基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置及利用其的水平調(diào)節(jié)方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置及利用其的水平調(diào)節(jié)方法。本發(fā)明的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置是具備在腔室的下方且對與安裝基板的晶座連接的支撐板的水平進行調(diào)節(jié)的裝置，所述基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置的特征在于具備：第一調(diào)節(jié)單元，其使所述支撐板上下移動特定距離；及第二調(diào)節(jié)單元，其防止所述支撐板因所述腔室內(nèi)部的負壓而向上方移動。本發(fā)明的水平調(diào)節(jié)裝置及利用其的水平調(diào)節(jié)方法可非常準確且簡便地調(diào)節(jié)支撐板的水平。
【專利說明】
基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置及利用其的水平調(diào)節(jié)方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及一種基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置及利用其的水平調(diào)節(jié)方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 在半導(dǎo)體晶片等基板（以下，稱為"基板"）上形成薄膜的情況下，在內(nèi)部形成有特 定空間的腔室內(nèi)部具備供所述基板安裝的晶座，在所述腔室的上方具備供給各種制程氣體 及/或吹掃氣體的氣體供給部而在所述基板蒸鍍薄膜。
[0003] 圖12表示具有以往構(gòu)造的水平調(diào)節(jié)裝置的薄膜蒸鍍裝置10。參照圖12,在腔室12 的內(nèi)部具備氣體供給部14及安裝基板W的晶座16，從所述晶座16朝向下方延伸的延伸部18 連接到下方的升降板20。在此情況下，所述升降板20以可沿支撐桿30上下移動的方式具備。 例如，以如下方式具備:在所述支撐桿30的下方具備馬達32,所述升降板20可通過根據(jù)所述 馬達32的驅(qū)動而驅(qū)動的滾珠螺桿(未圖示)等沿所述支撐桿30上下移動。
[0004] 所述支撐桿30固定到連接在所述腔室12的下方的支撐板40。此處，所述支撐板40 以可水平調(diào)節(jié)的方式具備在所述腔室12的下方。即，可具備：固定連接部50,其將所述支撐 板40與所述腔室12連接固定;及至少一個升降連接部60,其可實現(xiàn)所述支撐板40的微小的 升降調(diào)節(jié)。所述升降連接部60可包含:緊固桿62,其從所述腔室12朝向下方延伸；及一個以 上的螺母64,其緊固在所述緊固桿62。因此，在以往的構(gòu)造中，通過擰緊旋松所述螺母64而 使所述支撐板40的一側(cè)微小地升降，由此執(zhí)行所述支撐板40的水平調(diào)節(jié)。
[0005] 然而，在如上所述的構(gòu)造中，所述基板W的上表面與所述氣體供給部14之間的距離 會對蒸鍍到所述基板W的表面的薄膜的品質(zhì)產(chǎn)生非常大的影響。即，如果支撐所述基板W的 晶座16未保持水平而所述基板W的上表面與所述氣體供給部14之間的距離變得不均勻，則 無法使蒸鍍到所述基板W的表面的薄膜的厚度固定而所述薄膜的品質(zhì)明顯下降。
[0006] 為了解決此種問題點，如上所述，在以往的構(gòu)成中，在對所述晶座16連接的所述支 撐板40的水平進行調(diào)節(jié)的情況下，作業(yè)人員手動地旋轉(zhuǎn)所述螺母64,由此調(diào)節(jié)所述支撐板 40的水平。然而，此種方法是手動地進行動作，因此存在因作業(yè)人員的熟練度及作業(yè)技術(shù)而 水平調(diào)節(jié)程度不同的問題點。另外，所述以往的方法是由作業(yè)人員直接手動地進行調(diào)節(jié)，因 此存在難以實現(xiàn)微小調(diào)節(jié)，進而水平調(diào)節(jié)準確度非常低的問題點。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] [發(fā)明欲解決的課題]
[0008] 為了解決如上所述的問題點，本發(fā)明的目的在于提供一種可非常準確且簡便地調(diào) 節(jié)所述支撐板的水平的水平調(diào)節(jié)裝置。
[0009] 進而，本發(fā)明的目的在于提供一種在調(diào)節(jié)所述支撐板的水平的情況下，可非常精 密地實現(xiàn)微小調(diào)節(jié)的水平調(diào)節(jié)裝置。
[0010][解決課題的手段]
[0011]如上所述的本發(fā)明的目的由基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置達成，其是具備在腔室 的下方且對與安裝基板的晶座連接的支撐板的水平進行調(diào)節(jié)的裝置，所述基板處理裝置的 水平調(diào)節(jié)裝置的特征在于具備:第一調(diào)節(jié)單元，其使所述支撐板上下移動特定距離;及第二 調(diào)節(jié)單元，其防止所述支撐板因所述腔室的內(nèi)部的負壓而向上方移動。
