專利名稱：：抗?jié)撓袼プ兊倪h(yuǎn)紫外敏感抗光蝕劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及對(duì)遠(yuǎn)紫外照射敏感的組合物，它包含聚合物粘合劑，該粘合劑不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)中，酸性的不穩(wěn)定有機(jī)化合物，該化合物能抑制粘合劑在堿水中的溶解，但它在與酸接觸時(shí)會(huì)分解，和新穎的感光酸(photoacid)發(fā)生劑，在曝光于光化照射的情況下，該發(fā)生劑能通過化學(xué)作用來放大組合物的感光性。該組合物特別適于用作正像工作抗光蝕劑(positiveworkingphotoresist)，其中曝過光部分由遠(yuǎn)紫外照射所溶解或顯影，并可由經(jīng)過選擇的顯影液予以除去，而未曝過光部分則保持原封不動(dòng)。這樣，組合物的成像曝光和顯影就獲得了符合原始圖像的圖像?；谥氐刘泄獾?線性)酚醛清漆樹脂的照相平版印刷體系的感光性受使光化產(chǎn)品轉(zhuǎn)變的感光劑的量子效率所限制。由于在這些波長范圍內(nèi)，可利用的曝光源的功率是很低的，實(shí)際無法用于遠(yuǎn)紫外工作。在輻射感光體系中通常是借助于“化學(xué)放大”，使其感光性得以顯著提高，這種化學(xué)放大當(dāng)通過由在最初光化學(xué)反應(yīng)中產(chǎn)生的物質(zhì)單獨(dú)地引發(fā)第二催化劑反應(yīng)，由此將量子產(chǎn)率提高到某一數(shù)值之上來獲得的。例如，在U.S.PatNo.3，915，706中披露了在第二反應(yīng)中能光化學(xué)地產(chǎn)生某種強(qiáng)酸，然后分解成酸性不穩(wěn)定基團(tuán)的體系，將其用作正像工作用聚醛。在U.S.Pat.No.4，678，737中披露了輻射感光混合物，該混合物包含例如作為粘合劑的可溶于堿性水溶液介質(zhì)的聚合物，通過光化學(xué)反應(yīng)能形成強(qiáng)酸的化合物，和另一種具有酸可裂解C-O-C鍵及在酸的作用下其在液體顯影劑中溶解度會(huì)增加的化合物。在U.S.Pat.No.3，779，778中揭示了光可溶組合物，在受光化輻射曝光過的區(qū)域內(nèi)，該組合物可很容易地由顯影液所除去。這種組合物含有水不溶性有機(jī)化合物，該化合物含有一種或多種具有下述通式的可酸降解的鍵其中Z可為-OAr，另外和當(dāng)曝光于光化輻射下會(huì)產(chǎn)生酸性環(huán)境的可光解的酸原粒。U.S.PatNo.4，311，782揭示了一種輻射感光混合物，該混合物含有某種酸形成化合物以及具有重復(fù)原羧酸酯基團(tuán)，用于產(chǎn)生浮凸正像的聚合物化合物。U.S.Pat.No.5，037，721揭示了一種正像輻射感光混合物，無論在用紫外線照射和顯影之間的時(shí)間多長或多短，在顯影時(shí)間內(nèi)，該混合物都不發(fā)生變化，且在隨后的顯影操作步驟中顯影層保持具有高的結(jié)構(gòu)分辨率。所述混合物包含某種在光化輻射作用下會(huì)形成酸的化合物，以及特定類型的含有乙縮醛基團(tuán)的單體型酸可裂解的化合物。該專利深入地討論了已經(jīng)使用過的各種酸可裂解物質(zhì)，此處通過引用而歸并在本發(fā)明。然而，無論′721專利還是此處所述的均未提到在顯影前發(fā)生的潛像衰變的問題，這種衰變導(dǎo)致在曝光和曝光后烘焙階段之間的時(shí)間內(nèi)使臨界尺寸(CD)發(fā)生變化。U.S.Pat.No.4，491，628披露了一種遠(yuǎn)紫外感光層組合物，該組合物是由含重復(fù)的酸性不穩(wěn)定側(cè)基的聚合物化合而制成的，此聚合物即聚(對(duì)-叔-丁氧基羰氧基-α-甲基苯乙烯)與陽離子光引發(fā)劑如六氟銻酸三芳基锍化合而制成。