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太陽能電池及其制備方法和光伏組件與流程

文檔序號(hào):40439782發(fā)布日期:2024-12-24 15:14閱讀:16來源:國知局
太陽能電池及其制備方法和光伏組件與流程

本公開實(shí)施例涉及太陽能,特別是涉及一種太陽能電池及其制備方法和光伏組件。


背景技術(shù):

1、太陽電池將太陽能轉(zhuǎn)換為可被直接利用的電能,太陽電池的轉(zhuǎn)化效率決定了太陽能被利用的效率,提升太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率一直是太陽電池研究的重點(diǎn),載流子的寄生吸收是影響太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率的重要因素。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開實(shí)施例提供了一種太陽能電池及其制備方法和光伏組件,可以優(yōu)化太陽能電池的鈍化效果,減低太陽能電池的寄生吸收,提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。

2、一種太陽能電池,包括:

3、基底,包括鄰接的金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

4、第一隧穿層,位于所述基底的第一表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū)和所述非金屬接觸區(qū);

5、第一摻雜層,位于所述第一隧穿層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū)和所述非金屬接觸區(qū),所述第一摻雜層包含碳元素和/或氮元素;

6、第二隧穿層,位于所述第一摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū);

7、第二摻雜層,位于所述第二隧穿層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū);

8、其中,所述第二摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度大于所述第一摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度。

9、在其中一個(gè)實(shí)施例中,太陽能電池還包括:

10、透明導(dǎo)電層,位于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面上,至少覆蓋所述金屬接觸區(qū);

11、第一電極,位于所述透明導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并與所述透明導(dǎo)電層鄰接,所述第一電極在所述基底上的正投影位于所述金屬接觸區(qū)。

12、在其中一個(gè)實(shí)施例中,太陽能電池還包括:

13、界面層,位于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū);

14、其中,所述界面層的相背表面分別與所述第二摻雜層和所述透明導(dǎo)電層鄰接。

15、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一導(dǎo)電類型為n型,所述太陽能電池還包括:

16、本征鈍化層,位于所述基底的第二表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū),所述第二表面與所述第一表面相背設(shè)置;

17、第三摻雜層,位于所述本征鈍化層遠(yuǎn)離所述基底的表面,并覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

18、其中,所述第三摻雜層的材料包括p型微晶硅和/或p型非晶硅。

19、一種太陽能電池的制備方法,包括:

20、提供基底,所述基底包括鄰接的金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

21、于所述基底的第一表面形成第一隧穿層,所述第一隧穿層覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

22、于所述第一隧穿層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成第一摻雜層,所述第一摻雜層包含碳元素和/或氮元素,并覆蓋所述金屬接觸區(qū)和所述非金屬接觸區(qū);

23、于所述第一摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面依次形成第二隧穿層和第二摻雜層,所述第二隧穿層和所述第二摻雜層均覆蓋所述金屬接觸區(qū);

24、其中,所述第二摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度大于所述第一摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度。

25、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述于所述第一摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面依次形成第二隧穿層和第二摻雜層,包括:

26、于所述第一摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面依次形成第二隧穿材料層和第二摻雜材料層,所述第二隧穿材料層和所述第二摻雜材料層均覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

27、對所述金屬接觸區(qū)的所述第二摻雜材料層的表層進(jìn)行激光氧化處理,形成覆蓋所述金屬接觸區(qū)的摻雜氧化層;

28、以所述摻雜氧化層為掩膜,去除所述非金屬接觸區(qū)的所述第二摻雜材料層,形成由所述金屬接觸區(qū)的所述第二摻雜材料層構(gòu)成的所述第二摻雜層;

29、去除非金屬接觸區(qū)的所述第二隧穿材料層,形成由所述金屬接觸區(qū)的所述第二隧穿材料層構(gòu)成的所述第二隧穿層。

30、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述太陽能電池的制備方法還包括:

31、于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面上形成透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層至少覆蓋所述金屬接觸區(qū);