[0012] 此處，所述第一調(diào)節(jié)單元及第二調(diào)節(jié)單元中的至少一個可具備：凸輪構(gòu)件，其對所 述支撐板施加垂直方向的力;及驅(qū)動部，其具備旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸以與所述凸輪構(gòu)件的旋 轉(zhuǎn)中心隔開特定距離的方式與所述凸輪構(gòu)件連接而使所述凸輪構(gòu)件旋轉(zhuǎn)。
[0013] 另外，基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置還可具備軸承部，所述軸承部具備在所述凸 輪構(gòu)件與所述支撐板之間，包覆所述凸輪構(gòu)件的外周，減少與所述凸輪構(gòu)件的摩擦?；逄?理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置還可具備推動桿，所述推動桿的一端與所述軸承部的外周相接，通 過所述軸承部的旋轉(zhuǎn)而使所述支撐板升降。基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置還可具備導(dǎo)引所 述推動桿的上下移動的線性襯套。
[0014] 另一方面，在所述第一調(diào)節(jié)單元及第二調(diào)節(jié)單元均具備所述凸輪構(gòu)件及驅(qū)動部的 情況下，所述第一調(diào)節(jié)單元的驅(qū)動部與所述第二調(diào)節(jié)單元的驅(qū)動部可同步化而使所述支撐 板升降。另外，所述第一調(diào)節(jié)單元及第二調(diào)節(jié)單元中的任一者可包含彈簧構(gòu)件。
[0015] 另一方面，在所述第二調(diào)節(jié)單元包含所述彈簧構(gòu)件的情況下，彈簧構(gòu)件的彈力大 于從所述支撐板因所述腔室的內(nèi)部的負壓而被拉升到上方的力除去所述水平調(diào)節(jié)裝置的 負重的外力，小于通過所述第一調(diào)節(jié)單元而使所述支撐板向上方移動的力。另外，在所述第 一調(diào)節(jié)單元包含所述彈簧構(gòu)件的情況下，所述彈簧構(gòu)件的彈力大于所述水平調(diào)節(jié)裝置的負 重，且小于通過所述第二調(diào)節(jié)單元而使所述支撐板向下方移動的力。
[0016] 另一方面，如上所述的本發(fā)明的目的由基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)方法達成，其是 具備與安裝基板的晶座連接的支撐板、對所述支撐板施加特定的力的凸輪構(gòu)件、及具備以 與所述凸輪構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)中心隔開特定距離的方式與所述凸輪構(gòu)件連接而使所述凸輪構(gòu)件 旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸的驅(qū)動部的水平調(diào)節(jié)裝置的水平調(diào)節(jié)方法，上述水平調(diào)節(jié)裝置的水平調(diào)節(jié)方 法的特征在于包含如下步驟:將通過所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)而所述旋轉(zhuǎn)軸與所述凸輪構(gòu)件的旋 轉(zhuǎn)中心呈水平的情況設(shè)定為基準高度;所述旋轉(zhuǎn)軸在所述基準高度向正方向或反方向旋 轉(zhuǎn)，而所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度的范圍小于180° ;及使所述旋轉(zhuǎn)軸向正方向或反方向中的任 一方向旋轉(zhuǎn)而使所述支撐板升降。
[0017] 此處，通過所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)形成的所述支撐板的高度調(diào)節(jié)的范圍可小于所述旋 轉(zhuǎn)軸與所述凸輪構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)中心相隔距離的2倍。
[0018] 另一方面，在設(shè)定所述基準高度的步驟前，還可包含將所述基板安裝到所述晶座 的上表面而上升到制程高度。
[0019][發(fā)明的效果]
[0020] 根據(jù)具有上述構(gòu)成的本發(fā)明的水平調(diào)節(jié)裝置，可非常準確且簡便地調(diào)節(jié)所述支撐 板的水平。
[0021] 進而，根據(jù)本發(fā)明，在調(diào)節(jié)所述支撐板的水平的情況下，可非常精密地實現(xiàn)微小調(diào) To
【附圖說明】
[0022] 圖1是表示本發(fā)明的一實施例的水平調(diào)節(jié)裝置具備在腔室的下方的示意圖。
[0023]圖2是所述水平調(diào)節(jié)裝置的立體圖。
[0024]圖3是沿圖2的"ΙΙΙ-ΙΙΓ線的剖面圖。
[0025] 圖4及圖5是表示不同的實施例的水平調(diào)節(jié)裝置的剖面圖。