所述的這些組合物由于甚至在膜厚度大于2微米的情況下也能給出幾乎垂直壁角度的高分辨率圖像，因而當(dāng)它們應(yīng)用于遠(yuǎn)外紫外線(200-300nm)情況下具有特別的用途和優(yōu)點(diǎn)。潛像衰變?cè)诔上癜雽?dǎo)體的化學(xué)放大體系中是至關(guān)重要的問題。在1991年10月的塑料工程學(xué)會(huì)Mid-Hudson區(qū)的區(qū)域技術(shù)會(huì)議提出的論文中，在題為在正像作用化學(xué)放大層中曝光后延遲的影響分析研究中指出“用于TBSS/PAG層配方，關(guān)鍵的是在曝光后立即進(jìn)行曝光后烘焙物料以獲得可接受的線性寬度控制”。TBSS為聚叔-丁氧基羰氧基苯乙烯砜的縮寫，PAG為光酸發(fā)生劑的縮寫，在此次會(huì)議的另外一篇由Przybilla等著的論文中，在題為t-BOC嵌段羥苯基-甲基-丙烯酸酯在通往1/4微米遠(yuǎn)紫外平版印刷的道路上中指出當(dāng)使用磺酸發(fā)生劑如三苯锍triflate時(shí)在t-BOC體系中觀察每20分鐘間隔的衰變，實(shí)際上并不提高精確劑量(dosetoclear)和影響結(jié)構(gòu)質(zhì)量，但當(dāng)使用配位氟化物的鎓鹽例如六氟化銻作為抗衡離子用作酸發(fā)生劑時(shí)，發(fā)現(xiàn)更多地是依賴于曝光和曝光后烘焙之間的時(shí)間。Nalamasu等著的論文和Przybilla等著的論文通過引用而歸并在本發(fā)明。這種鎓鹽并不完全令人滿意，而且，由于由所述鎓鹽的重金屬離子引起的半導(dǎo)體芯片的硅基材的污染而降低了芯片的電氣性能。同樣，含所述金屬離子的廢蒸氣的處置也是嚴(yán)格控制的，它們的制備也相當(dāng)?shù)貜?fù)雜且費(fèi)用很高。因此，存在著對(duì)于那些新的不同類型的抗光蝕劑組合物的需要其對(duì)光化輻射的敏感性可通過將通常是溶于堿性水溶液介質(zhì)的粘合劑，不含鎓的光酸發(fā)生劑和另外的酸不穩(wěn)定的粘合劑溶解抑制劑相互反應(yīng)而得到化學(xué)放大。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種新的，化學(xué)放大的抗光蝕劑組合物。因而本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種正像工作的抗遠(yuǎn)紫外光敏劑，該抗光敏劑在抗光敏劑的曝光和曝光后烘焙之間的延長保持時(shí)間內(nèi)顯示出良好的CD穩(wěn)定性。本發(fā)明所涉及一個(gè)目的是提供一種CD穩(wěn)定的，遠(yuǎn)紫外光敏抗蝕劑，由此使制備半導(dǎo)體和其類似物的光平版印刷加工的總產(chǎn)率得到改善。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種在基材上含抗光蝕劑層的遠(yuǎn)紫外光敏記錄材料，本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種借助于遠(yuǎn)紫外輻射來制造圖像記錄材料的方法。瓐發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種由借助于抗光蝕劑(光刻膠)組合物的光化輻射來制造圖像記錄材料的方法，通過新的光酸發(fā)生劑可對(duì)光化輻射進(jìn)行化學(xué)放大。本發(fā)明的其它目的可通過下面對(duì)本發(fā)明的說明而變得清楚，通過一種正像抗光蝕劑組合物來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，它含有不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)的酸穩(wěn)定性聚合物;叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯，該碳酸酯是一種酸不穩(wěn)定化合物，它能抑制通?？