專利名稱：可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是與表面聲波致動(dòng)裝置有關(guān)，特別是指一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置。
背景技術(shù)：
表面聲波Surface Acoustic Wave，SAW是物理現(xiàn)象上一種形式的波，這種波會(huì)沿著半無(wú)限彈性體的表面?zhèn)鬟f。若在壓電晶體表面制作指差電極，完成一指差電極轉(zhuǎn)能器Interdigital Transducer，IDT，從指差電極輸入電壓，壓電晶體便會(huì)因逆壓電效應(yīng)而在壓電晶體表面產(chǎn)生表面聲波，此技術(shù)被廣泛應(yīng)用在電子通訊領(lǐng)域，作為濾波或信號(hào)處理的功能。
因?yàn)楸砻媛暡ǖ恼穹∏夜舱耦l率高，因此近來(lái)被發(fā)現(xiàn)可作為納米定位平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)方式。然而由于表面聲波致動(dòng)技術(shù)是利用壓電晶體表面產(chǎn)生的表面聲波，來(lái)驅(qū)動(dòng)平臺(tái)上的一滑塊來(lái)達(dá)到定位的效果，而表面聲波的致動(dòng)效果與滑塊及壓電晶體表面間的接觸壓力有關(guān)，即滑塊的荷重變化會(huì)影響與壓電晶體間的接觸壓力，而其接觸壓力又會(huì)影響表面聲波的致動(dòng)效果。一般實(shí)驗(yàn)室的設(shè)計(jì)是以重力、磁力或彈簧力來(lái)產(chǎn)生滑塊和壓電晶體間的接觸壓力，然而此種接觸壓力的產(chǎn)生方法無(wú)法應(yīng)付定位平臺(tái)的荷重變化，即一旦滑塊在承受過(guò)輕或過(guò)重的荷重時(shí)，便會(huì)立刻影響平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)性能，如圖1所示，圖1是當(dāng)每次驅(qū)動(dòng)表面聲波制動(dòng)器3秒時(shí)，不同直徑大小的滑塊位移與表面聲波制動(dòng)器間接觸壓力關(guān)系圖，雖然滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力，在某一程度之內(nèi)時(shí)越大則滑塊的速度會(huì)越快，但當(dāng)滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力超過(guò)此一程度時(shí)即過(guò)大時(shí)，滑塊的速度卻會(huì)變慢，所以適當(dāng)?shù)恼{(diào)整滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力可以提升定位平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)性能。
承上所述，也因此因應(yīng)不同的荷重而調(diào)整滑塊與表面聲波制動(dòng)器壓電晶體間的正向力接觸壓力維持于一恒定值內(nèi)，以維持平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)性能，便顯得相當(dāng)?shù)闹匾?。而目前一般的調(diào)整方式可概分為三類，其一是利用由改變放置在滑塊上的砝碼重量來(lái)調(diào)整，其二是利用一永久磁鐵與一鐵板間的吸力變化來(lái)調(diào)整，其三則是利用由改變一彈簧的變形量來(lái)加以調(diào)整。但是，這些調(diào)整方式，不僅在實(shí)際應(yīng)用上會(huì)有實(shí)施的困難，且一旦滑塊上所負(fù)載的重物是為未知的重量時(shí)，其滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力便無(wú)法得知，當(dāng)然便無(wú)從加以控制而調(diào)整。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，是可保持滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力于一恒定值內(nèi)，以確保表面聲波制動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)效果。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波制動(dòng)器，是可維持滑塊以固定的方向行進(jìn)。
為達(dá)成上述的目的，本發(fā)明提供一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其主要包含有一定位平臺(tái)，其兩相對(duì)側(cè)分別具有一滑動(dòng)軸承；一表面聲波制動(dòng)器，是設(shè)置于該定位平臺(tái)上，位在該二滑動(dòng)軸承之間，而可于其頂端面產(chǎn)生一預(yù)定的表面聲波；一滑塊，是置于該定位平臺(tái)上，具有一與該表面聲波制動(dòng)器的頂端面接觸的受力部及二分別置位于該各滑動(dòng)軸承中的定位部，使可由該表面聲波制動(dòng)器的表面聲波帶動(dòng)該滑塊位移；一支撐結(jié)構(gòu)，是可因應(yīng)該滑塊的負(fù)重程度，而對(duì)該滑塊的定位部施予一預(yù)力，使該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力保持于一恒定值內(nèi)。
