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一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池及制備方法

文檔序號:8300485閱讀:874來源:國知局
一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池及制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于砷化鎵太陽電池結(jié)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池及制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽能光伏發(fā)電是一種清潔的發(fā)電方式,其將太陽光轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔芄┤藗兪褂?,傳統(tǒng)較常使用多晶硅和單晶硅電池,隨著技術(shù)的發(fā)展,三結(jié)砷化鎵太陽電池得到了更廣泛的應(yīng)用,這是因為該太陽電池禁帶較硅為寬,光譜響應(yīng)性和光譜匹配能力較硅好,而且轉(zhuǎn)化效率更高。
[0003]在一些特殊使用場合,比如:航天器在軌飛行期間要經(jīng)歷復(fù)雜惡劣的空間環(huán)境,包括高真空、熱循環(huán)、帶電粒子輻射、原子氧、空間碎片和等離子體環(huán)境等,其中的帶電粒子輻射主要是地球磁場俘獲的各種高能粒子引起的,其通量隨粒子能量和軌道環(huán)境參數(shù)的不同而發(fā)生變化,即常規(guī)所說的范.艾倫帶。上述帶電粒子輻射對太陽電池會產(chǎn)生多種晶體缺陷,造成復(fù)合中心增加,使光生載流子的壽命和擴(kuò)散長度降低,造成太陽電池電學(xué)性能的變差,進(jìn)而降低電池的光電轉(zhuǎn)換效率,直接影響航天器在軌工作的可靠性和使用壽命。航天器上使用的太陽電池表面都覆蓋有玻璃蓋片,該玻璃蓋片可阻擋小于0.3MeV的相對低能粒子,避免其對太陽電池表面的輻照,并能略微降低高能粒子的能量,所以需要注意的輻照主要是大于0.3MeV的高能粒子。
[0004]目前,正向生長的三結(jié)砷化鎵太陽電池是航天器使用的最廣泛的太陽電池,其包括GaInP頂電池,GaInAs中間電池和Ge底電池,不同能量的光子能夠被不同禁帶寬度的子電池吸收,每個子電池都有相應(yīng)的短路電流。通常在頂電池和中間電池電流匹配條件下的轉(zhuǎn)換效率最高。其中中間電池基區(qū)少量的In可以實現(xiàn)中間電池和底電池的晶格匹配。研宄發(fā)現(xiàn)在AMO (當(dāng)太陽輻射強(qiáng)度為太陽能常數(shù)時,大氣質(zhì)量記作ΑΜ0)條件下,GaInAs中間電池比GaInP頂電池的電池性能衰減的快,因此如何提高GaInAs中間電池的抗輻照性能是實際應(yīng)用中需要解決的首要問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)合理、制備工藝簡便、工作終期轉(zhuǎn)化效率降低慢的一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池。
[0006]本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:
[0007]一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池,包括頂電池、中間電池和底電池,其特征在于:頂電池上為接觸層,頂電池和中間電池之間為第一隧穿結(jié),中間電池和底電池之間依次為第二隧穿結(jié)、至少一層分布式布拉格反射器、緩沖層和成核層,底電池下為襯底。
[0008]而且,所述頂電池為GaInP頂電池,中間電池為GaInAs中間電池,底電池為Ge底電池,GaInP頂電池上為GaAs接觸層,GaInP頂電池和GaInAs中間電池之間為第一隧穿結(jié),GaInAs中間電池和Ge底電池之間依次為第二隧穿結(jié)、至少一層分布式布拉格反射器、GaInAs緩沖層和GaInP成核層,Ge底電池下為Ge襯底。