扇苄跃酆衔镌谒鰤A性介質(zhì)中的溶解;且光酸發(fā)生劑具有下述的通式其中Q為重氮萘醌部分;R為氫或-CH2-OS(＝O)2-Q部分;R1為氫，羥基，或-O-S(＝O)2-Q;R2為氫或低級(jí)烷基;X為氫或硝基，附帶條件為當(dāng)X為硝基時(shí)R2為低級(jí)烷基。記錄材料的合適基材為所有用于電容器，半導(dǎo)體，多層印刷電路板或集成電路的材料。特別地，具有經(jīng)熱氧化過的和/或鋁涂復(fù)的也可以是經(jīng)過摻雜的硅材料的表面的基材，以及其它通常用于半導(dǎo)體技術(shù)的基材如氮化硅，砷化鎵和磷化銦都是適用的，此外，已知的用于制造液晶顯示如玻璃，銦/錫氧化物，金屬板和由鋁，銅或鋅制成的箔，如雙金屬和三金屬箔的基材都是適用的。在制造遠(yuǎn)紫外敏感記錄材料的方法中，可通過噴霧，輥涂，流涂，浸涂或紡(抗光蝕劑)將光刻膠溶液涂施于基材上。然后經(jīng)過柔和的焙烤步驟中除去溶劑，在此焙烤步驟中基材和抗光蝕劑的溫度可升高至高達(dá)140℃約90秒。所制得的膜然后以圖像狀曝光于波長為200-300nm，較好地約240-270nm的光化輻射下。紫外燈發(fā)射的射線在這種波長范圍，以約0.5-60mw/cm2的強(qiáng)度是適宜的。典型的適用于本發(fā)明的曝光系統(tǒng)為，在波長約為254nm時(shí)工作的商標(biāo)為Oriel的接觸型打印機(jī)和商標(biāo)為GCA，在約248nm的激態(tài)原子激光推動(dòng)的遠(yuǎn)紫外分檔器。在膜的輻射照射部分，輻射使光引發(fā)劑釋放出酸，并在酸存在下使酸不穩(wěn)定溶解抑制劑開始分解。在約120℃的溫度下烘焙曝過光的抗光蝕劑(光刻膠)以加快酸不穩(wěn)定抑制劑的分解。若要經(jīng)不改變圖像的臨界尺寸的制造步驟，其中所述的圖像隨后通過用顯影劑處理膜以溶解抗光蝕劑(由在堿介質(zhì)中分解溶解抑制劑而恢復(fù)抗光蝕劑在堿介質(zhì)中的溶解度)而顯現(xiàn)，那么這種烘焙后步驟可推遲約2小時(shí)或甚至更長的時(shí)間。堿性試劑，如堿金屬或銨的硅酸鹽，硅酸鹽，氫氧化物，磷酸氫鹽，磷酸二氫鹽，碳酸鹽和碳酸氫鹽的溶液都適于用作顯影劑。季銨氫氧化物如NMD-3四甲基銨氫氧化物和其類似物也可用作顯影劑。顯影劑水溶液中這些堿的濃度約為溶液重量的0.1%-15%，較好地約為0.5%-5%。酸穩(wěn)定的，水不溶性粘合劑可為聚(對(duì)-羥基苯乙烯)，聚(對(duì)-羥基-α-甲基苯乙烯)，由其中含連接在苯環(huán)上的烷基取代基的名單體或其混合物的同系物制得的聚合物，以便類似于由未取代聚(對(duì)-羥基苯乙烯)所提供的在保持遠(yuǎn)紫外輻射的光學(xué)透明度下，獲得所需的商品顯影劑的溶解度。由所謂的酸穩(wěn)定性想到無酸不穩(wěn)定基團(tuán)如已知的“t-boc”或叔-丁氧基羰氧基的存在。聚合物具有約5000-30，000，較好地約15，00或更小的中等分子量。粘合劑的量通常約為抗光蝕劑固體重量的55%-85%，較好地約為65%-80%。本發(fā)明較好的光酸發(fā)生劑是那些其中R1為-O-S(＝O)2-Q;R2為低級(jí)烷基;和X為硝基。R2較好地為甲基。本發(fā)明PAG′S的例子包括3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚及其2，1，5-同系物的三-(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯。在下文中有時(shí)將2，1，4-和2，1，5-同系物分別稱為NMC三酯。其它例子包括2-硝基芐醇的2，1，4和2，1，5-重氮萘醌磺酸酯。光酸發(fā)生劑的濃度約為抗光蝕劑固體總重量的1%-20%。所述酸產(chǎn)生光引發(fā)劑與酸不穩(wěn)定溶解抑制劑的重量比約為0.1∶1-約1.6∶1，較好地約0.4∶1-約1.1∶1。