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FPC孔金屬化工藝的制作方法

文檔序號(hào):12480110閱讀:1278來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及電路板技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種FPC孔金屬化工藝。



背景技術(shù):

現(xiàn)有的FPC,其結(jié)構(gòu)包括基材介質(zhì)層及設(shè)置在基材介質(zhì)層兩面的導(dǎo)體銅層,傳統(tǒng)FPC孔金屬化工藝,主要是使介質(zhì)層孔處均勻涂布一層導(dǎo)電物質(zhì),再通過鍍銅工藝的電化學(xué)反應(yīng),使介質(zhì)層沉積一層金屬銅,將上下兩層導(dǎo)體銅層連接導(dǎo)通,形成良好的電氣導(dǎo)體。

目前業(yè)內(nèi)的高分子導(dǎo)電膜孔金屬工藝(DMSE工藝),其流程如下:調(diào)整——水洗——氧化——水洗——催化——水洗烘干,其目的在介質(zhì)層孔處吸附涂布一層高分子導(dǎo)電物質(zhì),為納米級(jí)涂層,但是,其涂層極薄,電阻相對(duì)較大,尤其一些撓性電路板基材的介質(zhì)層處經(jīng)鉆孔后微觀下極為光滑,吸附導(dǎo)電物質(zhì)困難,造成兩層導(dǎo)體銅層之間電阻過大,甚至開路不導(dǎo)通。因電阻過大或開路情況下,介質(zhì)層處無電流導(dǎo)通或電流過小,在鍍銅工藝時(shí)無法產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)反應(yīng)不良,而引起孔銅導(dǎo)通不良問題,為此無法廣泛應(yīng)用所有FPC基材。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是,提供一種FPC孔金屬化工藝,可以廣泛應(yīng)用于各類FPC基材。

為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:提供一種FPC金屬化工藝,其包括如下步驟,

S1、PI調(diào)整,使溫度在45-55℃之間,處理時(shí)間為2-6min,PI調(diào)整劑濃度為400-600ml/L,KOH濃度為40-60g/L;

S2、水洗;

S3、DMSE工藝。

本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的FPC孔金屬化工藝的PI調(diào)整步驟可以使FPC常用的各類基材中的介質(zhì)層的孔壁表面得以粗化,有效吸附高分子導(dǎo)電物質(zhì),降低導(dǎo)體銅層之間電阻,為后續(xù)DMSE工藝提供有效保障。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例的FPC孔金屬化工藝的流程框圖。

具體實(shí)施方式

為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果,以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說明。

本發(fā)明最關(guān)鍵的構(gòu)思在于:本發(fā)明的工藝,可以使FPC常用的各類基材中的介質(zhì)層的孔壁表面得以粗化,有效吸附高分子導(dǎo)電物質(zhì)。

請(qǐng)參閱圖1,本發(fā)明FPC孔金屬化工藝,其包括如下步驟,

S1、PI調(diào)整,使溫度在50-60℃之間,處理時(shí)間為2-6min,PI調(diào)整劑濃度為400-600ml/L,KOH濃度為40-60g/L;

S2、水洗;

S3、DMSE工藝。

從上述描述可知,本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的FPC孔金屬化工藝的PI調(diào)整步驟可以使FPC常用的各類基材中的介質(zhì)層的孔壁表面得以粗化,有效吸附高分子導(dǎo)電物質(zhì),降低導(dǎo)體銅層之間電阻,為后續(xù)DMSE工藝提供有效保障。

進(jìn)一步的,所述PI調(diào)整劑是KOH12.5%-15%、聯(lián)氨7.0%-10%的混合溶液。

進(jìn)一步的,所述步驟S2為二級(jí)溢流水洗。

實(shí)施例一

請(qǐng)參照?qǐng)D1,本發(fā)明的實(shí)施例一為:本實(shí)施例的FPC孔金屬化工藝,包括如下步驟,

S1、PI調(diào)整,使溫度在50-60℃之間,處理時(shí)間為2-6min,PI調(diào)整劑濃度為400-600ml/L,KOH濃度為40-60g/L;

S2、水洗;

S3、DMSE工藝。

所述PI調(diào)整劑是KOH12.5%-15%、聯(lián)氨7.0%-10%的混合溶液。

進(jìn)一步的,所述步驟S2為二級(jí)溢流水洗。

綜上所述,本發(fā)明提供的FPC孔金屬化工藝的PI調(diào)整步驟可以使FPC常用的各類基材中的介質(zhì)層的孔壁表面得以粗化,有效吸附高分子導(dǎo)電物質(zhì),降低導(dǎo)體銅層之間電阻,為后續(xù)DMSE工藝提供有效保障,能夠適用于各種FPC基材。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等同變換,或直接或間接運(yùn)用在相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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