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SiC晶片的加工方法與流程

文檔序號(hào):12837973閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
提供SiC晶片的加工方法,能夠減少磨削磨具的磨損量。一種SiC晶片的加工方法,包含如下工序:剝離面形成工序,對(duì)晶片照射對(duì)于SiC具有透過(guò)性的波長(zhǎng)的激光光線從而在與器件區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域形成剝離面;器件形成工序,在第1面的器件區(qū)域形成由交叉的多條分割預(yù)定線劃分的多個(gè)器件;以及環(huán)狀槽形成工序,在對(duì)應(yīng)于器件區(qū)域與外周剩余區(qū)域之間的邊界部的部分從第2面?zhèn)刃纬森h(huán)狀槽;以及薄化工序,以剝離面為界面將位于環(huán)狀槽的內(nèi)側(cè)的部分從晶片剝離,從而使器件區(qū)域薄化,并且形成環(huán)狀加強(qiáng)部。

技術(shù)研發(fā)人員:鈴木克彥
受保護(hù)的技術(shù)使用者:株式會(huì)社迪思科
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.17
技術(shù)公布日:2017.10.31
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