[0026] 圖6是表示所述水平調(diào)節(jié)裝置的旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度與所述支撐板的升降距離的圖 表。
[0027] 圖7至圖9是表示根據(jù)所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度形成的所述旋轉(zhuǎn)軸與所述凸輪構(gòu)件 的旋轉(zhuǎn)中心的關(guān)系的圖。
[0028] 圖10是表示圖6中的基準高度呈所述旋轉(zhuǎn)軸的相位脫離90°的狀態(tài)情況的圖表。
[0029] 圖11(A)、圖11(B)是用以說明本發(fā)明的水平調(diào)節(jié)方法的基板處理裝置的概略圖。
[0030] 圖12是表示具備以往構(gòu)造的水平調(diào)節(jié)裝置的基板處理裝置的圖。
【具體實施方式】
[0031] 以下，參照附圖，詳細地觀察本發(fā)明的各種實施例的水平調(diào)節(jié)裝置。
[0032] 圖1表示本發(fā)明的一實施例的水平調(diào)節(jié)裝置100具備在腔室12的下方的示意圖，圖 2是所述水平調(diào)節(jié)裝置100的立體圖。在圖1中，對于腔室12、支撐板40、支撐桿30、晶座16等 的連接構(gòu)造的說明已在【背景技術(shù)】中進行了詳述，因此省略重復(fù)說明。
[0033] 參照圖1及圖2,所述水平調(diào)節(jié)裝置100可具備:第一調(diào)節(jié)單元102,其使所述支撐板 40上下移動特定距離;及第二調(diào)節(jié)單元104,其防止所述支撐板40因所述腔室12的內(nèi)部的負 壓而向上方移動。
[0034] 即，所述第一調(diào)節(jié)單元102為了像下述內(nèi)容一樣執(zhí)行所述支撐板40的水平調(diào)節(jié)而 朝向所述支撐板40上下移動。其中，所述支撐板40通過支撐桿30而與所述晶座16連接，所述 晶座16位于所述腔室12的內(nèi)部。在此情況下，如果為了進行蒸鍍制程等而將所述腔室12的 內(nèi)部保持為特定的真空狀態(tài)，則會在所述腔室12的內(nèi)部產(chǎn)生負壓而所述晶座16因所述負壓 向上方上升。此種上升作用會改變所述晶座16與所述腔室12的內(nèi)部的氣體供給部14之間的 距離。因此，在所述腔室12的內(nèi)部產(chǎn)生負壓的情況下，所述第二調(diào)節(jié)單元104防止所述支撐 板40上升，由此防止與所述支撐板40連接的所述晶座16上升而保持所述晶座16與所述氣體 供給部14之間的距離。
[0035]如圖1及圖2所示，所述第一調(diào)節(jié)單元102具備在連接到所述腔室12的下方的殼體 110。所述殼體110固定到所述腔室12的下方，形成供所述支撐板40的一側(cè)插入的溝槽部 112。在所述支撐板40的一側(cè)插入在所述溝槽部112的狀態(tài)下，通過所述第一調(diào)節(jié)單元102而 使所述支撐板40微小地上下移動、或通過第二調(diào)節(jié)單元104防止所述支撐板40上升而固定 所述支撐板40的高度。
[0036]圖3是沿圖2的"ΙΙΙ-ΙΙΓ線的剖面圖。
[0037]參照圖3,所述第一調(diào)節(jié)單元102具備：凸輪構(gòu)件130,其對所述支撐板40施加特定 的力;及驅(qū)動部120,其具備旋轉(zhuǎn)軸122,所述旋轉(zhuǎn)軸122以與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心隔 開特定距離的方式與所述凸輪構(gòu)件130連接而使所述凸輪構(gòu)件130旋轉(zhuǎn)。
[0038]在所述殼體110具備如馬達的驅(qū)動部120,從所述驅(qū)動部120延伸的旋轉(zhuǎn)軸122連接 到所述凸輪構(gòu)件130。此時，所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心與所述驅(qū)動部120的旋轉(zhuǎn)軸122以 隔開特定距離d的方式連接。在圖3中，(1)線為從所述驅(qū)動部120的旋轉(zhuǎn)軸122的中心延伸的 假想線，(β)線相當于從所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心延伸的假想線。
[0039] 即，在遠離所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心特定距離處連接所述驅(qū)動部120的旋轉(zhuǎn)軸 122,而并非在所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心連接所述驅(qū)動部120的旋轉(zhuǎn)軸122。在如上所述 的構(gòu)造中，在通過所述驅(qū)動部120的驅(qū)動而所述旋轉(zhuǎn)軸122進行旋轉(zhuǎn)的情況下，所述凸輪構(gòu) 件130也連動地進行旋轉(zhuǎn)。在此情況下，所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心以與所述旋轉(zhuǎn)軸122的 中心隔開的方式定位，因此在所述凸輪構(gòu)件130進行旋轉(zhuǎn)的情況下，所述凸輪構(gòu)件130的外 周與所述旋轉(zhuǎn)軸122的距離發(fā)生變化。即，在所述凸輪構(gòu)件130進行旋轉(zhuǎn)的情況下，所述凸輪 構(gòu)件130的外周形成與所述旋轉(zhuǎn)軸122的距離發(fā)生變化的不規(guī)則的軌跡，而并非形成固定的 圓形軌跡。因此，在所述凸輪構(gòu)件130的外周與所述旋轉(zhuǎn)軸122的距離相對變遠的情況下，可 使所述支撐板40向上方上升，相反地，在所述凸輪構(gòu)件130的外周與所述旋轉(zhuǎn)軸122的距離 相對變短的情況下，所述支撐板40向下方下降。