32、于所述透明導(dǎo)電層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成第一電極,所述第一電極與所述透明導(dǎo)電層鄰接,所述第一電極在所述基底上的正投影位于所述金屬接觸區(qū)。

33、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成透明導(dǎo)電層之前,太陽能電池的制備方法還包括:

34、于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成界面層,所述界面層覆蓋所述金屬接觸區(qū);

35、其中,所述界面層的相背表面分別與所述第二摻雜層和所述透明導(dǎo)電層鄰接。

36、在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一導(dǎo)電類型為n型,所述太陽能電池的制備方法還包括:

37、于所述基底的第二表面形成本征鈍化層,所述本征鈍化層覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū),所述第二表面與所述第一表面相背設(shè)置;

38、于所述本征鈍化層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成第三摻雜層,所述第三摻雜層覆蓋所述金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);

39、其中,所述第三摻雜層的材料包括p型微晶硅和/或p型非晶硅。

40、一種光伏組件,包括若干如上述的太陽能電池,和/或包括若干采用上述的太陽能電池的制備方法制成的太陽能電池。

41、上述太陽能電池中,包含碳元素和/或氮元素的第一摻雜層覆蓋金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū),提高了基底第一表面的鈍化效果,增加了光學(xué)帶隙,減少了第一表面的寄生吸收,提高了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。在第一摻雜層上,且摻雜濃度大于第一摻雜層的第二摻雜層覆蓋金屬接觸區(qū),降低了太陽能電池中的串聯(lián)電阻,提高了太陽能電池的性能。

42、上述太陽能電池的制備方法中,在第一表面形成的包含碳元素和/或氮元素的第一摻雜層覆蓋金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū),提高了基底第一表面的鈍化效果,增加了光學(xué)帶隙,減少了第一表面的寄生吸收,提高了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。在第一摻雜層上,且摻雜濃度大于第一摻雜層的第二摻雜層覆蓋金屬接觸區(qū),降低了太陽能電池中的串聯(lián)電阻,提高了太陽能電池的性能。



技術(shù)特征:

1.一種太陽能電池,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池,其特征在于,太陽能電池還包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太陽能電池,其特征在于,太陽能電池還包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池,其特征在于,?所述第一導(dǎo)電類型為n型,所述太陽能電池還包括:

5.一種太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述于所述第一摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面依次形成第二隧穿層和第二摻雜層,包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述太陽能電池的制備方法還包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述于所述第二摻雜層遠(yuǎn)離所述基底的表面形成透明導(dǎo)電層之前,太陽能電池的制備方法還包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述第一導(dǎo)電類型為n型,所述太陽能電池的制備方法還包括:

10.一種光伏組件,其特征在于,包括若干如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的太陽能電池,和/或包括若干采用權(quán)利要求5-9任一項(xiàng)所述的太陽能電池的制備方法制成的太陽能電池。


技術(shù)總結(jié)
本公開實(shí)施例涉及一種太陽能電池及其制備方法和光伏組件。太陽能電池包括:基底,包括鄰接的金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);第一隧穿層位于基底的第一表面,并覆蓋金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū);第一摻雜層位于第一隧穿層遠(yuǎn)離基底的表面,并覆蓋金屬接觸區(qū)和非金屬接觸區(qū),第一摻雜層包含碳元素和/或氮元素;第二隧穿層位于第一摻雜層遠(yuǎn)離基底的表面,并覆蓋金屬接觸區(qū);第二摻雜層位于第二隧穿層遠(yuǎn)離基底的表面,并覆蓋金屬接觸區(qū);其中,第二摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度大于第一摻雜層中第一導(dǎo)電類型的摻雜元素的摻雜濃度。提高了基底第一表面的鈍化效果,減少了第一表面的寄生吸收,提高了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。

技術(shù)研發(fā)人員:余坷,王子港,楊廣濤,陳達(dá)明
受保護(hù)的技術(shù)使用者:天合光能股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
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