為能對(duì)本發(fā)明的特征及目的有更深刻的了解與認(rèn)同，茲列舉以下較佳的實(shí)施例，并配合圖式說(shuō)明于后。


圖1是滑塊與表面聲波制動(dòng)器間接觸壓力與滑塊位移關(guān)系圖；圖2是本發(fā)明第一較佳實(shí)施例的主要構(gòu)件示意圖；圖3是圖1所示較佳實(shí)施例的剖視圖；圖4是圖1所示較佳實(shí)施例的受力示意圖；圖5是赫茲接觸理論模型及其接觸壓力計(jì)算式的示意圖；
圖6是本發(fā)明另一實(shí)施態(tài)樣的受力示意圖。
具體實(shí)施例方式
請(qǐng)參閱圖2至圖4，是本發(fā)明第一較佳實(shí)施例所提供的一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置100，其主要包含有一定位平臺(tái)10、一表面聲波制動(dòng)器20、一滑塊30及一支撐結(jié)構(gòu)40。
該定位平臺(tái)10內(nèi)部形成有一開口朝上而可供該滑塊30容置的區(qū)域，并于該區(qū)域的兩相對(duì)側(cè)壁上分別往外延伸有一滑動(dòng)軸承11，該滑動(dòng)軸承11為連通該區(qū)域的凹槽。
該表面聲波制動(dòng)器20，是由壓電材料晶體所制成，是設(shè)置于該定位平臺(tái)10內(nèi)合區(qū)域的底部，該表面聲波制動(dòng)器20的頂端表面形成有若干的指差電極(圖中未示)，而可由該指差電極輸入電壓，可利用由壓電材料產(chǎn)生逆壓電效應(yīng)，使該表面聲波制動(dòng)器20的頂端表面產(chǎn)生一振幅小而共振頻率高的表面聲波。
該滑塊30，可界定出一身部31、二定位部32及一受力部33。該身部31呈一塊狀；該二定位部32是分別自該身部31的二相對(duì)側(cè)外所延伸而成；該受力部33為若干的圓球體，是平整排列于該身部31的底部；該身部31是置于該定位平臺(tái)10之內(nèi)部區(qū)域中，并使該各定位部32分別位在該各滑動(dòng)軸承11內(nèi)，且該各定位部32與該各滑動(dòng)軸承11的側(cè)壁(上、下、外側(cè)壁)間皆形成有許些預(yù)定距離之間隙，該受力部33是與該表面聲波制動(dòng)器20的頂端表面接觸，該身部31的頂端并設(shè)有一壓力荷重感應(yīng)器(圖中未示)，可將該滑塊30上的載重變化轉(zhuǎn)換成數(shù)值傳輸至一處理器(圖中未示)中，由于此一壓力荷重感應(yīng)器及處理器皆為現(xiàn)有的構(gòu)件，在此便不多作贅述。
該支撐結(jié)構(gòu)40，是由該處理器控制作動(dòng)與否，該支撐結(jié)構(gòu)40為三組各別擁有獨(dú)立氣源的氣體供應(yīng)器，其第一組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承11的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承11連通，第二組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承11的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承11連通，第三組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承11的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承11連通，使可由各組的氣體供應(yīng)器分別對(duì)該各滑動(dòng)軸承11中供應(yīng)不同方向的氣體壓力。
上述即為本發(fā)明所提供第一較佳實(shí)施例可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置100的各部構(gòu)件及其組成方式，接著再將其使用方式介紹如下當(dāng)欲將一物品利用由該滑塊30而平移至一預(yù)定的位置時(shí)，首先將該物品放置于該滑塊30上，此時(shí)由于該物品的重力加諸于該滑塊30上，而使該滑塊30產(chǎn)生一額外向下的正向壓力W，致使該滑塊30的受力部33與該表面聲波制動(dòng)器20間的接觸壓力改變加大，如此設(shè)置于該滑塊30上的壓力荷重感應(yīng)器便會(huì)將由物品所額外增加的壓力數(shù)值傳輸回處理器中，并由該處理器控制該支撐結(jié)構(gòu)40的第一，二及三組氣壓供應(yīng)器開始產(chǎn)生作動(dòng)而供氣，即由位在該滑動(dòng)軸承11下、上、外側(cè)壁中的出氣口開始持續(xù)導(dǎo)入氣體，使該各定位部32的上方開始承受由第二組氣體供應(yīng)器所施予氣體的向下壓力F1、F2，而各定位部32的下方則會(huì)承受由第一組氣體供應(yīng)器所施予的氣體向上支撐力S1、S2，且該第一組的氣體供應(yīng)器會(huì)供應(yīng)較第二組的氣體供應(yīng)器為多的氣