本發(fā)明涉及光電轉(zhuǎn)換元件及光電轉(zhuǎn)換元件的制造方法。本申請基于2015年1月20日在日本提出申請的特愿2015－008497號而主張優(yōu)先權(quán)，在此引用其內(nèi)容。
背景技術(shù)：
：作為綠色能源的發(fā)電裝置，硅系太陽能電池、色素敏化型太陽能電池等光電轉(zhuǎn)換元件正受到矚目。近年來，為了使用工廠之外的大型設施的屋頂或閑置空地等，對大輸出的太陽能電池的需求增大，正在推進太陽能電池大型化的研究。作為太陽能電池大型化的課題之一，由于構(gòu)成電極的導電膜的電阻值較高，故而即使將模塊的面積增大而使發(fā)電量增大，集電效率變差，依然具有輸出難以增大的問題。因此，以往，為了提高大型太陽能電池的集電效率，開發(fā)有在導電膜上配置網(wǎng)眼狀的低電阻的導通材料的構(gòu)成。在這樣的色素敏化太陽能電池中，網(wǎng)眼狀的金屬層與包含碘等電解質(zhì)的電解液直接接觸的情況下，會發(fā)生由電解液導致的網(wǎng)眼金屬層的腐蝕、及產(chǎn)生從網(wǎng)眼金屬層向電解液的逆電子反應，在耐久性能、發(fā)電效率的觀點上具有問題。因此，以往的色素敏化太陽能電池(專利文獻1)例如在透明基材上形成透明電極層，在透明電極層上形成網(wǎng)眼狀的第一金屬層，進而在第一金屬層上，作為保護層而設有耐腐蝕性比用于第一金屬層的金屬高的第二金屬層。另外，專利文獻2的色素敏化太陽能電池在透明基材上形成透明電極層，在透明電極層上形成網(wǎng)眼狀的金屬層，進而在金屬層上設有樹脂制的保護層。如上述那樣的具有網(wǎng)眼狀的金屬層的色素敏化太陽能電池與其之外的色素敏化太陽能電池同樣，以往，在透明導電膜上印刷包含氧化鈦或氧化鋅等氧化物微粒子的膏，之后進行燒固而形成了半導體多孔質(zhì)膜。專利文獻1：(日本)特開2011－192631號公報專利文獻2：(日本)特開2010－267557號公報但是，若在具有網(wǎng)眼狀的金屬層的透明導電膜上通過印刷法及燒固而形成半導體多孔質(zhì)膜，則在形成于網(wǎng)眼金屬層的保護層上也形成了導體多孔質(zhì)膜。即，以往的具有網(wǎng)眼狀的金屬層的色素敏化太陽能電池由于在保護層上形成半導體多孔質(zhì)膜，故而具有透明導電膜與對光相對導電膜的電極間距離(間隙)變大，發(fā)電效率下降的問題。另外，在向保護層上的半導體多孔質(zhì)膜照射有光的情況下，不能將在半導體多孔質(zhì)膜產(chǎn)生的電子在金屬層或透明導電膜上取出，成為向電解液的逆電子反應，因此，具有發(fā)電效率下降的問題。另外，在為了使集電效率提高而形成了細孔的網(wǎng)眼狀的金屬層的情況下，具有避開金屬層而僅在電極上形成半導體多孔質(zhì)膜是極其困難的問題。技術(shù)實現(xiàn)要素：因此，本發(fā)明提供一種制造容易性及集電效率及發(fā)電效率佳的光電轉(zhuǎn)換元件及光電轉(zhuǎn)換元件的制造方法。本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換元件具有第一電極和第二電極，所述第一電極具有第一基板、在該第一基板上成膜的導電膜、在所述導電膜的表面與所述導電膜可導通地配置且表面被保護膜覆蓋的導通材料、在所述導電膜上成膜的半導體多孔質(zhì)膜，所述第二電極具有第二基板、和在該第二基板上成膜的相對導電膜，所述第一電極和所述第二電極以所述導電膜和所述相對導電膜相對的方式配置。優(yōu)選的是，在所述保護膜的表面未形成所述半導體多孔質(zhì)膜。在此，“在所述保護膜的表面未形成所述半導體多孔質(zhì)膜”是指，在所述保護膜的至少與所述相對導電膜相對的部分的表面未形成半導體多孔質(zhì)膜。