本公開(kāi)涉及顯示，具體而言，涉及一種顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

1、通過(guò)監(jiān)控待形成圖形區(qū)域的中心相對(duì)于對(duì)位標(biāo)記中心的偏移量，就能預(yù)估精細(xì)金屬掩膜板整體的偏移量。

2、在精細(xì)金屬掩膜板波動(dòng)時(shí)，容易剮蹭到背板上的待形成圖案區(qū)域，在待形成圖案區(qū)域形成顆粒異物，降低測(cè)試裝置的識(shí)別準(zhǔn)確度，影響蒸鍍良率。

3、需要說(shuō)明的是，在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開(kāi)的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種顯示面板及顯示裝置。

2、根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，提供一種顯示面板，具有顯示區(qū)和位于顯示區(qū)外圍的非顯示區(qū)，顯示面板包括襯底基板和功能層組；功能層組設(shè)于襯底基板的一側(cè)，功能層組遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)包括至少一個(gè)待形成圖案區(qū)域和其他區(qū)域，至少一個(gè)待形成圖案區(qū)域位于非顯示區(qū)，其他區(qū)域位于待形成圖案區(qū)域的外圍，其他區(qū)域的至少部分區(qū)域與襯底基板之間的距離大于待形成圖案區(qū)域與襯底基板之間的距離。

3、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組包括平坦化層組、第一電極、和像素界定層，平坦化層組包括第一平坦化層和第二平坦化層，第一平坦化層設(shè)于襯底基板的一側(cè)，第二平坦化層位于第一平坦化層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)；第一電極設(shè)于平坦化層組遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)；像素界定層設(shè)于第一電極遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)，像素界定層設(shè)有像素開(kāi)口，像素開(kāi)口露出第一電極。

4、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，其他區(qū)域包括對(duì)位圖案區(qū)域，對(duì)位圖案區(qū)域位于非顯示區(qū)，且相鄰于待形成圖案區(qū)域設(shè)置，功能層組包括對(duì)位圖案，對(duì)位圖案在襯底基板上的正投影至少部分位于對(duì)位圖案區(qū)域在襯底基板上的正投影內(nèi)。

5、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，其他區(qū)域還包括支撐區(qū)域，支撐區(qū)域設(shè)于對(duì)位圖案區(qū)域的外圍，支撐區(qū)域與襯底基板之間的距離，大于待形成圖案區(qū)域和對(duì)位圖案區(qū)域與襯底基板之間的距離。

6、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)位圖案與第一電極同層同材料設(shè)置。

7、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組還包括隔墊層，隔墊層位于像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)，隔墊層包括支撐部，待形成圖案區(qū)域位于像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)，支撐區(qū)域位于支撐部遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)。

8、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組在非顯示區(qū)設(shè)有第一開(kāi)口，第一開(kāi)口至少穿過(guò)部分像素界定層，待形成圖案區(qū)域位于第一開(kāi)口內(nèi)，對(duì)位圖案區(qū)域設(shè)于像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板的表面。

9、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，第一開(kāi)口包括貫穿像素界定層的第一開(kāi)口段，或貫穿像素界定層的第一開(kāi)口段和貫穿第二平坦化層的第二開(kāi)口段，第一開(kāi)口段在襯底基板上的正投影與第二開(kāi)口段在襯底基板上的正投影重合。

10、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組在非顯示區(qū)設(shè)有第二開(kāi)口，第二開(kāi)口至少穿過(guò)部分像素界定層，待形成圖案區(qū)域和對(duì)位圖案區(qū)域均位于第二開(kāi)口內(nèi)，支撐區(qū)域位于像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)。

11、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組還包括源漏金屬層，源漏金屬層位于第一平坦化層與襯底基板之間，和/或第一平坦化層與第二平坦化層之間，對(duì)位圖案與源漏金屬層同層同材料設(shè)置。

12、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，功能層組在非顯示區(qū)設(shè)有第三開(kāi)口，第三開(kāi)口至少穿過(guò)部分第二平坦化層，待形成圖案區(qū)域和對(duì)位圖案區(qū)域均位于第三開(kāi)口內(nèi)，第三開(kāi)口包括第一子開(kāi)口區(qū)和第二子開(kāi)口區(qū)，對(duì)位圖案設(shè)于第一子開(kāi)口區(qū)，像素界定層覆蓋第二子開(kāi)口區(qū)，并覆蓋對(duì)位圖案和第二平坦化層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)，對(duì)位圖案區(qū)域與第一子開(kāi)口區(qū)在像素界定層上的正投影重疊，待形成圖案區(qū)域與第二子開(kāi)口區(qū)在像素界定層上的正投影重疊。