酸不穩(wěn)定溶解抑制劑可為叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯，它含“t-boc”基。連接有t-boc基的多元酚的具體例子有焦棓酚，間苯二酚，兒茶酚，氫醌，間苯三酚，羥基氫醌，三羥基和四羥基二苯酮，及由下述線性結(jié)構(gòu)式表示的丙酮/焦棓酚的縮合產(chǎn)物C6HX(OH)3-C(CH3)2，其中X為2-約12的六羥螺二茚的稠環(huán)結(jié)構(gòu)。酸不穩(wěn)定溶解抑制劑的濃度約為抗光蝕劑固體總重量的8%-18%。抑制劑可由碳酸二叔丁酯與經(jīng)過選擇的，其量為約10%-100%的羥基由叔-丁氧基羰氧基取代基保護(hù)的多元酚經(jīng)已知過程的堿催化醇解反應(yīng)而制得。近來，等摩爾量酚和碳酸二叔丁酯在催化量18-冠(醚)-6和等摩爾量粉末狀碳酸鉀存在下，在四氫呋喃，乙酸乙酯或二氯甲烷中在0℃至約室溫下的快速，高產(chǎn)率反應(yīng)在Can.J.Chem，63，153，(1985)中由HouLihan等著的題為在醇類，酚類，烯醇類和硫醇類與二碳酸二叔丁酯的叔丁氧基羰基化反應(yīng)中的相轉(zhuǎn)移催化作用的論文中進(jìn)行了描述。在THF中使用小于0.1%的4-N，N-二甲氨基-吡啶作為催化劑也可獲得良好的產(chǎn)率。改善的圖像質(zhì)量可通過在總產(chǎn)物組合物中加入約8%-18%(重量)的固體，所述產(chǎn)物由2-重氮-1-萘醌-4-磺酰氯(2，1，4-DNQ)或其結(jié)構(gòu)同系物2，1，5-DNQ與由甲酚與甲醛縮合而得的酚醛清漆樹脂反應(yīng)而制得。2，1，4-DNQ偶聯(lián)樹脂是較好的。設(shè)想用于本發(fā)明的是利用兩種同系物的偶聯(lián)產(chǎn)物的混合物。較好的酚醛清漆樹脂是由對(duì)-甲酚衍生而得的。為了有助于將抗光蝕劑施于基材上，通常將本發(fā)明的抗光蝕劑混合物溶于溶劑，如乙二醇，及其醚，例如單甲基，單乙基，和二甲基醚;丙二醇單烷基醚;脂族酯例如乳酸乙酯，乙酸羥乙酯，乙酸烷氧乙酯，丙二醇-單甲醚乙酸酯;其它醚例如二噁烷;酮類包括甲乙酮，甲異丁酮，環(huán)戊酮，和環(huán)己酮;二甲基甲酰胺，二甲基乙酰胺，丁內(nèi)酯和四氫呋喃，等及其混合物。乙二醇醚類和脂族酯類，例如乳酸乙酯和丙二醇單甲醚乙酸酯是特別好的。在本發(fā)明的抗光蝕劑中也可加入添加劑，如染料，顏料，增塑劑，潤濕劑，粘合促進(jìn)劑，和流動(dòng)控制劑，來改善特定性能如減少反射效果，感光性，柔韌性等。施于基材的抗光蝕劑溶液中通常的固體含量約為溶液重量的20%-50%，較好地約20%-30%。本發(fā)明將由下述實(shí)施例進(jìn)一步地進(jìn)行詳細(xì)說明。中間體的制備除非另有說明，所有在這些制備方法和工作實(shí)施例中的份數(shù)都是指重量份數(shù)。將碳酸鉀(1.1當(dāng)量)加入溶于焦棓酚(1當(dāng)量)的四氫呋喃溶液中，并攪拌混合物1個(gè)半小時(shí)。然后在室溫下(約20-25℃)加入碳酸二叔丁酯(1.1當(dāng)量)，將此反應(yīng)混合物攪拌過夜(約12小時(shí))。加入等體積的四氫呋喃，將混合物過濾。用冰醋酸中和濾液，然后在真空下濃縮至其體積的1/4。在劇烈攪拌下，將濃縮液倒入過量的水中。形成漿料并過濾，分離出用于實(shí)施例1和2的t-BOC封端的焦棓酚。3，5-二硝基-2，6-二羥甲基-對(duì)-甲酚的制備室溫下，在劇烈攪拌下，在5分鐘內(nèi)，向盛有67.2份(0.4mol)2，6-二羥甲基-對(duì)-甲酚(PMCSpecialtiesGroup，PMC，Inc.辛辛那提)溶于1500份去離子水的容器中加入100份70.7%的硝酸(1.12mol)水溶液。室溫下劇烈攪拌反應(yīng)混合物8小時(shí)，靜置約16小時(shí)后，再攪拌12小時(shí)。