根據(jù)該構(gòu)成，由于在保護膜的表面未形成半導體多孔質(zhì)膜，故而第一電極與第二基電極間的電極間距離變短，發(fā)電效率良好，而且不易引發(fā)逆電子反應。本發(fā)明的所述導通材料也可以配置成條紋狀或網(wǎng)狀。根據(jù)該構(gòu)成，容易提高集電效率。本發(fā)明的所述保護膜優(yōu)選為絕緣性部件。本發(fā)明的所述保護膜也可以由具有彈性的部件形成。根據(jù)該構(gòu)成，在通過氣溶膠沉積法形成半導體多孔質(zhì)膜的情況下，能夠防止在保護膜上形成半導體多孔質(zhì)膜。本發(fā)明的表面被所述保護膜覆蓋的所述導通材料的高度可以比所述半導體多孔質(zhì)膜的厚度大。根據(jù)該構(gòu)成，保護膜能夠起到在半導體多孔質(zhì)膜與相對導電膜之間形成空間的間隔件的作用。本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換元件的制造方法具有：第一工序，在形成有導電膜的第一基板的所述導電膜的表面配設導通材料，利用保護膜覆蓋該導通材料的表面；第二工序，通過氣溶膠沉積法對所述導電膜的表面吹附含有半導體粒子的氣溶膠，由此，在所述導電膜表面的不存在所述保護膜的區(qū)域形成所述半導體多孔質(zhì)膜根據(jù)該構(gòu)成，通過將被保護膜覆蓋的導通材料細細地配置，即使導電膜露出的孔口形成得細，也不在保護膜的表面形成半導體多孔質(zhì)膜，能夠僅在導電膜表面的露出區(qū)域有效地形成半導體多孔質(zhì)膜。本發(fā)明的所述導通材料也可以配置成條紋狀或網(wǎng)狀。根據(jù)該構(gòu)成，能夠細細地配置導通材料。本發(fā)明起到能夠使制造容易性及集電效率及發(fā)電效率提高的效果。附圖說明圖1是示意地表示本發(fā)明一實施方式的光電轉(zhuǎn)換元件的剖面圖；圖2是表示本發(fā)明一實施方式的光電轉(zhuǎn)換元件的第一電極的平面圖；圖3是圖2的放大圖。標記說明1：太陽能電池(光電轉(zhuǎn)換元件)2：第一基板3：導電膜4：保護膜5：導通材料6：半導體多孔質(zhì)膜7：第一電極8：第二基板9：相對導電膜10：第二電極具體實施方式以下，以光電轉(zhuǎn)換元件為色素敏化太陽能電池的情況為例，參照附圖對本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換元件的實施方式進行說明。如圖1所示，本實施方式的色素敏化太陽能電池(光電轉(zhuǎn)換元件)(以下稱為“太陽能電池”)1具有第一電極7和第二電極10，第一電極7具有第一基板2、在第一基板2的表面2a成膜的導電膜3、在該導電膜3的表面3a配置且表面被保護膜4覆蓋的導通材料5、在導電膜3的表面成膜的半導體多孔質(zhì)膜(以下稱為“多孔質(zhì)膜”)，第二電極10具有第二基板8、在第二基板8的表面8a成膜的相對導電膜9。而且，使導電膜3和相對導電膜9相對，使用密封材料11將第一電極7和第二電極10粘接，將未圖示的電解液封入內(nèi)部空間s中。第一基板2及第二基板8分別為成為導電膜3及相對導電膜9的基臺的部件，例如可以由聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)等透明的熱可塑性樹脂材料形成，或者可以為玻璃基板等。第一基板2及第二基板8的至少一方由透明的基材形成。另外，第一基板2及第二基板8也可以形成薄膜狀。導電膜3在第一基板2的大致整個表面2a成膜。導電膜3的材料例如使用氧化銦錫(ito)、摻氟氧化錫(fto)、摻鋁氧化鋅(azo)、摻銻氧化錫(ato)、摻銦氧化鋅(izo)、摻鎵氧化鋅(gzo)等。如圖3所示，導通材料5為在縱、橫及/或斜向上配置的網(wǎng)狀(也稱為網(wǎng)眼狀)的金屬材，如圖1所示地貼附在導電膜3的表面3a。