[0040] 此時，還可具備軸承部140,所述軸承部140具備在所述凸輪構(gòu)件130與所述支撐板 40之間，包覆所述凸輪構(gòu)件130的外周，對所述支撐板40施加特定的力。所述軸承部140防止 所述凸輪構(gòu)件130直接與下文將述的推動桿150接觸而防止所述凸輪構(gòu)件130或所述推動桿 150磨損。
[0041] 進而，所述水平調(diào)節(jié)裝置100還可具備推動桿150,所述推動桿150的一端與所述軸 承部140的外周相接而通過所述軸承部140的旋轉(zhuǎn)對所述支撐板40施加特定的力。
[0042] 所述推動桿150以可貫通線性襯套（linear bush)160而上下移動的方式具備，所 述線性襯套160貫通具備在所述殼體110的另一側(cè)的開口部114。在所述推動桿150通過所述 凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)而上下移動的情況下，所述線性襯套160導(dǎo)引所述推動桿150的上下移 動。因此，在通過所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)而所述軸承部140-同旋轉(zhuǎn)的情況下，所述推動桿 150上下移動而使所述支撐板40升降。
[0043]另外，所述推動桿150支撐所述支撐板40而防止所述支撐板40下垂。即，在所述凸 輪構(gòu)件130不進行旋轉(zhuǎn)的情況下，所述凸輪構(gòu)件130與所述旋轉(zhuǎn)軸122銜接固定，因此所述推 動桿150的上端部高度固定，可支撐所述支撐板40而防止下垂。
[0044]另一方面，在所述凸輪構(gòu)件130與所述旋轉(zhuǎn)軸122之間可定位減速器124。所述減速 器124使所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)力下降并傳遞到所述凸輪構(gòu)件130。在此情況下，可與所述支 撐板40可升降的最大距離對應(yīng)地確定所述減速器124的減速比率。
[0045] 圖4表示其他實施例的水平調(diào)節(jié)裝置200。
[0046] 參照圖4，在本實施例中，省略所述圖3的推動桿150的構(gòu)成，所述軸承部140直接使 所述支撐板40升降。在此情況下，所述軸承部140支撐從所述支撐板40延伸的延伸部42。在 本實施例的情況下，具有如下優(yōu)點：省略推動桿150與線性襯套160的構(gòu)成而所述水平調(diào)節(jié) 裝置100的構(gòu)成變得更簡單，可減少所述水平調(diào)節(jié)裝置100的體積。
[0047] 另一方面，在所述圖2及圖3中，所述第二調(diào)節(jié)單元104可包含彈簧構(gòu)件190。
[0048]例如，如圖2及圖3所示，可具備上下貫穿所述殼體110的溝槽部112的固定桿180， 可在所述固定桿180的上方具備所述彈簧構(gòu)件190。此時，可在所述支撐板40形成供所述固 定桿180貫通的貫通孔46,所述彈簧構(gòu)件190向下方對所述支撐板40加壓。所述彈簧構(gòu)件190 以如下方式構(gòu)成:在像上述內(nèi)容一樣在所述腔室12的內(nèi)部產(chǎn)生負壓的情況下，防止所述晶 座16及所述支撐板40向上方移動。如上所述的構(gòu)成僅為一例，當然也可設(shè)為如下構(gòu)成:省略 所述固定桿的構(gòu)成，所述彈簧構(gòu)件直接結(jié)合到所述殼體而對所述支撐板加壓。
[0049] 因此，所述彈簧構(gòu)件190的彈力應(yīng)以如下方式構(gòu)成:大于從所述支撐板40因所述負 壓而被拉升到上方的力除去所述水平調(diào)節(jié)裝置100的負重的外力。另外，所述彈簧構(gòu)件190 的彈力應(yīng)小于通過所述第一調(diào)節(jié)單元102而使所述支撐板40向上方移動的力。其原因在于， 如果所述彈簧構(gòu)件190的彈力大于通過所述第一調(diào)節(jié)單元102而使所述支撐板40向上方移 動的力，則在通過所述第一調(diào)節(jié)單元102而向上推動所述支撐板40的情況下，因所述彈簧構(gòu) 件190的彈力而所述支撐板40也不會向上方移動。
[0050] 另一方面，在上述實施例中，對所述第一調(diào)節(jié)單元102包含凸輪構(gòu)件130、所述第二 調(diào)節(jié)單元104包含彈簧構(gòu)件190的構(gòu)成進行了說明，但本發(fā)明的實施例并不限定于此。
[0051] 即，所述第一調(diào)節(jié)單元102及第二調(diào)節(jié)單元104中的至少一者可包含所述凸輪構(gòu)件 130的構(gòu)成，在所述第一調(diào)節(jié)單元102及第二調(diào)節(jié)單元104中的任一者包含所述凸輪構(gòu)件130 的構(gòu)成的情況下，另一者可包含所述彈簧構(gòu)件190。