然后在真空下用Buchner漏斗過濾混合物。濕濾餅用去離子水洗滌直至濾液的PH約為4-5，然后在室溫下在其空干燥器中干燥，產(chǎn)物為74份，是理論產(chǎn)率的71.2%。NMC三酯的制備通過將4.22份(0.016當(dāng)量)2，1，4-重氮萘醌磺酰氯加入到1.35份(0.0155當(dāng)量)3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚中并將溫度降至0℃來制備3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚的三(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯。然后將1.60份三乙胺溶于70.4份丙二醇單甲醚的溶液加入到混合物中，同時(shí)將溫度保持在0℃-10℃的范圍內(nèi)。在此溫度范圍內(nèi)進(jìn)行酯化反應(yīng)4小時(shí)，在劇烈攪拌下，將反應(yīng)混合物加入去離子水中用鹽酸酸化。從水中沉淀出產(chǎn)物，在Buchner漏斗上通過真空過濾分離，水洗并真空干燥濾餅獲得4.90份(98%)所需產(chǎn)物。產(chǎn)物的C13NMR分析表明，基本上所有的重氮氯化物均已反應(yīng)。甲酚/甲醛樹脂的1-萘磺酸，3-重氮-3，4-二氫-4-氧代-酯的制備將43.3份甲酚/甲醛酚醛清漆樹脂加入到110份四氫呋喃中，并將溶液進(jìn)行過濾。在濾液中加入38.4份上述的2，1，4-DNQ，并以中等速率攪拌反應(yīng)混合物，以能使PH保持在低于6.0，溫度在25-30℃的滴加速率加入19.0份N，N-二乙基-乙醇胺。當(dāng)所有的堿都加入后，允許PH升至7，并保持5分鐘，同時(shí)一次性加入2份濃鹽酸。室溫下混合15分鐘后，在15分鐘內(nèi)，在快速攪拌下，向混合物中加入4升稀鹽酸。過濾所得到的漿料，殘?jiān)萌ルx子水洗滌。濕濾餅在室溫下進(jìn)行真空干燥。所得產(chǎn)物在下面稱為2，1，4-DNQ/(甲酚/甲醛)?？构馕g劑涂布硅片的制備方法將六甲基二硅氮烷作為粘合促進(jìn)劑沉積在4-英寸直徑的硅片上并通過將硅片以2000rpm的速率自旋5秒鐘，然后以5000rpm速率自旋15秒鐘來將其均勻地鋪開。然后每片硅片分別以3000rpm的速率自旋5秒鐘，6000rpm的速率自旋15秒鐘將實(shí)施例1和2的產(chǎn)物均勻地在各硅片上鋪開。在80℃下柔和地烘焙60秒鐘后，涂層的厚度為1.0±0.02微米。然后使用GCA0.40NA分擋器將抗光蝕劑在波長為365nm的光化輻射下進(jìn)行圖像曝光。在90℃下進(jìn)行60秒鐘的曝光后烘焙，分別獲得浮凸結(jié)構(gòu)A和B。在0.6%TMAH中顯影，結(jié)構(gòu)A和B的總清洗速率分別為75.8mJ/cm2，結(jié)構(gòu)A和B的百分膜速率分別為75.8mJ/cm2，及百分膜損失分別為3。在1.2%的TMAH中顯影時(shí)，結(jié)構(gòu)B的總清洗速率為36.2mJ/cm2，膜損失為1%。實(shí)施例1和2組份數(shù)量12聚(羥基苯乙烯)樹脂(Maruzen5000)15.188.72t-BOC封端的焦棓酚3.023.022，1，4－DNQ／(甲酚／甲醛)2.525.04NMC三酯7.2811.21Troykyd3660.050.05乳酸乙酯27.3842.19丙二醇單甲醚乙酸酯44.5829.78</table></tables>實(shí)施例3除了2-硝芐基醇的取代量與2，1，4-重氮萘醌磺酰氯的量相同外，按制備NMC三酯的通常方法來制備2-硝芐基醇的2，1，4-重氮萘醌磺酰酯。實(shí)施例4抗光敏劑組合物含16.12%的酚醛清漆樹脂(間，對(duì)-甲酚/甲醛;mol.wt.5000道爾頓);3.02%的焦棓酚的t-Boc酯(95%酯化)，3.69%的實(shí)施例8的產(chǎn)物，0.05%的Troykyd366膜形成劑，和77.12%的丙二醇單甲醚乙酸酯，將該組合物自旋涂復(fù)在硅片上獲得在干燥時(shí)為1微米厚的膜。