如圖1、圖3所示地，在導通材料5的表面覆蓋有保護膜4。導通材料5的截面形狀在圖1中為四邊形，但不限于此，也可以為半圓形或三角形等。另外，被保護膜4覆蓋的狀態(tài)的導通材料5的截面形狀在圖1中為四邊形，但不限于此，也可以為半圓形或三角形等。導通材料5由金、銀、銅、鋁、鎂、不銹鋼、鉻、鈦、鉑、鎳、鉻等電阻比透明導電膜3低的低電阻的線狀金屬材料形成。導通材料5既可以僅由單一金屬形成，也可以由兩種以上的金屬的合金或兩種以上的金屬的層積形成。從集電效率、電極間距離的觀點來看，導通材料5的厚度設定在0.1μm～100μm的范圍，但優(yōu)選設定在1μm～50μm的范圍。從集電效率、開口率(導電膜的整個面積中被導通材料占據(jù)的區(qū)域以外的區(qū)域的面積的比例)的觀點來看，未被保護膜4覆蓋的狀態(tài)的導通材料5的線寬設定在0.01mm～5mm的范圍，但優(yōu)選設定在0.05mm～2mm的范圍。如圖1所示，保護膜4設置在導通材料5和導電膜3接觸的部分以外的導通材料5的整個表面。即，導通材料5和導電膜3直接相接，保護膜4不覆蓋在導通材料5與導電膜3接觸的部分。由此，導通材料5成為可與導電膜3導通的狀態(tài)。保護膜4能夠使用環(huán)氧類樹脂、丙烯酸類樹脂、烯烴類樹脂、聚氨酯類樹脂、其他具有彈性的絕緣材料。保護膜4的厚度設定在0.1μm～1000μm的范圍，但優(yōu)選設定在1μm～500μm的范圍，更優(yōu)選設定在2μm～50μm的范圍。從集電效率、開口率的觀點來看，保護膜4的線寬(保護膜4的寬度)設定在0.02mm～15mm的范圍，但優(yōu)選設置在0.1mm～6mm的范圍。在任一范圍的情況下，保護膜4將導通材料5和導電膜3接觸的部分以外的導通材料5在其高度(厚度)及寬度方向上大致完全地覆蓋。保護膜4的線寬設定在導通材料的寬度方向上的長度的0.1～10倍的范圍，但優(yōu)選設定在0.5～5倍的范圍，更優(yōu)選設定在2～3倍的范圍。保護膜4在第一電極7不被多孔質(zhì)膜6覆蓋，而是在多孔質(zhì)膜6的表面6a側(cè)露出。換言之，在保護膜4的表面未形成多孔質(zhì)膜6。在多孔質(zhì)膜6產(chǎn)生的電子以短距離在透明導電膜3上通過且到達導通材料5的電子為了提高集電效率，包含導通材料5的保護膜4、4彼此之間的尺寸能夠設定在0.01mm～50mm的范圍，優(yōu)選設定在0.1mm～10mm的范圍?；蛘?，由導通材料5及保護膜4圍繞的導電膜3的面積可設定在0.0001mm2～2500mm2的范圍，優(yōu)選設定在0.1mm2～100mm2的范圍。通過在上述范圍內(nèi)將多孔質(zhì)膜6形成在保護膜4之間，保護膜4可起到間隙件(即電極間距離的保持件)的作用。另外，在第一基板2及第二基板8由具有可撓性的膜材料形成的情況下，即使在第一基板2及第二基板8彎折的情況下，也不易產(chǎn)生短路。多孔質(zhì)膜6具有從后述的增感色素接受電子并輸送的功能，通過由金屬氧化物構(gòu)成的半導體而形成在設有被保護膜4覆蓋的導通材料5的部分以外的導電膜3的整個表面3a。作為金屬氧化物，例如使用氧化鈦(tio2)、氧化鋅(zno)、氧化錫(sno2)等。多孔質(zhì)膜6優(yōu)選形成為被保護膜4覆蓋的導通材料5的高度(厚度)以下的厚度。通過這樣的構(gòu)成，被保護膜4覆蓋的導通材料5本身也能夠起到間隔件(即確保間隙)的作用。多孔質(zhì)膜6擔載增感色素。增感色素由有機色素或金屬絡合物色素構(gòu)成。作為有機色素，可以使用例如香豆素類、多烯類、菁類、半菁類、噻吩類等各種有機色素。