一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)。
【背景技術(shù)】
[0002]真空吸盤(pán)時(shí)半導(dǎo)體加工設(shè)備上的主要部件，廣泛用于半導(dǎo)體晶圓等磨削、拋光時(shí)的吸持與支撐。真空吸盤(pán)的性能在一定程度上決定著半導(dǎo)體器件的加工質(zhì)量。目前，用于半導(dǎo)體晶圓吸持的真空吸盤(pán)易使晶圓受力不均，晶圓受力不均將嚴(yán)重影響晶圓的磨削質(zhì)量，甚至造成碎片。此外，晶圓磨削過(guò)程產(chǎn)生的磨肩會(huì)隨著清洗水回流到晶圓表面堵塞吸孔，難以清洗，甚至使吸盤(pán)報(bào)廢，影響加工效率，增加了成本。所以，急需一種便于清洗的防堵塞晶圓吸盤(pán)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提出了一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，可保證使用過(guò)程中便于清洗、不易堵塞、晶圓受力均勾。
[0004]本發(fā)明采用如下技術(shù)方案
[0005]一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，包括:吸持面、吸持面固定螺釘、上吸孔、下吸孔、吸盤(pán)、多孔物、開(kāi)孔支撐墊、開(kāi)孔支撐墊固定螺栓、氣道接口、氣道接口固定螺栓。吸持面與吸盤(pán)通過(guò)吸持面固定螺釘連接，吸持面與吸盤(pán)之間設(shè)有密封墊，吸持面可進(jìn)行拆卸便于內(nèi)部清洗，吸持面吸孔布置區(qū)域稍高于吸持面邊緣區(qū)域。上吸孔位于吸持面上表面，下吸孔位于吸持面下表面多孔物的上方，下吸孔直徑大于上吸孔直徑。多孔物位于吸持面下方由開(kāi)孔支撐墊支撐，開(kāi)孔支撐墊由開(kāi)孔支撐墊固定螺栓與吸盤(pán)底部固定。開(kāi)孔支撐墊與吸盤(pán)底面形成空腔，吸盤(pán)底部中心區(qū)域設(shè)有氣道接口，氣道接口與吸盤(pán)固定，氣道接口與吸盤(pán)之間設(shè)有密封圈。
[0006]本發(fā)明可取的以下有益效果:
[0007]1.吸持面可進(jìn)行拆卸便于吸盤(pán)內(nèi)部的清洗，吸持面吸孔布置區(qū)域稍高于吸持面邊緣區(qū)域，一定程度上可防止磨肩回流堵塞吸孔。
[0008]2.吸持面上下表面設(shè)置不同直徑的吸孔，配合多孔物可便于顆粒的排出，防置堵塞。
[0009]3.開(kāi)孔支撐墊、多孔物可分散真空吸附力，使晶圓受力均勻，提高晶圓磨削質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1吸盤(pán)整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011 ] 圖2吸盤(pán)側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖3吸盤(pán)剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖4吸持面剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖中:
[0015]101—吸持面，102—吸持面固定螺釘，103—上吸孔，201—開(kāi)孔支撐墊固定螺栓，202—?dú)獾澜涌冢?03—?dú)獾澜涌诠潭菟ǎ?01—開(kāi)孔支撐墊，302—多孔物，401—下吸孔，402—吸持面螺孔。
【具體實(shí)施方式】
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[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明:
[0017]圖1為吸盤(pán)整體結(jié)構(gòu)示意圖，包括:吸持面101，吸持面固定螺釘102，上吸孔103，開(kāi)孔支撐墊固定螺栓201，氣道接口 202，氣道接口固定螺栓203，開(kāi)孔支撐墊301，多孔物302，下吸孔401，吸持面螺孔402。吸持面101表面上吸孔103分布區(qū)域高于吸持面101邊緣區(qū)域，可防止磨肩回流堵塞吸盤(pán)，吸持面101由吸持面固定螺釘102與吸盤(pán)側(cè)壁固定。