然后將經(jīng)涂復(fù)后的硅片在圖案狀遠(yuǎn)紫外光線下照射，曝光后烘焙，并在氫氧化四甲基銨(NMD-3)的水溶液中顯影，獲得具有清晰側(cè)壁輪廓的圖像。在某些情況下，當(dāng)將照射過的抗光蝕劑經(jīng)受六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸汽時(shí)，可將曝光后烘焙推遲3小時(shí)。來觀察到潛影衰變。權(quán)利要求1.一種正像工作的抗光蝕劑組合物，包含不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)的聚合物；一種具有下述結(jié)構(gòu)式的光酸發(fā)生劑其中Q為重氮萘醌部分；R為氫或-CH2-OS(=O)2-Q部分；R1為氫，羥基，或-O-S(=O)2-Q；R2為氫或低級(jí)烷基；和X為氫或硝基，附帶條件為當(dāng)X為硝基時(shí)，R2為低級(jí)烷基；和一種叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯，它是通?？扇苄跃酆衔镌谒鰤A性介質(zhì)中溶解的個(gè)別酸不穩(wěn)定的抑制劑。2.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，R，R1，R2和X為氫。3.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，R為-CH2OS(＝O)2-Q部分;R1為-O-S(＝O)2-Q;R2為低級(jí)烷基;X為硝基，和R3為丁間二烯基，與Q連接而形成的重氮萘醌部分。4.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，光酸發(fā)生劑為3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚的三-(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯。5.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，進(jìn)一步包含甲酚/甲醛聚合物的1-萘磺酸，3-重氮-3，4-二氫-4-氧代酯。6.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，其多元酚為焦棓酚。7.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，其多元酚為丙酮和焦棓酚的縮合產(chǎn)物。8.如權(quán)利要求7所述的組合物，其特征在于，其多元酚為六羥基螺二茚。9.一種輻射敏感性組合物，包含一種具有下述結(jié)構(gòu)式的光酸發(fā)生劑其中Q為重氮萘醌部分;R為氫或-CH2-OS(＝O)2-Q部分;R1為氫，羥基，或-O-S(＝O)2-Q;R2為氫或低級(jí)烷基;和X為氫或硝基，其附帶條件為當(dāng)X為硝基時(shí)，R2為低級(jí)烷基;和叔丁醇和多元酚的酸不穩(wěn)定碳酸酯。10.如權(quán)利要求9所述的組合物，其特征在于，其多元酚為焦棓酚。11.如權(quán)利要求9所述的組合物，其特征在于，其R為-CH2OS(＝O)2-Q部分。12.如權(quán)利要求9所述的組合物，其特征在于，R1為-O-S(＝O)2-Q;R2為低級(jí)烷基;和X為硝基。13.如權(quán)利要求1所述的組合物，其特征在于，其中碳酸酯約為總重量的3%-5%。14.如權(quán)利要求5所述的組合物，其特征在于，其中氧代酯的量約為總重量的3%-5%。15.