[0009]而且,所述GaInP頂電池、GaInAs中間電池和Ge底電池的禁帶寬度分別為1.90±0.05eV、l.39±0.05eV、0.67eV。
[0010]而且,所述GaInAs中間電池與GaInP頂電池的短路電流密度之差為O?0.5mA/
2
cm ο
[0011 ] 而且,所述GaInP頂電池包含由上至下依次設(shè)置的Al InP窗口層、GaInP發(fā)射區(qū)、GaInP基區(qū)和背場層;
[0012]所述GaInAs中間電池包含由上至下依次設(shè)置的窗口層、GaInAs發(fā)射區(qū)、GaInAs基區(qū)、背場層;
[0013]所述分布式布拉格反射器DBR由η個周期的基本單元組成,每層材料的光學(xué)厚度為中心反射波長的1/4 ;
[0014]所述Ge底電池包含Ge發(fā)射區(qū)、Ge基區(qū);
[0015]η大于5且小于15。
[0016]而且,所述GaInP頂電池和GaInAs中間電池的背場層的材料為AlxGahInP或AlGaAs,所述GaInAs中間電池的窗口層的材料為AlInP或GalnP,所述基本單元的材料為AlAs/GaAs、AlxGahAs/GalnAs、AlxGahAs/AlAs,所述 x 大于 O 且小于 I。
[0017]而且,所述GaInAs中間電池的GaInAs基區(qū)的厚度為1.4?2微米。
[0018]本發(fā)明的另一個目的是提供一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池的制備方法,其特征在于:使用MOCVD法或者M(jìn)BE法依次生長制得成品。
[0019]而且,所述MOCVD法中Ge層的N型摻雜原子為^或P,其余層N型摻雜原子為S1、Se、S或Te,P型摻雜原子為Zn、Mg或C。
[0020]而且,所述MBE法中Ge層的N型摻雜原子為^或P,其余層N型摻雜原子為S1、Se、S、Sn或Te,P型摻雜原子為Be、Mg或C。
[0021 ] 本發(fā)明的優(yōu)點和積極效果是:
[0022]本發(fā)明中,將GaInAs中間電池的GaInAs基區(qū)的厚度調(diào)整為1.4?2微米,GaInAs基區(qū)厚度的降低可以抵消輻照引起的載流子擴(kuò)散長度下降造成的收集問題,提高了抗輻照能力,同時在GaInAs中間電池和Ge底電池之間設(shè)置至少一層分布式布拉格反射器,提高了GaInAs中間電池對應(yīng)光譜在GaInAs中間電池的光通路徑,提高了短路電流密度,在工作終期仍能保持較高的轉(zhuǎn)換效率,本發(fā)明經(jīng)過等效于同步衛(wèi)星在軌15年所受所有高能粒子總輻照的試驗后,轉(zhuǎn)換效率的衰減率僅為傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)太陽電池的二分之一。
【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0024]圖2為本發(fā)明的分布式布拉格反射器在300-1800納米范圍內(nèi)的反射率;
[0025]圖3為傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)太陽電池與本發(fā)明結(jié)構(gòu)太陽電池,在電池工作初期和工作終期內(nèi),電池效率的變化情況。
【具體實施方式】
[0026]下面結(jié)合實施例,對本發(fā)明進(jìn)一步說明,下述實施例是說明性的,不是限定性的,不能以下述實施例來限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0027]一種抗輻照三結(jié)級聯(lián)砷化鎵太陽電池,包括頂電池、中間電池和底電池,本發(fā)明的創(chuàng)新在于:頂電池上為接觸層,頂電池和中間電池之間為第一隧穿結(jié),中間電池和底電池之間依次為第二隧穿結(jié)、至少一層分布式布拉格反射器、緩沖層和成核層,底電池下為襯底。
[0028]本實施例中,所述頂電池為GaInP頂電池,中間電池為GaInAs中間電池,底電池為Ge底電池,GaInP頂電池上為GaAs接觸層,GaInP頂電池和GaInAs中間電池之間為第一隧穿結(jié),GaInAs中間電池和Ge底電池之間依次為第二隧穿結(jié)、至少一層分布式布拉格反射器、GaInAs緩沖層和GaInP成核層,Ge底電池下為Ge襯底。
