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一種處理單晶返工片的方法與流程

文檔序號:11679716閱讀:1123來源:國知局

本發(fā)明屬于太陽能電池制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是指一種處理單晶返工片的方法。



背景技術(shù):

隨著化石能源的不斷減少和環(huán)境污染的不斷加劇,新能源的研發(fā)與推廣使用得到高度關(guān)注。其中,太陽能作為新能源之一,其豐富、潔凈等優(yōu)點(diǎn)使其最可能成為新能源的主導(dǎo)。目前,在眾多種類的太陽能電池中,晶硅太陽能電池已經(jīng)成為主導(dǎo),提高電池的轉(zhuǎn)換效率和降低成本是我們研究的熱點(diǎn)。

目前產(chǎn)業(yè)化的晶硅太陽能電池片的制造工藝包括制絨、擴(kuò)散、刻蝕、去psg、pecvd、絲網(wǎng)印刷、燒結(jié)、分類檢測。在晶硅太陽能電池的生產(chǎn)工藝中,制絨工序使硅片表面織構(gòu)化形成隨機(jī)分布的金字塔結(jié)構(gòu)的絨面或者類似于半球狀的凹陷等不同表面形狀,是有效地降低表面反射率的方法之一,提高太陽能電池表面的光吸收,達(dá)到提高其轉(zhuǎn)換效率的目的。在制絨工序中,經(jīng)常會出現(xiàn)碎片率高、色斑、花籃印等異常現(xiàn)象,影響生產(chǎn)效率,降低轉(zhuǎn)換效率甚至導(dǎo)致降級或報(bào)廢,增加生產(chǎn)成本。本發(fā)明中采用一種晶硅制絨后色斑片的返工處理方法,有效地降低因色斑片引起的降級或報(bào)廢的數(shù)量,降低了生產(chǎn)成本。

其中清洗制絨工序返工片類型主要包括:油污片、手印片、白斑片、局部泛白片、雨點(diǎn)片、水痕印片。擴(kuò)散工序返工片類型包括:高方阻片、低方阻片、燒焦片、臟片??涛g工序返工片類型包括:過刻片、臟片。pecvd工序返工片類型包括:彩虹片、膜過厚片、膜過薄片。上述返工片的出現(xiàn),若不做返工處理,它不僅影響物理冶金法單晶太陽能電池片的外觀還會影響轉(zhuǎn)換效率。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種處理單晶返工片的方法,能夠減少電池片生產(chǎn)過程中返工片數(shù)量,提高返工片的轉(zhuǎn)換效率及成品率。

本發(fā)明所述的一種處理單晶返工片的方法,包括以下步驟,

(1)將返工片分選出來,置于不通源的擴(kuò)散爐中,進(jìn)行高溫處理,溫度為1000±1℃高溫處理時(shí)間為15~20min;

(2)將高溫處理后的返工片放入去離子水中在常溫下進(jìn)行超聲波清洗或堿洗處理,超聲波清洗的頻率是20-50khz,功率是1800w,清洗時(shí)間2~10min;

(3)當(dāng)制絨槽內(nèi)的溶液為剛失效的溶液時(shí),先將制絨槽內(nèi)的溶液排掉1/3,然后注入等量純水稀釋溶液,然后在溶液內(nèi)補(bǔ)加添加劑、naoh和異丙醇,控制每升稀釋后的溶液加入1.25ml添加劑,6.3gnaoh,8ml異丙醇;最后將步驟(2)得到的返工片在上述制絨槽內(nèi)進(jìn)行清洗制絨工序即可;

(4)將制絨后的返工片進(jìn)行噴淋,然后置于氫氟酸和鹽酸的混合溶液中進(jìn)行酸洗處理,并依次進(jìn)行漂洗,甩干處理。

進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟(3)中的添加劑采用單晶硅片制絨輔助劑。

進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟(4)中的酸洗采用的是氫氟酸、鹽酸和水的混合液,其中氫氟酸的體積分?jǐn)?shù)為10~25%,鹽酸的體積分?jǐn)?shù)為5~50%,水的體積分?jǐn)?shù)為30%-80%,時(shí)間為5-10min。

本發(fā)明的有益效果在于:

本發(fā)明是通過采用本發(fā)明提供的處理制絨后返工片的返工處理的技術(shù)方案,去除硅片表面殘留的頑固的有機(jī)物等引起的色斑,從而獲得表面干凈、絨面均勻的制絨硅片,提高返工片的轉(zhuǎn)換效率,減少因制絨后產(chǎn)生色斑而降級或報(bào)廢的硅片數(shù)量,有效地降低生產(chǎn)成本。返工硅片表面油污、白斑、手印等臟污經(jīng)過清洗后完全洗凈,降低硅片的報(bào)廢比例達(dá)到50%以上,減少了由于物理冶金法返工硅片所需的化學(xué)品的使用量20%左右,從而減少了生產(chǎn)成本,大大提高了廢物利用率。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

本發(fā)明所述的一種處理單晶返工片的方法,包括以下步驟,

(1)將返工片分選出來,置于不通源的擴(kuò)散爐中,進(jìn)行高溫處理,溫度為1000±1℃高溫處理時(shí)間為15~20min;

(2)將高溫處理后的返工片放入去離子水中在常溫下進(jìn)行超聲波清洗或堿洗處理,超聲波清洗的頻率是20-50khz,功率是1800w,清洗時(shí)間2~10min;

(3)當(dāng)制絨槽內(nèi)的溶液為剛失效的溶液時(shí),先將制絨槽內(nèi)的溶液排掉1/3,然后注入等量純水稀釋溶液,然后在溶液內(nèi)補(bǔ)加添加劑、naoh和異丙醇,控制每升稀釋后的溶液加入1.25ml添加劑,6.3gnaoh,8ml異丙醇;最后將步驟(2)得到的返工片在上述制絨槽內(nèi)進(jìn)行清洗制絨工序即可;

(4)將制絨后的返工片進(jìn)行噴淋,然后置于氫氟酸和鹽酸的混合溶液中進(jìn)行酸洗處理,并依次進(jìn)行漂洗,甩干處理。

優(yōu)選地,所述步驟(3)中的添加劑采用單晶硅片制絨輔助劑。

優(yōu)選地,所述步驟(4)中的酸洗采用的是氫氟酸、鹽酸和水的混合液,其中氫氟酸的體積分?jǐn)?shù)為10~25%,鹽酸的體積分?jǐn)?shù)為5~50%,水的體積分?jǐn)?shù)為30%-80%,時(shí)間為5-10min。

本發(fā)明提供了一種處理單晶返工片的方法,以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方法,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以作出若干改進(jìn),這些改進(jìn)也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種處理單晶返工片的方法,包括以下步驟,(1)將返工片分選出來,置于不通源的擴(kuò)散爐中,進(jìn)行高溫處理;(2)將高溫處理后的返工片放入去離子水中在常溫下進(jìn)行超聲波清洗或堿洗處理;(3)最后將步驟(2)得到的返工片在上述制絨槽內(nèi)進(jìn)行清洗制絨工序即可;(4)將制絨后的返工片進(jìn)行噴淋,然后置于氫氟酸和鹽酸的混合溶液中進(jìn)行酸洗處理,并依次進(jìn)行漂洗,甩干處理。本發(fā)明能夠減少電池片生產(chǎn)過程中返工片數(shù)量,提高返工片的轉(zhuǎn)換效率及成品率。

技術(shù)研發(fā)人員:蔣建寶
受保護(hù)的技術(shù)使用者:無錫賽晶太陽能有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.29
技術(shù)公布日:2017.07.25
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