體，使該滑塊30的各定位部32下方會(huì)因承受較多氣體的向上浮力S1、S2，而將整個(gè)滑塊30略為往上支撐浮起，如圖4所示，使該滑塊30與表面聲波制動(dòng)器20間的接觸壓力便可利用由氣體所產(chǎn)生的向上浮力而維持在一預(yù)定的恒定值P內(nèi)(此一恒定值是事先經(jīng)由實(shí)驗(yàn)而得知并預(yù)設(shè)在該處理器中，是可使該滑塊30與該表面聲波制動(dòng)器20在此一恒定值P的接觸壓力下，維持于一定而較佳的驅(qū)動(dòng)性能)，恒定值P的計(jì)算式為P＝W+(FI+F2)-(S1+S2)，如此便可利用由將滑塊30與該表面聲波制動(dòng)器20間的接觸壓力維持于恒定值P內(nèi)，而使該表面聲波制動(dòng)器20可以一定而較佳的速率將該滑塊30及負(fù)載于上的物品，利用由表面聲波的帶動(dòng)而滑移至預(yù)定的位置處。
另，當(dāng)滑塊30上所負(fù)載的物品重量較輕，所產(chǎn)生的正向下壓力W較小，而使該滑塊30與該表面聲波制動(dòng)器20間的接觸壓力未達(dá)到恒定值P之內(nèi)時(shí)，該滑塊30上的壓力荷重感應(yīng)器，便會(huì)將滑塊30上的荷重?cái)?shù)值傳輸至該處理器中，使由該處理器會(huì)控制該支撐結(jié)構(gòu)40的第二組氣體供應(yīng)器供給預(yù)定且較多于第一組氣體供應(yīng)器所提供的氣體壓力F1、F2，如圖4所示，即由該滑動(dòng)軸承11上側(cè)壁中的出氣口持續(xù)輸入較多于由下側(cè)壁中所提供的氣體，使該各定位部32的上方持續(xù)受較多定壓氣體的推壓，而使該滑塊30增加向下的正向壓力，以將該滑塊30與該表面聲波制動(dòng)器20間的接觸壓力增加至恒定值P之內(nèi)，以符合恒定值P＝W+(FI+F2)-(S1+S2)的計(jì)算式，而維持表面聲波制動(dòng)器20驅(qū)動(dòng)該滑塊30的一定效能。
再者，于滑塊30平移的行程中，該支撐結(jié)構(gòu)40的第三組氣體供應(yīng)器，亦會(huì)適度提供側(cè)向的氣體壓力T1、T2，如圖4所示，使該滑塊30能維持于固定的方向行進(jìn)。
于此，本發(fā)明中的支撐結(jié)構(gòu)可視該滑塊的負(fù)重大小而隨時(shí)調(diào)整并適時(shí)提供滑塊向上的支撐力或向下的下壓力，以保持滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力維持在一恒定值之內(nèi)，而達(dá)到滑塊最佳的行進(jìn)速率，并可避免因滑塊的負(fù)重壓力過(guò)大而損壞表面聲波制動(dòng)器的情形，或避免因滑塊的負(fù)重壓力過(guò)小(不足)而導(dǎo)致表面聲波無(wú)法帶動(dòng)該滑塊平移的情形發(fā)生。該支撐結(jié)構(gòu)并能適時(shí)提供相對(duì)的側(cè)向壓力，以使該滑塊能維持于一固定的方向行進(jìn)。
在此特別說(shuō)明，本發(fā)明中該滑塊的受力部為若干呈圓球狀的球體，乃由于表面聲波的波動(dòng)振幅僅數(shù)個(gè)納米大，所以表面聲波制動(dòng)器與滑塊間的接觸條件就非常重要，如表面聲波制動(dòng)器的表面粗糙度、潔凈度及接觸壓力…等皆為影響表面聲波制動(dòng)器性能的重要接觸條件，而其中最重要的是滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力必需夠大，由于表面聲波制動(dòng)器是以數(shù)MHz的頻率在振動(dòng)，所以如果滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力太小，會(huì)使得滑塊與表面聲波制動(dòng)器間有擠壓氣膜的產(chǎn)生，進(jìn)而使得滑塊與表面聲波制動(dòng)器無(wú)法完全接觸而影響表面聲波制動(dòng)器與滑塊間的驅(qū)動(dòng)性，也因此滑塊與表面聲波制動(dòng)器間以圓球形的接觸是最為合適。
請(qǐng)配合參閱圖5所示，是赫茲理論的模型，其中E1與E2分別為滑塊與表面聲波制動(dòng)器的彈性系數(shù)，v1與v2分別為滑塊與表面聲波制動(dòng)器的柏松比(Poisson，s Rati)，N為滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的正向力，R為滑塊的半徑，根據(jù)赫茲接觸理論可推得滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的最大接觸壓力為Pmax，因此滑塊與表面聲波制動(dòng)器間接觸設(shè)計(jì)的適當(dāng)與否，會(huì)影響到整個(gè)驅(qū)動(dòng)的性能表現(xiàn)，因此滑塊與表面聲波制動(dòng)器間以圓球形的接觸是最為合適。
