1.一種單晶圓旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置，用于收集蝕刻單晶圓的流體，其特征在于，包含：
轉(zhuǎn)盤(pán)，固定及旋轉(zhuǎn)單晶圓；
至少一個(gè)回收盤(pán)，固設(shè)于該轉(zhuǎn)盤(pán)的外緣，用以收集該單晶圓旋轉(zhuǎn)時(shí)甩出的該流體；
至少一個(gè)蓋盤(pán)，對(duì)應(yīng)并蓋設(shè)于該回收盤(pán)上，用以導(dǎo)引該流體流至該回收盤(pán)中；
至少一個(gè)升降組，該升降組包括對(duì)稱的兩個(gè)升降單元，該升降組連設(shè)于該蓋盤(pán)，用以相對(duì)于該轉(zhuǎn)盤(pán)及該回收盤(pán)而上下作動(dòng)該蓋盤(pán)。
2.如權(quán)利要求1所述的流體收集裝置，其特征在于，該蓋盤(pán)為環(huán)狀且中央部具有徑向開(kāi)口。
3.如權(quán)利要求2所述的流體收集裝置，其特征在于，該徑向開(kāi)口與該轉(zhuǎn)盤(pán)的外周距離為1～10mm。
4.如權(quán)利要求3所述的流體收集裝置，其特征在于，該徑向開(kāi)口與該轉(zhuǎn)盤(pán)的外周距離為3～5mm。
5.如權(quán)利要求1所述的流體收集裝置，其特征在于，該回收盤(pán)為環(huán)狀。
6.如權(quán)利要求1所述的流體收集裝置，其特征在于，該蓋盤(pán)還具有導(dǎo)引頂壁及導(dǎo)引側(cè)壁，該導(dǎo)引頂壁為朝外方傾斜的環(huán)狀頂面，該導(dǎo)引側(cè)壁為該蓋盤(pán)的側(cè)面，該導(dǎo)引側(cè)壁的一部分與該回收盤(pán)的側(cè)壁的一部分相互重迭。
7.如權(quán)利要求1所述的流體收集裝置，其特征在于，該回收盤(pán)與該蓋盤(pán)的數(shù)目相等。
8.如權(quán)利要求1所述的流體收集裝置，其特征在于，該回收盤(pán)連接回收管，用以排出該流體。