13、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，非顯示區(qū)包括識(shí)別區(qū)，對(duì)位圖案和待形成圖案區(qū)域組成待識(shí)別圖案組，待識(shí)別圖案組位于識(shí)別區(qū)域內(nèi)，支撐部圍繞待識(shí)別圖案組設(shè)置，支撐部位于識(shí)別區(qū)外或識(shí)別區(qū)內(nèi)。

14、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)支撐部位于識(shí)別區(qū)外時(shí)，支撐部與識(shí)別區(qū)的邊緣之間的距離小于1mm。

15、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部沿第一方向的尺寸與支撐部沿第二方向的尺寸不相等，第一方向和第二方向均位于襯底基板的表面，第二方向垂直于第一方向。

16、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部沿第一方向的尺寸為50μm～100μm。

17、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐區(qū)域與待形成圖案區(qū)域之間的落差為1μm～2μm。

18、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽，第一凹槽的延伸方向與支撐部的延伸方向相同。

19、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部為連續(xù)且封閉的結(jié)構(gòu)，支撐部在襯底基板上的正投影的輪廓形狀為橢圓形、圓形或多邊形。

20、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部包括至少一組支撐段，一組支撐段包括兩條支撐段，兩條支撐段平行于識(shí)別區(qū)相對(duì)的兩邊設(shè)置。

21、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐部包括多個(gè)支撐塊，多個(gè)支撐塊沿識(shí)別區(qū)的輪廓分布。

22、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，支撐塊在襯底基板上的正投影的形狀為矩形、圓形或多邊形。

23、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，待形成圖案區(qū)域包括多種待形成圖形區(qū)域，多種待形成圖形區(qū)域沿第一方向依次排布，對(duì)位圖案包括至少一個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記、多個(gè)第二對(duì)位標(biāo)記和第三對(duì)位標(biāo)記，至少一個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記沿第一方向設(shè)置，且與多種待形成圖形區(qū)域位于同一條直線上；多個(gè)第二對(duì)位標(biāo)記沿第二方向設(shè)置，第二方向與第一方向相交，多個(gè)第二對(duì)位標(biāo)記分別與多種待形成圖形區(qū)域沿第二方向位于同一條直線上；第三對(duì)位標(biāo)記設(shè)于第一對(duì)位標(biāo)記所在直線與第二對(duì)位標(biāo)記所在直線的交點(diǎn)。

24、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，顯示面板包括多個(gè)待識(shí)別圖案組，多個(gè)待識(shí)別圖案組均位于顯示區(qū)。

25、在本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例中，各待形成圖形區(qū)域遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)設(shè)有發(fā)光功能層，其他區(qū)域的至少部分區(qū)域與襯底基板之間的距離大于發(fā)光功能層與襯底基板之間的距離。

26、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供一種顯示裝置，包括本公開(kāi)的一個(gè)方面所提供的顯示面板。

27、應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本公開(kāi)。

技術(shù)特征：

1.一種顯示面板，具有顯示區(qū)和位于所述顯示區(qū)外圍的非顯示區(qū)，其特征在于，所述顯示面板包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述其他區(qū)域包括對(duì)位圖案區(qū)域，所述對(duì)位圖案區(qū)域位于所述非顯示區(qū)，且相鄰于所述待形成圖案區(qū)域設(shè)置，所述功能層組包括對(duì)位圖案，所述對(duì)位圖案在所述襯底基板上的正投影至少部分位于所述對(duì)位圖案區(qū)域在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述其他區(qū)域還包括支撐區(qū)域，所述支撐區(qū)域設(shè)于所述對(duì)位圖案區(qū)域的外圍，所述支撐區(qū)域與所述襯底基板之間的距離，大于所述待形成圖案區(qū)域和所述對(duì)位圖案區(qū)域與所述襯底基板之間的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述對(duì)位圖案與所述第一電極同層同材料設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組還包括隔墊層，所述隔墊層位于所述像素界定層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)，所述隔墊層包括支撐部，所述待形成圖案區(qū)域位于所述像素界定層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)，所述支撐區(qū)域位于所述支撐部遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組在所述非顯示區(qū)設(shè)有第一開(kāi)口，所述第一開(kāi)口至少穿過(guò)部分所述像素界定層，所述待形成圖案區(qū)域位于所述第一開(kāi)口內(nèi)，所述對(duì)位圖案區(qū)域設(shè)于所述像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板的表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板，其特征在于，所述第一開(kāi)口包括貫穿所述像素界定層的第一開(kāi)口段，或貫穿所述像素界定層的第一開(kāi)口段和貫穿所述第二平坦化層的第二開(kāi)口段，所述第一開(kāi)口段在所述襯底基板上的正投影與所述第二開(kāi)口段在所述襯底基板上的正投影重合。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組在所述非顯示區(qū)設(shè)有第二開(kāi)口，所述第二開(kāi)口至少穿過(guò)部分所述像素界定層，所述待形成圖案區(qū)域和對(duì)位圖案區(qū)域均位于所述第二開(kāi)口內(nèi)，所述支撐區(qū)域位于所述像素界定層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組還包括源漏金屬層，所述源漏金屬層位于所述第一平坦化層與所述襯底基板之間，和/或所述第一平坦化層與所述第二平坦化層之間，所述對(duì)位圖案與所述源漏金屬層同層同材料設(shè)置。

