述第二凹坑的深度小于所述第一凹坑的深度；

43、優(yōu)選地，所述像素開口包括位于所述第一類隔離開口中的第一類像素開口、位于所述第二類隔離開口中的第二類像素開口、位于所述第三類隔離開口的第三像素開口，所述第一凹坑為環(huán)形，所述第一凹坑在所述基板上的正投影圍繞所述第三類像素開口在所述基板上的正投影；

44、優(yōu)選地，所述第二凹坑為環(huán)形，所述第二凹坑在所述基板上的正投影圍繞所述第二類像素開口在所述基板上的正投影；

45、優(yōu)選地，所述隔離結構包括支撐部和冠部，所述冠部位于所述支撐部遠離所述基板的一側，所述支撐部在所述基板上的正投影的面積小于所述冠部在所述基板上的正投影的面積，且所述支撐部在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影之內；

46、優(yōu)選地，所述支撐部為導電結構，所述陰極層與所述支撐部電性連接；

47、優(yōu)選地，所述顯示面板還包括封裝層，所述封裝層覆蓋所述陰極層和所述隔離結構。

48、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示面板的制備方法，其包括：

49、在基板的一側形成陽極層，所述陽極層包括多個陽極；

50、在所述陽極層相對所述基板的同側形成像素定義層，所述像素定義層上形成多個暴露所述陽極的像素開口；

51、在所述像素定義層遠離所述基板的一側形成隔離結構，所述隔離結構圍合成與所述像素開口對應的多個隔離開口；所述隔離開口包括第一類隔離開口和第二類隔離開口；

52、在所述像素定義層遠離所述基板的一側且與所述第二類隔離開口內形成第一保護層；所述第一保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊；

53、在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第一顏色發(fā)光層和第一陰極層；所述第一顏色發(fā)光層覆蓋所述第一保護層；

54、對所述第一陰極層和所述第一顏色發(fā)光層進行圖形化，以去除隔離結構上和所述第二類隔離開口內的所述第一陰極層和所述第一顏色發(fā)光層，以及所述第一保護層，保留所述第一類隔離開口內的所述第一陰極層和所述第一顏色發(fā)光層；

55、在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第二顏色發(fā)光層和第二陰極層；

56、對所述第二陰極層和所述第二顏色發(fā)光層進行圖形化，以去除隔離結構上和所述第一類隔離開口內的所述第二陰極層和所述第二顏色發(fā)光層，保留所述第二類隔離開口內的所述第二陰極層和所述第二顏色發(fā)光層。

57、在其中一種實施方式中，所述像素開口還包括第三類像素開口；

58、所述對所述第二陰極層和所述第二顏色發(fā)光層進行圖形化之后，還包括：

59、在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第三顏色發(fā)光層和第三陰極層；

60、對所述第三陰極層和所述第三顏色發(fā)光層進行圖形化，以去除隔離結構上、所述第一類隔離開口內和所述第二類隔離開口內的所述第三陰極層和所述第三顏色發(fā)光層，保留所述第三類隔離開口內的所述第三陰極層和所述第三顏色發(fā)光層；

61、所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第一顏色發(fā)光層和第一陰極層之前，還包括：

62、在所述像素定義層遠離所述基板的一側且與所述第三類隔離開口內形成第二保護層；所述第二保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影內至少部分交疊；

63、所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第一顏色發(fā)光層時，所述第一顏色發(fā)光層覆蓋所述第二保護層；

64、所述對所述第一陰極層和所述第一顏色發(fā)光層進行圖形化時，去除所述第二保護層；

65、優(yōu)選地，所述對所述第一陰極層和所述第一顏色發(fā)光層進行圖形化之后，所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第二顏色發(fā)光層之前，還包括：

66、在所述像素定義層遠離所述基板的一側且與所述第三類隔離開口內形成第三保護層；所述第三保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊；

67、所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第二顏色發(fā)光層時，所述第二顏色發(fā)光層覆蓋所述第三保護層；

68、所述對所述第二陰極層和所述第二顏色發(fā)光層進行圖形化時，去除所述第三保護層；

69、優(yōu)選地，所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第一顏色發(fā)光層之前，還包括：

70、在所述像素定義層遠離所述基板的一側且與所述第三類隔離開口內形成第二保護層；所述第二保護層在所述基板上的正投影與所述隔離結構在所述基板上的正投影至少部分交疊；

71、所述在所述隔離結構上和所述隔離開口內形成第一顏色發(fā)光層時，所述第一顏色發(fā)光層覆蓋所述第二保護層；

72、所述對所述第一顏色發(fā)光層進行圖形化時，所述第二保護層被減?。?/p>

73、所述對所述第二顏色發(fā)光層進行圖形化時，減薄后的所述第二保護層被去除。

74、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示裝置，其包括如上述的顯示面板。

75、與現(xiàn)有技術相比，本技術提供的一種顯示面板包括第一保護層，第一保護層設置于像素定義層遠離基板的一側，且第一保護層在基板上的正投影位于第二顏色發(fā)光層和隔離結構在基板上的正投影內，避免了像素定義層上對應第一保護層的區(qū)域被刻蝕形成凹坑，或減小凹坑的深度，從而避免影響陰極成膜連續(xù)性，進而避免陰極斷路并形成暗點，提升顯示面板的顯示效果。