[0052] 圖5表示呈所述第一調(diào)節(jié)單元1020包含彈簧構(gòu)件1900、所述第二調(diào)節(jié)單元1040包 含凸輪構(gòu)件1300及軸承部1400的構(gòu)成的其他實施例的水平調(diào)節(jié)裝置300。
[0053]在此情況下，所述第一調(diào)節(jié)單元1020的彈簧構(gòu)件1900持續(xù)向上方對所述支撐板40 的延伸部420加壓而防止所述支撐板40下垂。另外，在所述第二調(diào)節(jié)單元1040的凸輪構(gòu)件 1300及軸承部1400不進行旋轉(zhuǎn)的情況下，防止所述支撐板40上升，在所述凸輪構(gòu)件1300及 軸承部1400進行旋轉(zhuǎn)的情況下，所述支撐板40上下移動。如果通過所述凸輪構(gòu)件1300的旋 轉(zhuǎn)而所述凸輪構(gòu)件1300的中心位于較所述驅(qū)動部1200的旋轉(zhuǎn)軸更下方，則通過所述軸承部 1400而向下方對所述支撐板40加壓，所述支撐板40克服所述彈簧構(gòu)件1900的彈力而下降。 相反地，如果通過所述凸輪構(gòu)件1300的旋轉(zhuǎn)而所述凸輪構(gòu)件1300的中心位于較所述驅(qū)動部 1200的旋轉(zhuǎn)軸更上側(cè)，則因所述彈簧構(gòu)件1900的彈力而所述支撐板40上升。在此情況下，所 述彈簧構(gòu)件1900的彈力大于所述水平調(diào)節(jié)裝置的負重，小于通過所述第二調(diào)節(jié)單元1040而 使所述支撐板40向下方移動的力。另一方面，雖未在附圖中圖示，但在呈所述第一調(diào)節(jié)單元 102及第二調(diào)節(jié)單元104均包含所述凸輪構(gòu)件130的構(gòu)成的情況下，所述第一調(diào)節(jié)單元102的 驅(qū)動部與所述第二調(diào)節(jié)單元104的驅(qū)動部可同步化(synchronization)而彼此驅(qū)動。
[0054] 即，在所述第一調(diào)節(jié)單元102及第二調(diào)節(jié)單元104均包含所述凸輪構(gòu)件130的情況 下，在為了實現(xiàn)下方的所述第一調(diào)節(jié)單元102使所述支撐板40向上方移動而所述驅(qū)動部120 進行旋轉(zhuǎn)時，所述第二調(diào)節(jié)單元104的驅(qū)動部120同步化而驅(qū)動，以便可使所述支撐板40向 上方移動。在所述第一調(diào)節(jié)單元102的驅(qū)動部120驅(qū)動而向上方推動所述支撐板40的情況 下，如果所述第二調(diào)節(jié)單元104不進行驅(qū)動、或所述第二調(diào)節(jié)單元104向下方推動所述支撐 板40,則所述支撐板40不會向上方移動。在通過所述第一調(diào)節(jié)單元102而使所述支撐板40向 下方移動的情況下也相同。因此，所述第一調(diào)節(jié)單元102與第二調(diào)節(jié)單元104彼此同步化地 驅(qū)動而使所述支撐板40上下移動，進而，在移動后固定所述支撐板40的高度，以便所述支撐 板40不會因所述腔室12的內(nèi)部的負壓而向上方移動。
[0055]以下，觀察為了通過具有圖3的構(gòu)成的水平調(diào)節(jié)裝置100調(diào)節(jié)所述支撐板40的水平 而使所述支撐板40上下移動的水平調(diào)節(jié)方法。圖6表示所述水平調(diào)節(jié)裝置100的第一調(diào)節(jié)單 元102所包含的驅(qū)動部120的旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度與所述支撐板40的升降距離，圖7至圖9 表示根據(jù)所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度形成的所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心 132的關(guān)系。在圖6中，橫軸表示所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度(°)，縱軸表示所述支撐板40的升 降距離(mm)。圖7表示在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸122的相位向順時針方向旋轉(zhuǎn)0°的情況，圖8表示 在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸122的相位向順時針方向旋轉(zhuǎn)90°的情況，圖9表示在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸 122的相位向順時針方向旋轉(zhuǎn)180°的情況。在圖7至圖9中，方便起見假設(shè)所述旋轉(zhuǎn)軸122向 順時針方向旋轉(zhuǎn)的情況而進行說明，但當然也可向相反方向旋轉(zhuǎn)。
