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HBC電池的制作方法

文檔序號:40468383發(fā)布日期:2024-12-27 09:33閱讀:14來源:國知局
HBC電池的制作方法

本技術(shù)屬于太陽能,具體涉及一種hbc電池。


背景技術(shù):

1、異質(zhì)結(jié)電池(hjt)具有開路電壓(voc)高、填充因子(ff)高的優(yōu)勢,但電流低是效率繼續(xù)提升的障礙,主要原因在于:1、正面透明導電薄膜(tco)對光的吸收;2、正面非晶硅薄膜對光的吸收;3、正面柵線的遮光損失。未來異質(zhì)結(jié)電池的發(fā)展一定是朝著低電流的方向。

2、背接觸電池(ibc)是一種將正、背面電極全部集成在電池背面的電池技術(shù),具體正面無遮光的特性,電流高是其顯著優(yōu)勢。

3、hjt+ibc疊加技術(shù)是未來hjt技術(shù)發(fā)展的重點方向,稱之為hjt-ibc電池,又稱hbc電池。鈍化性能是電池光電轉(zhuǎn)換效率的一個重要性能,現(xiàn)有技術(shù)中的hbc的表面復合會影響鈍化性能,從而降低了電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

4、因此,針對上述技術(shù)問題,有必要提供一種hbc電池。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本實用新型的目的在于提供一種hbc電池,以提升光電轉(zhuǎn)換效率。

2、為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型一實施例提供的技術(shù)方案如下:

3、一種hbc電池,所述hbc電池包括:

4、硅片,包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述第二表面包括第一區(qū)域、第二區(qū)域及隔離區(qū),所述隔離區(qū)位于第一區(qū)域和第二區(qū)域之間,所述第一區(qū)域的面積為第二表面面積的70%~95%;

5、異質(zhì)結(jié)構(gòu),包括層疊于第一區(qū)域上的第一鈍化層及第一摻雜層;

6、第一電極結(jié)構(gòu),位于異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的第一摻雜層上;

7、第一鈍化結(jié)構(gòu),包括層疊于第二區(qū)域上的第二鈍化層及第二摻雜層;

8、第二電極結(jié)構(gòu),位于第一鈍化結(jié)構(gòu)中的第二摻雜層上;

9、第二鈍化結(jié)構(gòu),位于硅片的第一表面上;

10、隔離結(jié)構(gòu),包括位于隔離區(qū)上的隔離槽,所述隔離槽的底部延伸至硅片的第二表面或第二表面下方。

11、一實施例中,所述第一區(qū)域的面積為第二表面面積的80%~85%。

12、一實施例中,所述隔離槽的深度為0.1μm~6μm,寬度為20μm~100μm;和/或,

13、所述隔離槽內(nèi)的全部或部分區(qū)域形成有絕緣層。

14、一實施例中,所述第二鈍化結(jié)構(gòu)包括層疊于第一表面上的第三鈍化層及減反層,其中,所述第三鈍化層為本征非晶硅層,所述減反層包括tco層、sinx層、sinxoy層中的一種或多種的組合。

15、一實施例中,所述第二鈍化結(jié)構(gòu)還包括位于第三鈍化層和減反層之間的第三摻雜層,所述第三摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相同。

16、一實施例中,所述第三摻雜層為非晶硅層或微晶硅層;和/或,

17、所述第三摻雜層的厚度為15nm~30nm;和/或,

18、所述第三摻雜層的摻雜濃度為1e17cm-3~1e22cm-3。

19、一實施例中,所述第一表面為金字塔結(jié)構(gòu)絨面或拋光面;和/或,

20、所述第一區(qū)域為金字塔結(jié)構(gòu)絨面或拋光面;和/或,

21、所述第二區(qū)域為金字塔結(jié)構(gòu)絨面或拋光面。

22、一實施例中,所述第一電極結(jié)構(gòu)包括位于第一摻雜層上的第一tco層及與第一tco層電接觸的第一電極;和/或,

23、所述第二電極結(jié)構(gòu)包括位于第二摻雜層上的第二tco層及與第二tco層電接觸的第二電極。

24、一實施例中,所述第一鈍化層為本征非晶硅層;和/或,

25、所述第二鈍化層為本征非晶硅層;和/或,

26、所述第一鈍化層的厚度為5nm~10nm;和/或,

27、所述第二鈍化層的厚度為5nm~10nm。

28、一實施例中,所述硅片為摻雜硅片,所述第一摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相反,所述第二摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相同;和/或,