作為金屬配位化合物色素，可以列舉例如：順-二硫氰酸基雙(2,2’-聯(lián)吡啶基-4,4’-二甲酸)釕(ii)、該順-二硫氰酸基雙(2,2’-聯(lián)吡啶基-4,4’-二甲酸)釕(ii)的二(四丁基銨)鹽(以下稱為n719)等。適合使用釕絡合物等。多孔質(zhì)膜6中的增感色素的吸附量優(yōu)選為1×10-9mol/cm2以上且1×10-5mol/cm2以下，更優(yōu)選為5×10-9mol/cm2以上且5×10-6mol/cm2以下。若多孔質(zhì)膜6中的色素化合物的吸附量小于1×10-8mol/cm2，則會導致光電轉(zhuǎn)換效率的下降。另一方面，若多孔質(zhì)膜6中的增感色素的吸附量超過1×10-6mol/cm2，則會導致開放電壓降低這樣的不良情況。這樣，在第一基板2的一表面2a形成導電膜3，在導電膜3的表面3a設置被保護膜4覆蓋的導通材料5及多孔質(zhì)膜6而構(gòu)成第一電極7。相對導電膜9在第二基板8的大致整個表面8a成膜。相對導電膜9的材料例如使用鉑或碳電極、導電性聚合物電極等具有相對于電解液中的氧化還原對的催化劑作用、和導電性的材料。另外，在相對導電膜9與基板8之間可以設有金屬層或透明導電膜等導電層，以提高導電性。第一基板2及第二基板8中至少任一方由透明的基材及透明導電膜形成即可，但形成有多孔質(zhì)膜6的導電膜3優(yōu)選由透明的基材及透明導電膜形成。第一電極7和第二電極10通過密封材料11而粘接。作為密封材料11，可使用熱熔性樹脂或熱固化性樹脂、uv固化性樹脂等。密封材料11沿著導電膜3的外周及與其相對的相對導電膜9的外周框狀地配置，在將未圖示的電解液填充到第一電極7與第二電極10之間的狀態(tài)下將內(nèi)部空間s密封。另外，未圖示的端子與導通材料5連接。電解液是包含在色素敏化太陽能電池中產(chǎn)生用于使電流流動的氧化還原反應的氧化還原對的溶液。作為這樣的氧化還原電對，可以列舉例如：碘與二甲基丙基碘化咪唑碘化鋰等碘化物鹽的組合(碘離子(i-)/碘三負離子(i3-))，溴與二甲基丙基溴化咪唑溴化鋰等溴化物鹽的組合(溴離子(br-)/溴三負離子(br3-)等。作為電解液的溶劑，可以列舉例如：乙腈、丙腈、γ-丁內(nèi)酯等非水系溶劑、乙基甲基咪唑四氰基硼酸鹽、乙基甲基咪唑二氰胺鹽等離子液體。另外，也可以通過聚丙烯腈等膠凝劑將電解液20凝膠化。另外，為了防止逆電子移動反應，電解液也可以包含叔丁基吡啶等添加材料。在第一電極7與第二電極10之間也可以配置用于在多孔質(zhì)膜6與相對導電膜9之間形成間隙的間隔件或隔膜。接著，對太陽能電池1的制造方法進行說明。本發(fā)明的太陽能電池1的制造方法具有：(i)在形成于第一基板2的表面2a的導電膜3的表面3a配置導通材料5，由保護膜4覆蓋導通材料5的表面的第一工序；(ii)利用氣溶膠沉積法對表面2a吹附包含半導體粒子的氣溶膠，由此在不存在保護膜4的區(qū)域形成多孔質(zhì)膜6的第二工序。而且，在第二工序之后，通過密封材料11使第一電極7和第二電極10貼合，在內(nèi)部空間s填充未圖示的電解液而形成為太陽能電池1。以下，對各工序進行說明。(i)第一工序在第一工序中，如圖1所示，在第一基板2的導電膜3的表面3a配置導通材料5，利用保護膜4覆蓋導通材料5的表面。導通材料5使金屬粒子分散在溶劑中而形成膏狀或油墨狀，如圖1、圖3所示地在第一基板2的導電膜3的表面3a上通過絲網(wǎng)印刷、凹版印刷等印刷法形成的方法、由濺射、蒸鍍法形成的方法、或者將預先形成為網(wǎng)眼狀等的金屬部件貼附在導電膜3的表面的方法等而配置。保護膜4通過印刷法等將樹脂設置在導通材料5(參照圖1)的表面，如圖2、圖3所示地覆蓋導通材料5。(ii)第二工序在第二工序中，通過氣溶膠沉積法，對配置有由保護膜4覆蓋的導通材料5的導電膜3的表面3a的表面吹附半導體粒子，由此在不存在保護膜4的區(qū)域形成多孔質(zhì)膜6。