另外，本發(fā)明的支撐結(jié)構(gòu)不僅可設(shè)置于該定位平臺(tái)的滑動(dòng)軸承上，實(shí)際上亦可將該支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置于該滑塊上，如圖6所示，而改將各組氣體供應(yīng)器的出氣口設(shè)置在該滑塊定位部的上、下、外側(cè)壁面上，使當(dāng)滑塊的荷重較大，而使滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力大于恒定值之時(shí)，該支撐結(jié)構(gòu)位在該滑塊下側(cè)壁的出氣口，便會(huì)依處理器的指示而供給預(yù)定且較大于上側(cè)壁所供給的氣體壓力S1、S2，使滑塊能獲得適當(dāng)?shù)闹胃×σ跃S持與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在恒定值內(nèi)，當(dāng)然如該滑塊的荷重過(guò)小，而使該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力小于恒定值時(shí)，則是由滑塊上側(cè)壁的氣體供應(yīng)器供給較多的氣體壓力F1、F2，使該滑塊能獲得適當(dāng)?shù)恼蛳聣毫?，而將該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力保持在恒定值之內(nèi)。當(dāng)然也會(huì)由該滑塊外側(cè)壁的出氣口供給適當(dāng)?shù)膫?cè)向壓力T1、T2，以維滑塊的行進(jìn)方向。
接著，上述實(shí)施例中的支撐結(jié)構(gòu)是以氣浮的原理來(lái)控制滑塊與表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力，但實(shí)際上亦可將支撐結(jié)構(gòu)改采為液壓或磁浮的方式，來(lái)達(dá)成支撐滑塊的支撐力可變的特性，來(lái)維持滑塊與制動(dòng)器間穩(wěn)定的接觸壓力，使得滑塊即使負(fù)載不同重量的負(fù)荷，亦都能維持于一定的驅(qū)動(dòng)性能。
其中，由于液壓式或磁浮式的支撐結(jié)構(gòu)的作用原理與前述氣壓式的作用原理大致相同，因此以下僅以文字略作說(shuō)明，當(dāng)該支撐結(jié)構(gòu)采液壓式時(shí)，該支撐結(jié)構(gòu)為三組各別擁有獨(dú)立液壓源的液體供應(yīng)器，其中第一組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第二組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第三組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，使可由第一組的液體供應(yīng)器對(duì)該滑塊提供適度而較多于第二組液體供應(yīng)器所提供下壓力的支撐力，或由該第二組的液體供應(yīng)器對(duì)該滑塊提供適度而較多于第一組液體供應(yīng)器所提供支撐力的下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在該恒定值之內(nèi)，并由該第三組的液體供應(yīng)器于該滑塊位移的同時(shí)提供適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的固定行進(jìn)方向。當(dāng)然，該亦可將三組的液體供應(yīng)器分別設(shè)置于該滑塊的定位部的上、下外側(cè)壁上，而同樣可維持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力于恒定值之內(nèi)。
另，當(dāng)該支撐結(jié)構(gòu)采磁浮的方式時(shí)，該支撐結(jié)構(gòu)為三組各別擁有獨(dú)立驅(qū)動(dòng)源的電磁組件，其中第一組的電磁組件，是設(shè)置于該各滑動(dòng)軸承的下側(cè)壁及滑塊定位部的對(duì)應(yīng)位置上，第二組的電磁組件，是設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的上側(cè)壁及滑塊定位部的對(duì)應(yīng)位置上，第三組的電磁組件，是設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的外側(cè)壁及滑塊定位部的對(duì)應(yīng)位置上，使可由第一組的電磁組件通以預(yù)定電流而產(chǎn)生向上浮撐力，及由第二組電磁組件通以預(yù)定電流而產(chǎn)生適度的向下磁壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在該恒定值之內(nèi)，并在該滑塊滑移的同時(shí)由該第三組的電磁組件對(duì)該滑塊提供適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。另外，由于上述磁浮的方式，是將滑塊與滑動(dòng)軸承間的電磁組件以相斥的磁力作動(dòng)，但實(shí)際上亦可將滑塊與滑動(dòng)軸承間的電磁組件以相吸的磁力作動(dòng)，同樣可達(dá)成本發(fā)明的目的。
權(quán)利要求
