專利名稱：一種超小型音叉電極片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種超小型音叉電極片技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及石英晶體諧振器技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種超小型音叉電極片。
技術(shù)背景[0002]目前音叉型晶體諧振器采用的光刻腐蝕法生產(chǎn)的音叉片，由于體積很小，諧振阻抗很難制作的更小，音叉兩臂傾角及底部?jī)蓚?cè)開槽可以進(jìn)一步改善諧振電阻及增加穩(wěn)定性。實(shí)用新型內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種超小型音叉電極片。[0004]本實(shí)用新型解決技術(shù)問(wèn)題采用的技術(shù)方案為、一種超小型音叉電極片，包括音叉臂傾角和音叉電極，在音叉底部采用光刻腐蝕加工出開槽。[0005]所述開槽呈左右對(duì)稱。[0006]本實(shí)用新型所具有的有益效果是[0007]本實(shí)用新型減少了音叉片振動(dòng)時(shí)的阻尼，減小了音叉片的諧振阻抗，并在音叉兩臂加工傾角控制叉深，增加振動(dòng)時(shí)的穩(wěn)定性，保證晶體諧振器穩(wěn)定工作。


[0008]附圖為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0009]
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做以下詳細(xì)說(shuō)明。[0010]如圖所示，本實(shí)用新型包括音叉臂傾角1和音叉電極3，在音叉底部采用光刻腐蝕加工出開槽2 ；所述開槽2呈左右對(duì)稱。本實(shí)用新型具有良好的諧振電阻及振動(dòng)穩(wěn)定性。
權(quán)利要求1.一種超小型音叉電極片，其特征在于包括音叉臂傾角和音叉電極，在音叉底部采用光刻腐蝕加工出開槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超小型音叉電極片，其特征在于所述開槽呈左右對(duì)稱。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種超小型音叉電極片，包括音叉臂傾角和音叉電極，在音叉底部采用光刻腐蝕加工出開槽；所述開槽呈左右對(duì)稱；本實(shí)用新型減少了音叉片振動(dòng)時(shí)的阻尼，減小了音叉片的諧振阻抗，并在音叉兩臂加工傾角控制叉深，增加振動(dòng)時(shí)的穩(wěn)定性，保證晶體諧振器穩(wěn)定工作。
文檔編號(hào)H03H9/215GK202309632SQ20112027172
公開日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2011年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月22日
發(fā)明者劉春晨, 宋兵, 朱瑋, 郭志成 申請(qǐng)人:日照思科騁創(chuàng)電子科技有限公司