11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述功能層組在所述非顯示區(qū)設(shè)有第三開(kāi)口，所述第三開(kāi)口至少穿過(guò)部分所述第二平坦化層，所述待形成圖案區(qū)域和對(duì)位圖案區(qū)域均位于所述第三開(kāi)口內(nèi)，所述第三開(kāi)口包括第一子開(kāi)口區(qū)和第二子開(kāi)口區(qū)，所述對(duì)位圖案設(shè)于所述第一子開(kāi)口區(qū)，所述像素界定層覆蓋所述第二子開(kāi)口區(qū)，并覆蓋所述對(duì)位圖案和所述第二平坦化層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)，所述對(duì)位圖案區(qū)域與所述第一子開(kāi)口區(qū)在所述像素界定層上的正投影重疊，所述待形成圖案區(qū)域與所述第二子開(kāi)口區(qū)在所述像素界定層上的正投影重疊。

12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述非顯示區(qū)包括識(shí)別區(qū)，所述對(duì)位圖案和所述待形成圖案區(qū)域組成待識(shí)別圖案組，所述待識(shí)別圖案組位于所述識(shí)別區(qū)域內(nèi)，所述支撐部圍繞所述待識(shí)別圖案組設(shè)置，所述支撐部位于所述識(shí)別區(qū)外或所述識(shí)別區(qū)內(nèi)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，當(dāng)所述支撐部位于所述識(shí)別區(qū)外時(shí)，所述支撐部與所述識(shí)別區(qū)的邊緣之間的距離小于1mm。

14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部沿第一方向的尺寸與所述支撐部沿第二方向的尺寸不相等，所述第一方向和所述第二方向均位于所述襯底基板的表面，所述第二方向垂直于所述第一方向。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部沿第一方向的尺寸為50μm～100μm。

16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐區(qū)域與所述待形成圖案區(qū)域之間的落差為1μm～2μm。

17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽，所述第一凹槽的延伸方向與所述支撐部的延伸方向相同。

18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部為連續(xù)且封閉的結(jié)構(gòu)，所述支撐部在所述襯底基板上的正投影的輪廓形狀為橢圓形、圓形或多邊形。

19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部包括至少一組支撐段，一組支撐段包括兩條支撐段，兩條所述支撐段平行于所述識(shí)別區(qū)相對(duì)的兩邊設(shè)置。

20.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐部包括多個(gè)支撐塊，多個(gè)所述支撐塊沿所述識(shí)別區(qū)的輪廓分布。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的顯示面板，其特征在于，所述支撐塊在所述襯底基板上的正投影的形狀為矩形、圓形或多邊形。

22.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述待形成圖案區(qū)域包括多種待形成圖形區(qū)域，多種待形成圖形區(qū)域沿第一方向依次排布，所述對(duì)位圖案包括：

23.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括多個(gè)待識(shí)別圖案組，多個(gè)所述待識(shí)別圖案組均位于所述顯示區(qū)。

24.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，各所述待形成圖形區(qū)域遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)設(shè)有發(fā)光功能層，所述其他區(qū)域的至少部分區(qū)域與所述襯底基板之間的距離大于所述發(fā)光功能層與所述襯底基板之間的距離。

25.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1至24任一項(xiàng)所述的顯示面板。

技術(shù)總結(jié)
本公開(kāi)是關(guān)于一種顯示面板，該顯示面板包括功能層組，功能層組遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)包括至少一個(gè)待形成圖案區(qū)域和其他區(qū)域，其他區(qū)域位于待形成圖案區(qū)域的外圍，其他區(qū)域的至少部分區(qū)域高于待形成圖案區(qū)域，其他區(qū)域的至少部分區(qū)域與襯底基板之間的距離大于待形成圖案區(qū)域與襯底基板之間的距離，可以在其他區(qū)域與待形成圖案區(qū)域形成段差，精細(xì)掩膜板波動(dòng)時(shí)不會(huì)剮蹭到待形成圖案區(qū)域，避免在待形成圖案區(qū)域形成顆粒異物，提升測(cè)試裝置的識(shí)別準(zhǔn)確度，進(jìn)而提高蒸鍍良率。本公開(kāi)還提供一種包括上述顯示面板的顯示裝置。

技術(shù)研發(fā)人員：徐倩,黃琰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23