1.一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，其主要包含有一定位平臺(tái)，其兩相對(duì)側(cè)分別具有一滑動(dòng)軸承；一表面聲波制動(dòng)器，是設(shè)置于該定位平臺(tái)上，位在該二滑動(dòng)軸承之間，而可于其頂端面產(chǎn)生一預(yù)定的表面聲波；一滑塊，是置于該定位平臺(tái)上，具有一與該表面聲波制動(dòng)器的頂端面接觸的受力部及二分別置位于該各滑動(dòng)軸承中的定位部，使可由該表面聲波制動(dòng)器的表面聲波帶動(dòng)該滑塊位移；一支撐結(jié)構(gòu)，是可因應(yīng)該滑塊的負(fù)重程度，而對(duì)該滑塊的定位部施予一預(yù)力，使該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力保持于一恒定值內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)是設(shè)置于該滑動(dòng)軸承上。
3.如權(quán)利要求1所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)是設(shè)置于該滑塊的定位部上。
4.如權(quán)利要求1所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該定位平臺(tái)形成有一可供該滑塊置放的區(qū)域，該各滑動(dòng)軸承是自該區(qū)域的兩相對(duì)側(cè)所分別延伸而成的凹槽。
5.如權(quán)利要求4所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)，具有二組各別擁有獨(dú)立氣源的氣體供應(yīng)器，其中第一組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第二組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，使可由第一組的氣體供應(yīng)器對(duì)該滑塊的定位部提供適度的支撐力，或由該第二組的氣體供應(yīng)器對(duì)該滑塊的定位部提供適度的下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位于該恒定值之內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)更具有一第三組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可對(duì)該滑塊提供適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。
7.如權(quán)利要求4所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)，具有二組各別擁有獨(dú)立氣源的氣體供應(yīng)器，其中第一組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各定位部的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第二組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各定位部的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，使可由第一組的氣體供應(yīng)器對(duì)滑動(dòng)軸承內(nèi)供氣，而使該定位部得到適度的支撐力，或由該第二組的氣體供應(yīng)器對(duì)該滑動(dòng)軸承內(nèi)供氣，使該定位部得到適度的下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位于該恒定值之內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)更具有一第三組的氣體供應(yīng)器，是將其若干的出氣口依序排列設(shè)置在該各定位部的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可對(duì)該滑塊提供適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。
9.如權(quán)利要求4所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)具有二組各別擁有獨(dú)立液壓源的液體供應(yīng)器，其中第一組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該滑動(dòng)軸承的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第二組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該滑動(dòng)軸承的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可由第一組液體供應(yīng)器的供液，使該滑塊的定位部得到適度的支撐力，或由該第二組的液體供應(yīng)器的供液，而使該滑塊的定位部得到適度的下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在該恒定值之內(nèi)。