[0029]其中,所述GaInP頂電池、GaInAs中間電池和Ge底電池的禁帶寬度分別為1.90±0.05eV、l.39±0.05eV、0.67eV。所述GaInAs中間電池與GaInP頂電池的短路電流密度之差為O?0.5mA/cm2。
[0030]所述GaInP頂電池包含由上至下依次設(shè)置的AlInP窗口層、GaInP發(fā)射區(qū)、GaInP基區(qū)和背場層;所述GaInAs中間電池包含由上至下依次設(shè)置的窗口層、GaInAs發(fā)射區(qū)、GaInAs基區(qū)、背場層;所述分布式布拉格反射器DBR是在一定波長范圍內(nèi)形成高反射率的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),由η個周期的基本單元組成,由兩種不同折射率的材料以ABAB的方式交替排列組成的周期結(jié)構(gòu),每層材料的光學(xué)厚度為中心反射波長的1/4 ;所述Ge底電池包含Ge發(fā)射區(qū)、Ge基區(qū);η大于5且小于15。
[0031]所述Ga I ηΡ頂電池和Ga I nA s中間電池的背場層的材料為AI JiGa1 _χ I ηΡ或AI GaA s,所述GaInAs中間電池的窗口層的材料為AlInP或GaInP,所述基本單元的材料為AlAs/GaAs、Al^GahAs/GalnAs、AlxGahAsZAlAs,所述 X 大于 O 且小于 I。
[0032]所述GaInAs中間電池的GaInAs基區(qū)的厚度為1.4?2微米,基區(qū)的摻雜可以是梯度摻雜、輕摻、非摻Q層)。
[0033]由于同步軌道通信衛(wèi)星在軌工作15年,是目前受輻照水平最高的,為表述太陽電池的抗輻照能力,所指的EOL(End of life,工作終期)是太陽電池在同步衛(wèi)星軌道在軌15年時的工作終期,BOL(Beginning of life,工作初期)。
[0034]或者EOL可以用接受lX101Qe/cm2.s瞬時劑量,I X 1015e/cm2累積通量的IMeV電子輻照后的狀態(tài),來等效描述經(jīng)歷空間高能粒子輻照后的狀態(tài)。
[0035]根據(jù)中間電池的禁帶寬度和基區(qū)厚度的不同,調(diào)節(jié)DBR的基本單元的光學(xué)厚度來改變中心反射波長;光的反射率可以通過調(diào)節(jié)DBR基本單元的周期數(shù)實現(xiàn)。
[0036]第一隧穿結(jié)包括兩層,分別是由AlGaAs和GaAs匹配的層結(jié)構(gòu)以及AlGaAs勢皇層,也可以是AlGaAs和GaInP匹配的層結(jié)構(gòu)以及AlGaAs勢皇層。
[0037]第二隧穿結(jié)包括兩層,分別是由AlGaAs和GaAs匹配的層結(jié)構(gòu)以及AlGaAs勢皇層,也可以是AlGaAs和GaInP匹配的層結(jié)構(gòu)以及AlGaAs勢皇層。
[0038]實施例1
[0039]本實施例中使用MOCVD 法(Metal Organic Chemical Vapor Deposit1n,金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀):
[0040]1.采用P型單面拋光Ge襯底,通過擴(kuò)散的方法在Ge襯底上形成η型區(qū)域,與ρ型襯底形成Ge底電池,按照晶格匹配的方法依次生長0.05-0.2 μπι η型GaInP成核層,0.2-1 μ m η型GaInAs緩沖層,多組分布式布拉格反射器(DBR),第二隧穿結(jié),GaInAs中間電池,第一隧穿結(jié),GaInP頂電池,0.2-1 μπι n++ GaAs接觸層。
[0041]2.其中第二隧穿結(jié)包含 0.03 μπι ρ++ AlGaAs 層、0.03um n++GaInP、0.03-0.05 μ mn+AlGaAs 勢皇層。
[0042]3.分布式布拉格反射器(DBR)包含15個周期的0.03-0.1 μπι η+ Al (Ga)As和0.03-0.1ymn+ Ga (In) As。
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