[0056]參照圖6及圖7至圖9,所述水平調(diào)節(jié)方法包含如下步驟:將通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的 旋轉(zhuǎn)而所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心呈水平的情況設(shè)定為基準高度;所述 旋轉(zhuǎn)軸122在所述基準高度向正方向或反方向旋轉(zhuǎn)，而所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度的范圍小 于180°的步驟;及使所述旋轉(zhuǎn)軸122向正方向或反方向中的任一方向旋轉(zhuǎn)而使所述支撐板 40升降。
[0057]首先，將通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)而所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn) 中心呈水平的情況設(shè)定為基準高度。所述圖8為所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn) 中心132彼此呈水平的狀態(tài)，在此情況下，將通過所述凸輪構(gòu)件130形成的所述支撐板40的 高度設(shè)定為基準高度。
[0058]另一方面，在所述圖7中，所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心132彼此 垂直地排列，所述旋轉(zhuǎn)中心132位于所述旋轉(zhuǎn)軸122的下方。在此情況下，與所述支撐板40接 觸的所述凸輪構(gòu)件130的外周位于所述基準高度的下方，在此情況下，所述支撐板40位于所 述基準高度的下方。此時，所述支撐板40與所述基準高度之間的距離與所述旋轉(zhuǎn)軸122與所 述旋轉(zhuǎn)中心的相隔距離d相同。
[0059] 在此種狀態(tài)下，如果所述旋轉(zhuǎn)軸122進一步向順時針方向旋轉(zhuǎn)90°而達到圖8的狀 態(tài)，則所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述旋轉(zhuǎn)中心132彼此水平地排列，所述旋轉(zhuǎn)中心132與所述旋轉(zhuǎn)軸 122位于相同的高度。在此情況下，與所述支撐板40接觸的所述凸輪構(gòu)件130的外周處于所 述基準高度而所述支撐板40位于所述基準高度。
[0060] 在此種狀態(tài)下，如果所述旋轉(zhuǎn)軸122進一步向順時針方向旋轉(zhuǎn)90°而達到圖9的狀 態(tài)，則所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述旋轉(zhuǎn)中心132彼此垂直地排列，所述旋轉(zhuǎn)中心132位于所述旋轉(zhuǎn) 軸122的上方。在此情況下，與所述支撐板40接觸的所述凸輪構(gòu)件130的外周超過所述基準 高度而使所述支撐板40向上方移動。此時，所述支撐板40與所述基準高度之間的距離、與所 述旋轉(zhuǎn)軸122與所述旋轉(zhuǎn)中心132的相隔距離d相同。
[0061] 如上所述，將通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)而所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的 旋轉(zhuǎn)中心呈水平的情況(在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸的相位位于90°或270°的情況)設(shè)定為基準高 度的原因在于，在使所述支撐板40上下移動的情況下，使通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)形成的 所述支撐板40的高度調(diào)節(jié)范圍處于所述支撐板40的最高點與最低點之間。
[0062] 即，在所述旋轉(zhuǎn)軸122在所述基準高度向正方向或反方向旋轉(zhuǎn)的情況下，如果以小 于180°的方式設(shè)定所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度的范圍、或如果以小于所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述 凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心142相隔的距離的2倍的方式設(shè)定通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)形成 的所述支撐板40的高度調(diào)節(jié)范圍，則如圖6所示，所述支撐板40的高度調(diào)節(jié)范圍位于所述支 撐板40的最高點與最低點之間。
[0063]例如，在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu)件130的旋轉(zhuǎn)中心142的相隔距離為 1.5mm的情況下，所述支撐板40的最高點與最低點之間的距離為相當于所述相隔距離的兩 倍的3.Omm，所述高度調(diào)節(jié)范圍可設(shè)定為2.Omm，在所述高度調(diào)節(jié)范圍的兩側(cè)，至所述最高點 與最低點為止分別提供〇 · 5mm的裕度(margin) 〇