[0018]圖2為吸盤(pán)側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖，吸持面101，開(kāi)孔支撐墊固定螺栓201，氣道接口 202，氣道接口固定螺栓203 ;氣道接口 202由氣道接口固定螺栓203固定在吸盤(pán)底端。
[0019]圖3為吸盤(pán)剖面結(jié)構(gòu)示意圖，吸持面101，吸持面固定螺釘102，上吸孔103，開(kāi)孔支撐墊固定螺栓201，氣道接口固定螺栓203，開(kāi)孔支撐墊301，多孔物302 ;吸持面101底端為多孔物302，多孔物為多孔透氣物質(zhì)，抽真空時(shí)可使吸孔內(nèi)負(fù)壓分布均衡，上部吸孔103對(duì)晶圓進(jìn)行均勻吸附。此外，磨肩顆?？赏高^(guò)多孔物到達(dá)開(kāi)孔支撐墊301 ;開(kāi)孔支撐墊301用于支撐多孔物302，開(kāi)孔支撐墊301上設(shè)有直徑較大的通孔，一方面可排出磨肩顆粒，另一方面用于抽真空時(shí)的氣道。
[0020]圖4為吸持面剖面結(jié)構(gòu)示意圖，包括:吸持面101，上吸孔103，下吸孔401，吸持面螺孔402 ;上吸孔103的直徑小于下吸孔401直徑，此設(shè)計(jì)一方面可以較好吸附晶圓，另一方面可較好排出吸孔中的磨肩顆粒。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，其特征在于包括:吸持面(101)、吸持面固定螺釘(102)、上吸孔(103)、下吸孔(401)、多孔物(302)、開(kāi)孔支撐墊(301)、開(kāi)孔支撐墊固定螺栓(201)、氣道接口(202)和氣道接口固定螺栓(203);吸持面(101)與吸盤(pán)側(cè)壁通過(guò)吸持面固定螺釘(102)連接；上吸孔(103)位于吸持面上表面，下吸孔(401)位于吸持面下表面；多孔物(302)位于吸持面下方由開(kāi)孔支撐墊支撐，開(kāi)孔支撐墊(301)由開(kāi)孔支撐墊固定螺栓(201)與吸盤(pán)底端固定；開(kāi)孔支撐墊(301)與吸盤(pán)底面形成空腔，吸盤(pán)底部中心區(qū)域設(shè)有氣道接口(202)，氣道接口(202)與吸盤(pán)底部通過(guò)氣道接口固定螺栓(203)固定。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，其特征在于，吸持面(101)與吸盤(pán)側(cè)壁之間有密封墊。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，其特征在于，吸持面(101)上的上吸孔(103)布置區(qū)域高于吸持面邊緣區(qū)域。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，其特征在于，上吸孔(103)直徑小于下吸孔(401)直徑。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)，其特征在于，多孔物(302)為帶孔透氣物質(zhì)。
【專(zhuān)利摘要】一種大尺寸晶圓真空吸盤(pán)涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。其包括：吸持面、吸持面固定螺釘、上吸孔、下吸孔、吸盤(pán)、多孔物、開(kāi)孔支撐墊、開(kāi)孔支撐墊固定螺栓、氣道接口、氣道接口固定螺栓。吸持面與吸盤(pán)通過(guò)可拆卸螺釘連接，吸持面與吸盤(pán)之間有密封墊。上吸孔位于吸持面上表面，下吸孔位于吸持面下表面，上吸孔直徑小于下吸孔。多孔物位于吸持面下方由開(kāi)孔支撐墊支撐，開(kāi)孔支撐墊由開(kāi)孔支撐墊固定螺栓與吸盤(pán)底部固定。開(kāi)孔支撐墊與吸盤(pán)底面形成空腔，吸盤(pán)底部中心區(qū)域設(shè)有氣道接口。本發(fā)明可避免晶圓受力不均勻，防止吸盤(pán)堵塞。
【IPC分類(lèi)】H01L21/683
【公開(kāi)號(hào)】CN104934356
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510420082
【發(fā)明人】秦飛, 孫敬龍, 安彤, 陳沛, 宇慧平, 王仲康, 唐亮
【申請(qǐng)人】北京工業(yè)大學(xué)
【公開(kāi)日】2015年9月23日
【申請(qǐng)日】2015年7月16日