29、所述第一摻雜層為非晶硅層或微晶硅層;和/或,

30、所述第二摻雜層為非晶硅層或微晶硅層;和/或,

31、所述第一摻雜層的厚度為20nm~40nm;和/或,

32、所述第二摻雜層的厚度為15nm~30nm;和/或,

33、所述第一摻雜層的摻雜濃度為1e17cm-3~1e20cm-3;和/或,

34、所述第二摻雜層的摻雜濃度為1e17cm-3~1e22cm-3。

35、本實用新型具有以下有益效果:

36、本實用新型的hbc電池疊加了hjt電池和ibc電池的優(yōu)勢,正面和背面均采用鈍化結(jié)構(gòu)降低表面復合率,鈍化效果好,能夠顯著提升光電轉(zhuǎn)換效率。



技術(shù)特征:

1.一種hbc電池,其特征在于,所述hbc電池包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述第一區(qū)域的面積為第二表面面積的80%~85%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述隔離槽的深度為0.1μm~6μm,寬度為20μm~100μm;和/或,

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述第二鈍化結(jié)構(gòu)包括層疊于第一表面上的第三鈍化層及減反層,其中,所述第三鈍化層為本征非晶硅層,所述減反層包括tco層、sinx層、sinxoy層中的一種或多種的組合。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的hbc電池,其特征在于,所述第二鈍化結(jié)構(gòu)還包括位于第三鈍化層和減反層之間的第三摻雜層,所述第三摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的hbc電池,其特征在于,所述第三摻雜層為非晶硅層或微晶硅層;和/或,

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述第一表面為金字塔結(jié)構(gòu)絨面或拋光面;和/或,

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述第一電極結(jié)構(gòu)包括位于第一摻雜層上的第一tco層及與第一tco層電接觸的第一電極;和/或,

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述第一鈍化層為本征非晶硅層;和/或,

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的hbc電池,其特征在于,所述硅片為摻雜硅片,所述第一摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相反,所述第二摻雜層的摻雜類型與硅片的摻雜類型相同;和/或,


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)揭示了一種HBC電池,所述HBC電池包括:硅片,包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,第二表面包括第一區(qū)域、第二區(qū)域及隔離區(qū),隔離區(qū)位于第一區(qū)域和第二區(qū)域之間,第一區(qū)域的面積為第二表面面積的70%~95%;異質(zhì)結(jié)構(gòu),包括層疊于第一區(qū)域上的第一鈍化層及第一摻雜層;第一電極結(jié)構(gòu),位于異質(zhì)結(jié)構(gòu)中的第一摻雜層上;第一鈍化結(jié)構(gòu),包括層疊于第二區(qū)域上的第二鈍化層及第二摻雜層;第二電極結(jié)構(gòu),位于第一鈍化結(jié)構(gòu)中的第二摻雜層上;第二鈍化結(jié)構(gòu),位于硅片的第一表面上;隔離結(jié)構(gòu),包括位于隔離區(qū)上的隔離槽。本技術(shù)的HBC電池疊加了HJT電池和IBC電池的優(yōu)勢,正面和背面均采用鈍化結(jié)構(gòu)降低表面復合率,鈍化效果好,能夠顯著提升光電轉(zhuǎn)換效率。

技術(shù)研發(fā)人員:李碩,張強,吳堅
受保護的技術(shù)使用者:嘉興阿特斯技術(shù)研究院有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20231214
技術(shù)公布日:2024/12/26
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