10.如權(quán)利要求9所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)更具有一第三組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可對(duì)該滑塊的定位部提供適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。
11.如權(quán)利要求4所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)具有二組各別擁有獨(dú)立液壓源的液體供應(yīng)器，其中第一組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各定位部的下側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，第二組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各定位部的上側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可由第一組的液體供應(yīng)器的供液，使該滑塊的定位部得到適度的支撐力，或由該第二組液體供應(yīng)器的供液，而使該滑塊的定位部得到適度的下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在該恒定值之內(nèi)。
12.如權(quán)利要求11所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)更具有一第三組的液體供應(yīng)器，是將其若干的出液口依序排列設(shè)置在該各定位部的外側(cè)壁中，并與該各滑動(dòng)軸承連通，而可對(duì)該滑塊的定位部得到適度的側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。
13.如權(quán)利要求4所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)具有二組各別擁有獨(dú)立驅(qū)動(dòng)源的電磁組件，其中第一組的電磁組件，是設(shè)置于該各滑動(dòng)軸承的下側(cè)壁及定位部的對(duì)應(yīng)位置上，第二組的電磁組件，是設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的上側(cè)壁及定位部的對(duì)應(yīng)位置上，使可利用由第一、二組的電磁組件通以預(yù)定電流，而分別產(chǎn)生對(duì)該滑塊的適度向上支撐力及適度的向下壓力，以保持該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力位在該恒定值內(nèi)。
14.如權(quán)利要求13所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該支撐結(jié)構(gòu)更具有一第三組的電磁組件，是設(shè)置在該各滑動(dòng)軸承的外側(cè)壁及定位部的對(duì)應(yīng)位置上，而可通以預(yù)定電流而產(chǎn)生對(duì)該滑塊的適度側(cè)向力，以維持該滑塊位移的行進(jìn)方向。
15.如權(quán)利要求1所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該滑塊可界定出一身部及分別自該身部二側(cè)橫向延伸的定位部，該滑塊是以其身部置于定位平臺(tái)上，并使該各定位部分別位在該各滑動(dòng)軸承中，且該各定位部與該各滑動(dòng)軸承的側(cè)壁間皆具有預(yù)定之間隙，而由該支撐結(jié)構(gòu)對(duì)該各定位部施予預(yù)力。
16.如權(quán)利要求1所述可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其特征在于，所述該滑塊更具有一壓力荷重感應(yīng)器，是可將該滑塊的載重變化傳輸至一處理器中，并由此一處理器控制該支撐結(jié)構(gòu)的作動(dòng)。
全文摘要
一種可調(diào)負(fù)重的表面聲波致動(dòng)裝置，其主要包含有一定位平臺(tái)，其兩相對(duì)側(cè)分別具有一滑動(dòng)軸承；一表面聲波制動(dòng)器，是設(shè)置于該定位平臺(tái)上，位在該二滑動(dòng)軸承之間，而可于其頂端面產(chǎn)生一預(yù)定的表面聲波；一滑塊，是置于該定位平臺(tái)上，具有一與該表面聲波制動(dòng)器的頂端面接觸的受力部及二分別置位于該各滑動(dòng)軸承中的定位部，使可由該表面聲波制動(dòng)器的表面聲波帶動(dòng)該滑塊位移；一支撐結(jié)構(gòu)，是可因應(yīng)該滑塊的負(fù)重程度，而對(duì)該滑塊的定位部施予一預(yù)力，使該滑塊與該表面聲波制動(dòng)器間的接觸壓力保持于一恒定值內(nèi)。
文檔編號(hào)H02N2/02GK1592072SQ0315531
公開日2005年3月9日 申請(qǐng)日期2003年8月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月26日
發(fā)明者周大鑫, 朱怡銘, 王維漢, 巫震華 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院