[0064]然而，在設(shè)定所述基準高度的情況下，現(xiàn)實中難以將所述旋轉(zhuǎn)軸122與所述凸輪構(gòu) 件130的旋轉(zhuǎn)中心呈水平的情況(在圖6中所述旋轉(zhuǎn)軸的相位位于90°或270°的情況)準確地 設(shè)定為基準高度。因此，如圖10所示，如果將所述旋轉(zhuǎn)軸122的相位脫離90°的情況設(shè)定為基 準高度，將所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度的范圍設(shè)定為180°，則所述支撐板40的高度調(diào)節(jié)范圍 脫離所述支撐板40的最高點與最低點之間。即，在為了使所述支撐板40最大限度地上升而 使所述旋轉(zhuǎn)軸122旋轉(zhuǎn)的情況下，所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度的范圍超過所述支撐板40達到 最高點的180°。在此情況下，即便使所述旋轉(zhuǎn)軸122的相位旋轉(zhuǎn)180°以上，所述支撐板40也 不會進一步上升，反而會在所述旋轉(zhuǎn)軸122的相位超過180°的瞬間開始下降。因此，在通過 控制所述旋轉(zhuǎn)軸122的驅(qū)動調(diào)節(jié)所述支撐板40的高度而對所述支撐板40的水平進行調(diào)節(jié)的 情況下，無法恰當?shù)貙崿F(xiàn)水平調(diào)節(jié)。
[0065]在像上述內(nèi)容一樣設(shè)定所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)角度范圍或所述支撐板40的高度調(diào) 節(jié)范圍后，使所述旋轉(zhuǎn)軸122向正方向或反方向中的任一方向旋轉(zhuǎn)而使所述支撐板40升降。 在通過所述旋轉(zhuǎn)軸122的旋轉(zhuǎn)而所述支撐板40上升或下降的情況下，利用測定工具、例如校 準治具(ca 1 ibration j ig)等測定所述晶座16與氣體供給部14之間的距離而固定地保持所 述晶座16與氣體供給部14之間的距離。
[0066]另一方面，圖11(A)、圖11(B)是用以說明本發(fā)明的水平調(diào)節(jié)方法的基板處理裝置 的概略圖。
[0067]圖11(A)表示基板W進入到所述腔室12的內(nèi)部而在頂升銷17的上端部安裝基板W的 所謂的"頂升位置(lift position)"，圖11(B)表示所述基板W安裝到所述晶座16的上表面 而上升到制程位置的所謂的"處理位置(process position)"的狀態(tài)。
[0068]在所述晶座16在所述頂升位置與處理位置之間上下移動的情況下，只有準確地沿 垂直方向移動，所述基板W才能準確地安裝到所述頂升銷17上。如果在所述頂升位置、即在 所述基板W安裝在所述頂升銷17的上端部的狀態(tài)下執(zhí)行所述水平調(diào)節(jié)方法，則所述晶座16 以歪斜的狀態(tài)向上方移動而不會準確地沿垂直方向上升。因此，所述基板W的位置以歪斜的 狀態(tài)上升而無法順利地進行后續(xù)制程。因此，在設(shè)定所述基準高度的步驟前，還可包含所述 基板W安裝到所述晶座16的上表面而上升到所述制程高度的步驟。即，可在所述基板W位于 所述處理位置的情況下執(zhí)行所述水平調(diào)節(jié)方法。
[0069] 另外，在所述處理位置執(zhí)行所述水平調(diào)節(jié)方法而后續(xù)制程結(jié)束的情況下，在所述 基板下降到所述頂升位置前，所述晶座16需恢復(fù)到執(zhí)行所述水平調(diào)節(jié)方法前的水平狀態(tài)。 其原因在于，只有像上述內(nèi)容一樣所述晶座16的狀態(tài)恢復(fù)到原來的狀態(tài)，所述晶座16才能 準確地沿垂直方向下降而在所述頂升銷17上準確地安裝所述基板W。
[0070] 另一方面，可在所述各基板W進入到所述腔室12的情況下、或在對所述基板W的多 個處理制程中的任一制程中執(zhí)行所述水平調(diào)節(jié)方法。另外，所述水平調(diào)節(jié)方法不僅可應(yīng)用 于固定地保持所述晶座16與所述氣體供給部14之間的距離的情況，而且也可應(yīng)用于刻意地 使所述晶座16與所述氣體供給部14之間的距離不同而使所述基板W的特定區(qū)域的處理結(jié)果 不同的情況。
[0071]以上，參照本發(fā)明的優(yōu)選的實施例進行了說明，但本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可在不 脫離隨附的技術(shù)方案中所記載的本發(fā)明的思想及區(qū)域的范圍內(nèi)對本發(fā)明實施各種修正及 變更。因此，只要變形的實施例基本上包含本發(fā)明的技術(shù)方案的構(gòu)成要素，則應(yīng)視為均包含 在本發(fā)明的技術(shù)范疇內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其是具備在腔室的下方且對與安裝基板的晶座 連接的支撐板的水平進行調(diào)節(jié)的裝置，所述基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置的特征在于具 備： 第一調(diào)節(jié)單元，其使所述支撐板上下移動特定距離;及 第二調(diào)節(jié)單元，其防止所述支撐板因所述腔室的內(nèi)部的負壓而向上方移動。