氣溶膠沉積法是指，將如下氣溶膠向基材吹附并附著，從而以比沖擊固化現(xiàn)象低的溫度條件和比沖擊固化現(xiàn)象高的成膜速度成膜的方法，所述氣溶膠將通過氣體使微粒子的粉體、特別是納米級的粉體在配管內(nèi)移送，并使粉體分散在氣體中而構(gòu)成。半導體微粒子的平均一次粒子徑只要能夠在基材表面形成多孔質(zhì)體，并且在保護膜4的至少與相對導電膜9相對的部分的表面不形成多孔質(zhì)膜6，則不作特別限制，但優(yōu)選為1nm～1000nm的范圍，更優(yōu)選為10mm～500nm的范圍。多孔質(zhì)粒子的密度不作特別限制，但優(yōu)選為3.0～5.0g/cm3，更優(yōu)選為3.5～4.5g/cm3。若為上述范圍的密度，則能夠容易地得到多孔度高的多孔質(zhì)膜6。所述微粒子的粉體可以將平均一次粒子徑不同的2種以上的粉體混合而構(gòu)成。為了得到更加致密的膜，所述微粒子的粉體也可以在基于氣溶膠沉積法的成膜前進行在溶劑中的分散處理或干燥工序而構(gòu)成。另外，所述微粒子的粉體為了強化所述粒子彼此的結(jié)合，也可以在基于氣溶膠沉積法的成膜前進行在溶劑中的分散處理或干燥工序。成膜時的外界氣體溫度、基材溫度雖未特別限制，但優(yōu)選為基材的耐熱溫度以下。例如在基材使用pet、pen等基材的情況下，優(yōu)選與外界氣體溫度、基材溫度一同為室溫～100℃以下。粒子(氣溶膠)向?qū)щ娔?的吹附速度只要為在導電膜3的表面3a能夠形成多孔質(zhì)體且在保護膜4上不形成多孔質(zhì)膜6的條件，則沒有特別限制，但作為這樣的速度范圍，例如可設定為1～1000m/sec。此時，由于保護膜4具有彈性，故而通過氣溶膠沉積法吹附的粒子不附著在保護膜4上，因此，在保護膜4上不形成多孔質(zhì)膜6。在形成了多孔質(zhì)膜6之后，使多孔質(zhì)膜6浸漬在溶劑中溶劑有增感色素的增感色素溶液中，在多孔質(zhì)膜6上擔載增感色素。另外，使多孔質(zhì)膜6擔載增感色素的方法不限于上述，也可采用一邊使多孔質(zhì)膜6在增感色素溶液中移動一邊將多孔質(zhì)膜6連續(xù)地投入、浸漬、拉起的方法等。如上，可得到圖2、圖3所示的第一電極7。如圖1所示，第二電極10在由聚對苯二甲酸乙二醇酯(pet)等構(gòu)成的第二基板8的一表面8a可采用鉑或碳電極、導電性聚合物電極等具有相對于電解液中的氧化還原對的催化劑作用、導電性的材料。這些材料的成膜可由濺射或真空蒸鍍法、或者旋涂法等涂敷方法形成。另外，在相對導電膜9與基板8之間也可以設有金屬層或透明導電膜等導電層，以提高導電性。之后，通過密封材料11使第一電極7和第二電極10貼合，在內(nèi)部空間s填充未圖示的電解液而形成為太陽能電池(光電轉(zhuǎn)換元件)1。由于具有以上的構(gòu)成，光電轉(zhuǎn)換元件1配置盡可能細孔的導通材料5，并且在保護膜4上不形成多孔質(zhì)膜6，在導電膜3的表面3a能夠形成多孔質(zhì)膜6。因此，光電轉(zhuǎn)換元件1能夠盡可能地提高集電效率，并且防止逆電子反應及氧化還原反應的降低，能夠提高發(fā)電效率。另外，本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換元件1的制造方法由于采用了在保護膜4使用了具有彈性的部件的基礎上，通過氣溶膠沉積法形成多孔質(zhì)膜6的方法，故而能夠盡量避免在保護膜4上形成多孔質(zhì)膜6。因此，本發(fā)明的光電轉(zhuǎn)換元件1的制造方法即使將導通材料5的間距盡可能減小，換言之即使將形成多孔質(zhì)膜6的孔設定得較細，也不在保護膜4的表面形成多孔質(zhì)膜6，能夠在導電膜3的表面3a容易地形成多孔質(zhì)膜6。