1.一種輻射結構，其特征在于，所述輻射結構(100)包括：介質基板(1)、第一貼片陣列(2)和第二貼片陣列(3)；
2.根據(jù)權利要求1所述的輻射結構，其特征在于，相鄰的兩個所述第一偶極子(201)之間設有第一縫隙(202)，相鄰的兩個所述第二偶極子(301)之間設有第二縫隙(302)；
3.根據(jù)權利要求2所述的輻射結構，其特征在于，所述第一縫隙(202)的中點和所述第二縫隙(302)的中點在平行于所述介質基板(1)的投影面內重合，所述第一縫隙(202)和所述第二縫隙(302)呈十字形布置。
4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的輻射結構，其特征在于，
5.根據(jù)權利要求4所述的輻射結構，其特征在于，所述第一寄生導體(4)的中點和所述第二寄生導體(5)的中點在平行于所述介質基板(1)的投影面內重合，所述第一寄生導體(4)和所述第二寄生導體(5)呈十字形布置。
6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的輻射結構，其特征在于，
7.根據(jù)權利要求6所述的輻射結構，其特征在于，
8.根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的輻射結構，其特征在于，所述介質基板(1)采用柔性材料制成。
9.一種天線裝置，其特征在于，所述天線裝置包括：權利要求1至8中任一項所述的輻射結構(100)，以及金屬地板(200)；所述金屬地板(200)與所述介質基板(1)平行間隔布置。
10.根據(jù)權利要求9所述的天線裝置，其特征在于，所述天線裝置還包括頻率選擇層(300)，所述頻率選擇層(300)位于所述輻射結構(100)與所述金屬地板(200)之間，所述頻率選擇層(300)用于吸收目標頻段的電磁波，以消除帶寬范圍內的輻射零點。
11.根據(jù)權利要求10所述的天線裝置，其特征在于，所述頻率選擇層(300)包括吸收部(6)和導體部(7)，所述吸收部(6)為方環(huán)形，所述導體部(7)位于所述吸收部(6)圍成的方形區(qū)域內。
12.根據(jù)權利要求10或11所述的天線裝置，其特征在于，所述天線裝置還包括第一巴倫結構(400)和第二巴倫結構(500)；
13.根據(jù)權利要求12所述的天線裝置，其特征在于，所述頻率選擇層(300)設有沿所述第一方向的第一避讓槽(8)和沿所述第二方向的第二避讓槽(9)，所述第一避讓槽(8)用于避讓所述第一巴倫結構(400)，所述第二避讓槽(9)用于避讓所述第二巴倫結構(500)。
14.根據(jù)權利要求12所述的天線裝置，其特征在于，
15.根據(jù)權利要求9至14中任一項所述的天線裝置，其特征在于，所述天線裝置還包括介質覆蓋層(600)，所述介質覆蓋層(600)位于所述介質基板(1)的一側，且與所述金屬地板(200)的所在側相對，所述介質覆蓋層(600)用于改善所述輻射結構(100)與自由空間的阻抗匹配。
16.一種電子設備，其特征在于，所述電子設備采用權利要求1至8中任一項所述的輻射結構(100)，或權利要求9至15中任一項所述的天線裝置。