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述第一調(diào)節(jié)單 元及所述第二調(diào)節(jié)單元中的至少一個具備： 凸輪構(gòu)件，其對所述支撐板施加垂直方向的力;及 驅(qū)動部，其具備旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸以與所述凸輪構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)中心隔開特定距離的方 式與所述凸輪構(gòu)件連接而使所述凸輪構(gòu)件旋轉(zhuǎn)。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 還具備軸承部，所述軸承部具備在所述凸輪構(gòu)件與所述支撐板之間，包覆所述凸輪構(gòu) 件的外周，使與所述凸輪構(gòu)件的摩擦減少。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 還具備推動桿，所述推動桿的一端與所述軸承部的外周相接，通過所述軸承部的旋轉(zhuǎn) 而使所述支撐板升降。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 還具備線性襯套，其導(dǎo)引所述推動桿的上下移動。6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 在所述第一調(diào)節(jié)單元及所述第二調(diào)節(jié)單元均具備所述凸輪構(gòu)件與所述驅(qū)動部的情況 下，所述第一調(diào)節(jié)單元的所述驅(qū)動部與所述第二調(diào)節(jié)單元的所述驅(qū)動部同步化而使所述支 撐板升降。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 所述第一調(diào)節(jié)單元及第二調(diào)節(jié)單元中的任一者包含彈簧構(gòu)件。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 在所述第二調(diào)節(jié)單元包含所述彈簧構(gòu)件的情況下，所述彈簧構(gòu)件的彈力大于從所述支 撐板因所述腔室的內(nèi)部的負壓而被拉升到上方的力除去所述水平調(diào)節(jié)裝置的負重的外力， 小于通過所述第一調(diào)節(jié)單元而使所述支撐板向上方移動的力。9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于： 在所述第一調(diào)節(jié)單元包含所述彈簧構(gòu)件的情況下，所述彈簧構(gòu)件的彈力大于所述水平 調(diào)節(jié)裝置的負重，小于通過所述第二調(diào)節(jié)單元而使所述支撐板向下方移動的力。10. -種基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)方法，其是具備與安裝基板的晶座連接的支撐板、對 所述支撐板施加特定的力的凸輪構(gòu)件、及具備以與所述凸輪構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)中心隔開特定距離 的方式與所述凸輪構(gòu)件連接而使所述凸輪構(gòu)件旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸的驅(qū)動部的水平調(diào)節(jié)裝置的 水平調(diào)節(jié)方法，所述基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)方法的特征在于包含： 將通過所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)而所述旋轉(zhuǎn)軸與所述凸輪構(gòu)件的所述旋轉(zhuǎn)中心呈水平的情 況設(shè)定為基準高度； 所述旋轉(zhuǎn)軸在所述基準高度向正方向或反方向旋轉(zhuǎn)，而所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度的范圍 小于180° ;及 使所述旋轉(zhuǎn)軸向所述正方向或所述反方向中的任一方向旋轉(zhuǎn)而使所述支撐板升降。11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)方法，其特征在于： 通過所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)形成的所述支撐板的高度調(diào)節(jié)范圍小于所述旋轉(zhuǎn)軸與所述凸 輪構(gòu)件的所述旋轉(zhuǎn)中心的相隔距離的2倍。12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理裝置的水平調(diào)節(jié)方法，其特征在于： 在設(shè)定所述基準高度前，還包含將所述基板安裝到所述晶座的上表面而上升到制程高 度。
【文檔編號】H01L21/67GK105990192SQ201610146209
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年3月15日
【發(fā)明人】尹炳浩, 張瓊鎬, 盧熙成, 崔落句, 全商熙
【申請人】Tes股份有限公司