另外，本發(fā)明在上述實施方式中使用將保護膜4覆蓋的導通材料5形成格子狀的例子進行了說明，但不限于此。具體地，光電轉(zhuǎn)換元件1的保護膜4及導通材料5除了條紋狀之外，還可以將被導通材料5及保護膜4圍繞的區(qū)域形成點狀或多邊形而配置。主要是，以集電效率提高的方式在導電膜3上以一定間隔形成導通材料5的話，可以以任意方式配置。實施例1以下，根據(jù)實施例對本發(fā)明進行詳細地說明，但本發(fā)明不由以下的記載限定。(第一電極7的形成)作為形成有透明導電膜3的第一基板2，準備有在第一基板2的板面形成有ito的表面電阻為15ω/□的pen薄膜。作為導通材料5，使用絲網(wǎng)印刷法在ito膜上形成銀電極(膜厚5μm、線寬100μm)的網(wǎng)眼圖案，在120℃下進行了10分鐘的燒固。此時，各個網(wǎng)眼的開口尺寸(メッシュ1マスの寸法)設定為1100μm×1100μm。(保護膜4的形成)在第一電極7上，使用絲網(wǎng)印刷法，使用丙烯酸制的uv固化樹脂形成保護膜4(膜厚10μm、線寬20μm)的網(wǎng)眼圖案，并且照射3000mj/cm2的uv。此時，各個網(wǎng)眼的開口尺寸設定為1000μm×1000μm，網(wǎng)眼狀的銀電極被保護膜4覆蓋。(多孔質(zhì)膜6的形成)使用氣溶膠沉積法在形成有網(wǎng)眼狀的銀電極的ito膜上吹附氧化鈦粒子并形成半導體多孔質(zhì)膜6。此時，作為ad法的成膜條件，作為搬送氣體使用氮氣，并且將氣體流量設為1l/min，將溫度設為25℃，將成膜室內(nèi)的壓力設為100pa。此時，作為氧化鈦粒子，使用將平均粒子徑約為20nm及約為200nm的銳鈦礦型tio2粒子以重量比50：50的比例混合的混合粉體。(第二電極10的形成)通過在厚度為50μm的鈦箔上濺射鉑而形成了第二電極10。之后，在第二電極10形成了電解液注入用的φ1mm左右的孔。(含有氧化還原對的電解液的調(diào)制液)作為氧化還原電對，制備了含有0.05m碘和1.0m1,3-二甲基-2-丙基碘化咪唑的γ-丁內(nèi)酯溶液。使如上制作的第一電極7和第二電極10相對，將內(nèi)部空間殘留而配置密封材料，通過熱處理而使密封材料11硬化。之后，從事前在對極形成的注入孔注入電解液，然后，通過使密封材料11熱固化而將注入孔堵塞，制成色素敏化太陽能電池。(色素敏化型太陽能電池的發(fā)電性能的評價)使用太陽能模擬器測定光強度100mw/cm2的模擬太陽光照射下的光電轉(zhuǎn)換效率，由此評價色素敏化型太陽能電池1的發(fā)電性能。結(jié)果表示在表1中。實施例2在第一電極7的形成中，除了將銀電極的線寬變更為1000μm，將各個網(wǎng)眼的開口尺寸變更為6000μm×6000μm且在保護膜4的形成中將保護膜4的線寬變更為3000μm，將各個網(wǎng)眼的開口尺寸變更為4000μm×4000μm之外，與上述實施例1同樣地制作并進行了評價。[比較例1]在多孔質(zhì)膜6的形成中，除了將含有平均粒子徑20nm的氧化鈦粒子的氧化鈦膏印刷在導電膜3上之后，在150℃下使其干燥之外，與上述實施例1同樣地制作并進行了評價。[表1]導通材料的線寬保護膜的線寬向保護膜上形成多孔質(zhì)膜發(fā)電效率實施例1100μm200μm未形成2.5％實施例21000μm3000μm未形成2.1％比較例1100μm200μm形成1.8％(評價結(jié)果)如表1所示，實施例1、2的色素敏化太陽能電池1的發(fā)電效率提高到2％以上，比較例1的色素敏化太陽能電池的發(fā)電效率比實施例1、2低。由以上可知，在保護膜4上未形成多孔質(zhì)膜6的情況下，與在保護膜4上形成有多孔質(zhì)膜6的情況相比，發(fā)電效率提高。當前第1頁12