1.一種玻璃基板靜電去除裝置，用于去除玻璃基板和工作臺(tái)之間的靜電，其特征在于，所述玻璃基板靜電去除裝置包括：
離子氣體發(fā)生源，用于產(chǎn)生離子氣體，其包括一導(dǎo)管；
離子氣體傳輸源，用于和所述離子氣體發(fā)生源的導(dǎo)管連接，以便所述離子氣體去除所述玻璃基板和所述工作臺(tái)之間的靜電。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，
所述離子氣體發(fā)生源為防靜電離子風(fēng)機(jī)；
所述離子氣體傳輸源為超聲波清洗機(jī)的支撐腳；所述超聲波清洗機(jī)的支撐腳內(nèi)部設(shè)置一條離子氣體傳輸通道，所述離子氣體傳輸通道的一端和所述防靜電離子風(fēng)機(jī)的導(dǎo)管連接，另一端設(shè)置第一開(kāi)口和第二開(kāi)口，所述第一開(kāi)口和所述第二開(kāi)口均連通所述離子氣體傳輸通道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，以所述離子氣體傳輸通道為對(duì)稱(chēng)軸，所述第一開(kāi)口和所述第二開(kāi)口相互對(duì)稱(chēng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，
所述離子氣體發(fā)生源為防靜電離子風(fēng)機(jī)；
所述離子氣體傳輸源為超聲波清洗機(jī)的支撐腳；所述超聲波清洗機(jī)的支撐腳內(nèi)部設(shè)置第一離子氣體傳輸通道和第二離子氣體傳輸通道；
所述第一離子氣體傳輸通道的一端和所述防靜電離子風(fēng)機(jī)的導(dǎo)管連接，另一端設(shè)置第一開(kāi)口，所述第一開(kāi)口連通所述第一離子氣體傳輸通道；
所述第二離子氣體傳輸通道的一端和所述防靜電離子風(fēng)機(jī)的導(dǎo)管連接，另一端設(shè)置第二開(kāi)口，所述第二開(kāi)口連通所述第二離子氣體傳輸通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，所述第一開(kāi)口和所述第二開(kāi)口相互對(duì)稱(chēng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，
所述離子氣體發(fā)生源為防靜電離子風(fēng)機(jī)；
所述離子氣體傳輸源為超聲波清洗機(jī)的支撐腳；所述超聲波清洗機(jī)的支撐腳內(nèi)部設(shè)置一條離子氣體傳輸通道，所述離子氣體傳輸通道的一端和所述防靜電離子風(fēng)機(jī)的導(dǎo)管連接，另一端設(shè)置開(kāi)口，以便所述離子氣體去除所述玻璃基板和所述工作臺(tái)之間的靜電。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，
所述玻璃基板靜電去除裝置還包括第一離子傳感器、第二離子傳感器以及微處理器；
所述第一離子傳感器設(shè)置于所述第一開(kāi)口；
所述第二離子傳感器設(shè)置于所述第二開(kāi)口；
所述微處理器分別與所述第一離子傳感器和所述第二離子傳感器連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的玻璃基板靜電去除裝置，其特征在于，
所述裝置還包括第一離子傳感器、第二離子傳感器以及微處理器；
所述第一離子傳感器設(shè)置于所述第一開(kāi)口；
所述第二離子傳感器設(shè)置于所述第二開(kāi)口；
所述微處理器分別與所述第一離子傳感器和所述第二離子傳感器連接。
9.一種顯示面板檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至8任一所述的玻璃基板靜電去除裝置。