一種在半導(dǎo)體基材上制得浮凸結(jié)構(gòu)的方法，包括在基材上涂覆正像工作抗光蝕劑組合物，該組合物包含不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)的酸穩(wěn)定性聚合物，一種具有下述結(jié)構(gòu)式的光酸發(fā)生劑其中Q為重氮萘醌部分;R為氫或-CH2-OS(＝O)2-Q部分;R1為氫，羥基，或-O-S(＝O)2-Q;R2為氫或低級(jí)烷基;和X為氫或硝基，其附帶條件為當(dāng)X為硝基時(shí)，R2為低級(jí)烷基;和一種叔丁醇和多元酚的酸不穩(wěn)定碳酸酯;干燥組合物，將圖像在波長約為200-300nm的輻射下進(jìn)行曝光;烘焙曝光后的抗光蝕劑涂層;然后用堿性水溶液顯影劑作用于曝光涂層。16.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，抗光蝕劑組合物含有甲酚/甲醛聚合物的1-萘磺酸，3-重氮-3，4-二氫-4-氧代酯。17.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，烘焙經(jīng)過曝光后的抗光蝕劑可推遲多達(dá)約3小時(shí)。18.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，抗光蝕劑組合物含約3%-5%(重量)的碳酸酯和約3%-5%(重量)的甲酚/甲醛聚合物的氧代酯。19.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，其中的甲酚為對(duì)甲酚。20.一種輻射敏感性記錄材料，包含載體和在載體上的記錄層，所述的記錄層包含不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)的酸穩(wěn)定性聚合物;一種具有下述結(jié)構(gòu)式的光酸發(fā)生劑其中Q為重氮萘醌部分;R為氫或-CH2-OS(＝O)2-Q部分;R1為氫，羥基，或-O-S(＝O)2-Q;R2為氫或低級(jí)烷基;和X為氫或硝基，其附帶條件為當(dāng)X為硝基時(shí)，R2為低級(jí)烷基;和一種叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯。21.如權(quán)利要求20所述的記錄材料，其特征在于，多元酚為焦棓酚。22.如權(quán)利要求20所述的記錄材料，其特征在于，多元酚為丙酮和焦棓酚的縮合產(chǎn)物。23.如權(quán)利要求20所述的記錄材料，其特征在于，其R為-CH2-OS(＝O)2-Q部分。24.如權(quán)利要求20所述的記錄材料，其特征在于，R1為-O-S(＝O)2-Q;R2為低級(jí)烷基;和X為硝基。25.如權(quán)利要求20所述的記錄材料，其特征在于，光酸發(fā)生劑為3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚的三-(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯。全文摘要一種正像工作遠(yuǎn)紫外敏感抗光蝕劑在烘焙前曝光后的持延過程中具有改進(jìn)的臨界尺寸穩(wěn)定性。該抗光蝕劑包含不溶于水但通常溶于堿性水溶液介質(zhì)的酸穩(wěn)定性聚合物，某種光酸發(fā)生劑例如3，5-二硝基-2，6-二羥甲基對(duì)甲酚的三-(2，1，4-重氮萘醌磺酸)酯以及叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯，它為能抑制通?？扇苄跃酆衔镌谒鰤A性介質(zhì)中的溶解的酸不穩(wěn)定化合物。文檔編號(hào)H01L21/027GK1096595SQ9410236公開日1994年12月21日申請(qǐng)日期1994年3月4日優(yōu)先權(quán)日1993年3月5日發(fā)明者R·M·拉扎勒斯,T·A·克斯申請(qǐng)人:莫頓國際股份有限公司